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清华大学科研团队新成果:有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
频、窄带宽的相干辐射,波长可覆盖从太赫兹到极紫外(EUV)波段,有望为光子科学研究提供广阔的新机遇。《自然》评阅人对该研究高度评价,认为“展示了一种新的方法论”,“必将......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
机。
据悉,DUV光刻使用193纳米波长,而EUV光刻使用13.5纳米波长,波长改善有助于绘制更精细的电路,从而可以在相同的表面积中存储更多的数据。使用EUV工艺制造的芯片尺寸虽小但功能强大,处理......
半导体“粮草”先行,国产光刻胶走到哪一步了?(2023-04-11)
目前最前沿的EUV光刻胶(<13.5nm波长)。通常来讲,波长越短加工分辨率越佳,能制造的芯片工艺越先进,技术难度也越高。
其中, g线、 i线光刻胶分别适用于436nm、365nm的波长......
ASML发布2020年财报:净利润达36亿欧元(2021-01-21)
量测速度和准确度,可以满足3纳米制程的要求。与以前的系统相比,主要的增强功能包括更快的工作台和更快的波长切换,这可以实现高精度的套准测量和使用多个波长的设备匹配。
ASML预计,下一代EUV光刻......
EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?(2021-01-29)
高额的价格并不是它最大的问题。
EUV最大的问题是电能消耗。其电能消耗是传统193nm光刻机的10倍,因为极紫外光的波长仅有13.5nm,投射到晶圆表面曝光的强度只有光进入EUV设备光路系统前的2......
台积电CEO秘访ASML,High-NA EUV光刻机竞赛提前打响?(2024-05-30)
-NA光刻机?
从早期的深紫外光刻机(DUV)起步,到后来的极紫外光刻机(EUV)以其独特的极紫外光源和更短的波长,再到如今的高数值孔径光刻机(High-NA)正式登上舞台,为制造更小、更精......
ASML首席技术官:明年交付首台High-NA EUV光刻机(2022-09-28)
ASML首席技术官:明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道,ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前......
EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗?(2017-02-06)
。几十年来,光刻机厂商们就是这么做的:他们将晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减小波长,直到光谱上的紫外线端。
但是,EUV 技术是非常困难的。在使用波长......
韩国本土半导体厂商开发石墨烯技术,提高生产良率(2022-12-16)
下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。
另外,光罩保护膜也是一种需要定期更换的消耗品,而由于EUV光刻设备的光源波长较短,因此护膜需要较薄厚度来增加透光率。
之前,硅已......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?(2023-10-11)
光刻等于是经过历史层层筛选,最终胜出的技术,并从紫外光刻技术(UV)、深紫外光刻技术(DUV)和极紫外光刻技术(EUV)不断向前延伸,其波长也从436nm、365nm、248nm,不断向193nm、13.5nm不断延伸。除了......
韩国半导体厂商周星工程研发 ALD 新技术,降低 EUV 工艺步骤需求(2024-07-16)
研发出原子层沉积(ALD)技术,可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻(EUV)工艺步骤需求。
极紫外光刻(EUV)又称作超紫外线平版印刷术,是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前用于 7 纳米......
极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业的标准界限(2024-08-02)
和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线,因为它们的波长极短,大多数会被材料吸收。因此,EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴,从而......
光源技术突破,EUV量产指日可待(2017-03-09)
光源技术突破,EUV量产指日可待;
来源:内容来自eettaiwan,谢谢。
在日前于美国举行的西部光电展(Photonics West)上,业界多家厂商探讨了极紫外光(EUV)微影......
制程升级压力,三大DRAM厂商EUV竞争白热化?(2022-05-27)
制程生产以及最先进的极紫外光(EUV)设备。
公开资料显示,EUV制程采用波长为10-14nm的极紫外光作为光源的光刻,相较于将蚀刻液喷洒在半导体表面,利用蚀刻液与半导体基底化学反应的DUV......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢?公开图纸,我们也造不出来?(2022-11-28)
紫外光的光刻装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。
EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。
但问题是EUV光刻......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
-90nm。由于光波衍射的缘故,光刻电路是一个弥散的光斑,其特征尺寸大约是光波长的一半,更小特征尺寸的光刻电路意味着更高的光刻分辨率。为了得到更高的分辨率,目前主流光刻技术的发展局限于在光学衍射极限范围内不断缩短所用光源的波长......
