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ASML高端DUV光刻机可以出口:还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题,现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
ASML高端DUV光刻机可以出口:支持7nm; ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调,新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
切定义的信息,公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机,属于193nm(光源)光刻机......
公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。” 此前,荷兰方面在3月8日表示,计划对技术出口实施新的管制。信中......
切定义的信息,公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机,属于193nm(光源)光刻机......
近日表示一直以来都遵守所适用的法律条例,公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。 根据之前的报道,荷兰出口新规于 9 月 1 日后生效,届时 ASML 将不得不向政府申请出口许可证才能出口先进的浸润式 DUV......
新的出口管制条例主要针对先进的芯片制造技术,包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 据悉,这些规定将于2023年9月1日正式生效。因此,光刻机巨头ASML可以在此日期之前开始提交出口许可证申请,而荷......
年前(2006年),ASML第一台支持芯片量产的浸润式光刻系统上市。到本季,达成出货1000台ArF浸润式光刻系统的里程碑。 ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示:“我们......
DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。 荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向提供许可证所附条件的细节。 ......
新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 作为全球光刻技术的领导者,成立于1984年,目前在16个国家和地区超过60个城市设有办公室,员工超过3.5万人。 如今,ASML占据......
系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。 具体来说,出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等浸......
荷兰政府的这项法令,ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(下称DUV)。ASML方面强调,荷兰政府新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻......
巨头阿斯麦(ASML)需要向荷兰政府申请出口许可证,才能发运最先进的浸润式DUV系统,即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将......
兼CEO彼得·温宁克(Peter Wennink)表示,这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收,以及在第二季度开始浸润式设备快速发货带来的收入确认。“事实上,我们销售的浸没式光刻......
器的成本。 由于光学系统特性,DRAM层图案很难用光学曝光图案,纳米压印可实现更精细的图案,且成本是浸润式光刻的20%,成为较佳的解决方案。但纳米压印并不能在存储器生产所有阶段取代传统光刻,两者......
:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di,此次荷兰政府部分撤销出口许可证的两种型号光刻机,为其继NXT:2000i之后推出的两种最新的浸润式光刻机。 2023年3月......
计划在2023年推出光源使用化合物“氟化氩(ArF)”、并支持3DIC的“ArF浸润式光刻机”的新产品,可以适应3D堆叠结构器件如3D NAND芯片、图像传感器制造需求。并希望将到2025年将ArF光刻机......
、TWINSCAN NXT:2050i。 阿斯麦3月曾表示,预计2000i和2050i这两款产品会受到荷兰政府的出口限制。再对比阿斯麦今天的回应来看,TWINSCAN NXT:1980Di这款浸润式DUV光刻机......
ASML:支持7nm高端DUV光刻机仍可出口; 近日,在其官网发表声明称,该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统)时,将需......
二季度订单额为45亿欧元,市场预计为39.8亿欧元。预计第三季度净销售额为65亿欧元至70亿欧元,市场预测为65.1亿欧元。 之前,ASML在其官网发表声明称,该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即......
体现在以下几个方面: (1)深紫外光 (DUV)光刻 ASML推出最新浸润式光刻系统 TWINSCAN NXT:2000i,具备多项硬件技术创新,让客户得以在 7 奈米和 5 奈米......
荷兰芯片出口管制新规生效,光刻机巨头ASML发声;9月1日早上,荷兰光刻机巨头ASML在一份声明中称,该公司已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻......
需要比以往更先进的扫描仪校正和补偿功能。 据介绍,NSR-S636E是一款用于关键层的浸润式光刻机。尼康声称,它较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形,并实现了高重叠精度(MMO ≤ 2.1 nm)。NSR......
造需求。 尼康披露旗下首款半导体后端工艺用光刻机 而尼康依旧想在ArF浸润式和ArF干法领域有所收获。据悉,尼康计划在2026财年之前陆续推出三款半导体光刻机,进一步通过增加氟化氩(ArF)干式、氟化......
总裁兼首席执行官Peter Wennink表示:“我们Q2净销售额为69亿欧元,处于预测营收区间的高位;毛利率为51.3%,超出预期目标。这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收,以及在Q2开始浸润式......
新增产能而非继续增加产能。从业务划分来看,2024年EUV业务将出现增长;而非EUV部分会小幅下滑,主要因为浸润式光刻机的销售预计将少于2023年。 业界表示,近年,存储芯片DRAM的制程进入了10nm级别,而且......
Wennink)指出: 「积极的产业环境为2017 年提供了一个的强劲开始,我们预估这样健康的市场需求将持续今年一整年。我们看到客户对于DUV 的强烈需求。由于有些客户选购效能升级方案来优化他们现有的浸润式......
储产业的量产应用,并将协助三个DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。 DUV(深紫外光)光刻业务方面,TWINSCAN NXT:2000i浸润式光刻系统在客户端达到单日曝光6300片晶......
DUV系统(下称DUV)。ASML方面强调,荷兰政府新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。 值得一提的是,3月28日......