台湾大停电,这事得EUV光刻机背锅!(2017-08-16)
,部分制程将首度导入极紫外光(EUV)微影制程,这是半导体产业期待已久的“救世主”技术。
目前半导体制程的主流光源是氩氟雷射,波长为 193 纳米,当晶体管尺度已微缩到几十纳米时,就像......
韩企开发石墨烯EUV光罩护膜,瞄准台积电/三星/英特尔等潜在客户(2022-12-16)
护膜是一种需要定期更换的消耗品,而由于EUV微影曝光设备的光源波长较短,因此护膜需要较薄厚度来增加透光率。之前,硅已被用于制造光罩护膜,但石墨烯会是一种更好的材料,因为石墨烯制造的光罩护膜比硅更薄、更透......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头,两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
进时已来不及。
第二次ASML大幅成长的机会则是2015年,水介质浸润式曝光设备发展到极限,接下来研究方向以波长13.5纳米的极紫外光EUV光刻设备为主。这时英特尔领头,成立组织EUV LLC......
极紫外光刻新技术问世,能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本(2024-08-05 09:20)
和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线,因为它们的波长极短,大多数会被材料吸收。因此,EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴,从而......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
全球唯一量产EUV光刻机的厂商,包括台积电、三星、英特尔的先进制程都要依赖EUV光刻机来生产。现阶段,每台光刻机的单价将近1.5亿美元。不过,ASML的EUV光刻机目前出货的是使用光源波长在13.5nm......
推广应用这些重大技术装备!工信部发布(2024-09-19)
代则248nm的KrF激光,第四代193nm波长的ArF光刻机,属于干式DUV光刻机。第五代是ArFi,即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。
据悉,氟化氪(KrF)和氟化氩(ArF......
英特尔完成全球首台ASML High NA EUV光刻机组装!(2024-04-22)
偶然。
英特尔帮助开发了EUV技术——因其使用的“极紫外”光波长而得名。但它开始使用ASML的首款EUV产品晚于竞争对手台积电,英特尔CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)承认......
商务部部长会见ASML全球总裁,都说了啥?(2023-03-29)
用于半导体芯片制造中的光刻技术,分别是“深紫外光”(Deep Ultraviolet)和“极紫外光”(Extreme Ultraviolet)的缩写。EUV较DUV更为先进,是一种波长较短的电磁辐射,波长......
三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
将于明年年底推出初始版本,量产型号将于2024年底或2025年初推出。
相比DUV浸没式光刻机采用193nm波长的深紫外光,EUV光刻系统中使用的极紫外光波长仅为13.5nm。EUV单次曝光就可以替代DUV的多......
ASML发布2022年第三季度财报 净销售额58亿欧元,净利润为17亿欧元(2022-10-20 09:07)
动第三季度新增订单金额达到约89亿欧元,创下历史新高,这其中38亿欧元来自EUV系统订单,包括High-NA系统订单。”我们正在继续评估和关注美国新颁布的出口管制条例。根据我们的初步评估,新的......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备!(2023-11-22)
购了这家名为Berliner Glas的工厂。
晶圆代工厂疯抢光刻机设备
光刻机是一种制造芯片的关键设备,利用特定波长的光进行辐射,将掩膜版上特定的图像精准的印刻在硅片上。目前,光刻......
三星研发下一代EUV关键技术,竞争台积电(2023-02-16)
纳米或以下的超微制造工艺至关重要。它是一种需要定期更换的消耗品。
由于EUV设备的光源波长较短,因此薄膜需要较薄以增加透光率。此前,硅已被用于制造薄膜,但石墨烯是一种更好的材料,因为......