,ASML在另一份声明中称,其已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请,荷兰政府也已颁发了截至9月1日所需的许可证,允许该公司2023年继续发运相关光刻......
尔与台积电等三巨头坚信先进工艺研发在经济上的必要性而对ASML予以援手,EUV研发很有可能半途而废。沈波表示,从浸润式光刻机到EUV,ASML等厂商与半导体制造业主要客户一步一个脚印,突破原有技术限制,不断为半导体制造技术工艺向前发展取得进展,三巨......
首席商务官法国人Christophe Fouquet届时将担任公司下一任总裁兼首席执行官,该任命须经4月24日的年度股东大会批准,迁址这个事情可能会由他来决定。 ASML面临的挑战 2007年,ASML发布全球首个193nm的浸润式......
颁布的有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例正式生效。这些新的出口管制条例主要针对的对象为先进的芯片制造技术,包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML公司当时就曾表示,尽管出口限制从9月开始生效,但该......
所能达到的1.8nm更先进,这可能会要了ASML的命。 其实ASML称霸光刻机市场也不过是自2008年开始,此前光刻机市场的两强是日本的佳能和尼康,ASML通过与台积电研发浸润式光刻机,共同......
台的一系列半导体出口措施保持一致。 外媒消息称,在具体的执行层面,即是禁止向中国出售DUV浸润式光刻机,其先进程度比EUV光刻机落后一代,是制造7nm以上制程芯片的必备硬件。 据了解,在半......
光刻机巨头ASML 2024年第二季净销售额62亿欧元;国际电子商情17日讯 荷兰半导体设备供应商ASML发布2024年第二季度财报。 财报显示,2024年第二季度,ASML实现净销售额62亿欧......
发展先进半导体所需的技术和设备,都会被加入到禁售清单中,其中就包括DUV浸润式光刻机。 DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型,193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次......
预测营收区间的高位;毛利率为51.3%,超出预期目标。这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收。”   “目前,来自不同细分市场的客户均因宏观经济环境的不确定性而更加谨慎,因此预计相关市场的复苏也将滞后,且复......
没钱了?三星清空ASML公司所有股份!; 近日韩媒消息,韩国半导体巨头电子披露的审计报告显示,去年第四季度已抛售所持有荷兰光刻机制造巨头  公司剩余的 158 万股股份(0.4% 股权......
辑芯片市场,2024年将出现小幅下滑,因为今年将主要消化2023年的新增产能而非继续增加产能。从业务划分来看,2024年EUV业务将出现增长;而非EUV部分会小幅下滑,主要因为浸润式光刻机......
交付了第一套TWINSCAN NXT:2100i系统。此最新的浸润式光刻机台提高了20%以上的套刻精度**(on-product overlay)。一些客户已在先进节点上应用12波长优化(Alignment......
! ASML财报显示2023年ASML卖出了53台EUV光刻机,125台浸润式DUV光刻机,32台普通干式DUV光刻机,184台KrF光刻机,55台L-line光刻机,所有类型的光刻机合计449光刻机......
足日益增长的先进存储需求。而逻辑芯片市场,2024年将出现小幅下滑,因为今年将主要消化2023年的新增产能而非继续增加产能。从业务划分来看,2024年EUV业务将出现增长;而非EUV部分会小幅下滑,主要因为浸润式光刻机......
主流多采用193 纳米浸润式微影技术,但从65 纳米制程到现在一路突破物理极限至目前10 纳米,面临的不只是物理上的瓶颈,愈来愈复杂的图形造成曝光次数增加,光罩成本也跟着倍增。摩尔定律价格不变,积体......
技术,从而绕过了这一新兴技术。 要做到这一点,需要应用美光专有的先进多重曝光技术和浸润式光刻技术,以最高精度在微小尺寸上形成图案。这种......
英特尔完成全球首台ASML High NA EUV光刻机组装!; 业内消息,近日表示其已成为第一家完成组装荷兰的新型“High NA”(高数值孔径)EUV(极紫外)光刻设备的公司,目前......
进时已来不及。 第二次ASML大幅成长的机会则是2015年,水介质浸润式曝光设备发展到极限,接下来研究方向以波长13.5纳米的极紫外光EUV光刻设备为主。这时英特尔领头,成立组织EUV LLC......
出口管制新规有何影响? 根据今年9月1日正式生效的荷兰半导体出口管制新规,ASML TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统需要向荷兰政府申请出口许可证才能出口。但目......
光刻机订单。ASML预计2024年第三季度的净销售额在67亿至73亿欧元之间,毛利率介于50%到51%。 CEO声明及展望 ASML总裁......
半年公司已导入多款高分辨KrF、ArF光刻胶(含干式和浸润式)和BARC底部抗反射涂层等产品在客户端验证,并陆续通过客户产品认证,其中ArF光刻胶已开始形成销售。 在溶剂领域,彤程新材借由高纯试剂的生产能力,实现半导体暨显示光刻......

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