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付(2023-09-07)
年年底将照计划推出下一代的High NA(高数值孔径)EUV产品线的首款产品。
由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低,多图案 DUV 步骤......
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破(2017-04-14)
,ASML也将其电源功率提升到200瓦特。
后记
上面EUV光刻机的介绍,是让大家知道,目前最先进的是极紫外光光刻机,光源是极紫外光,而关于中科院的中紫外光的波长是多少,半导......
EUV光刻究竟难在哪里?看完本文你就明白了(2016-11-18)
整个IC产业的发展,EUV光刻算得上是迄今为止碰到最难解决的问题。
EUV的电源将等离子体转换成13.5nm波长的光线,然后经过镜子的几重反射之后,再打落到晶圆上。现在的EUV可以在晶圆上“打印......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机(2022-12-08)
大幅增加。
所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯,和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。
按照的说法,除芯片精细化以外,封装......
照亮半导体创新之路(2024-09-05)
是与电路元件最小特征尺寸相关的术语)。然而,为了实现更小的特征尺寸,基于物理学常识,需要使用更短波长的光。
极紫外光刻(EUV)代表了这一领域的一个关键进步。EUV光刻技术使用波长约为13.5 nm的光......
照亮半导体创新之路(2024-09-05)
外光刻(EUV)代表了这一领域的一个关键进步。EUV光刻技术使用波长约为13.5 nm的光。这使得芯片制造商能够达到7 nm、5 nm、3 nm和2 nm工艺节点。
要产生这种极紫外光,一个......
照亮半导体创新之路(2024-09-06 09:15)
是与电路元件最小特征尺寸相关的术语)。然而,为了实现更小的特征尺寸,基于物理学常识,需要使用更短波长的光。极紫外光刻(EUV)代表了这一领域的一个关键进步。EUV光刻技术使用波长约为13.5 nm的光。这使......
一台3亿欧元!ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货(2022-11-28)
也是唯一的EUV光刻机的供应商。
由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低,多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV
步骤......
挑战 EUV!佳能发布新型 2nm 光刻机(2023-10-16)
称该设备结构简单,由于不需要 EUV 的大规模特殊波长光学系统和真空腔,所以基于 NIL 技术的设备得以大幅缩小体积。
此外,该设备可⽤更小的功率形成精细图案,相比传统的 EUV 投影......
三星首次引进本土生产光刻胶!(2022-12-06)
发和量产上都需要企业的长期技术积累。此外在产品送样前,光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试,根据验证结果调整配方。
根据曝光波长的不同,光刻胶可以分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别,其中g线、i线一......
摩尔定律还能继续,有技术为证!(2017-04-24)
。
为了简化7nm/5nm的工艺流程,芯片制造商一直在等待极紫外(EUV)光刻技术,这是一种13.5nm波长的技术。EUV预计为45nm,但遇到了一些仅仅在最近才刚刚解决的问题。随着光源的增强,产量......
俄乌冲突影响半导体气体供应,芯片生产成本恐上涨|TrendForce集邦咨询(2022-02-16)
气体主要应用于半导体微影制程,该制程线宽需进一步微缩至220nm以下时,即开始进入DUV(深紫外光)准分子激光世代,以惰性混合气体与卤素分子混合,藉由电子束能量激发产生深紫外光的波长,将制......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步?(2023-10-31)
要性,人们必须了解它现在突然又冒出来的背景。极端紫外线(EUV)光刻是一种使用约13.5纳米的波长将图案投射到晶圆上的方法,是先进半导体制造的主要技术。EUV机器虽然拥有令人印象深刻的精度,但面......
EUV光刻新突破,是不是真的?(2023-09-18)
)、深紫外光刻技术(DUV)和极紫外光刻技术(EUV)不断向前延伸,其波长也从436nm、365nm、248nm,不断向193nm、13.5nm不断延伸。
每个制程技术节点用什么光刻技术,IEEE一直......
英特尔公布全新节点命名方式,加速部署全新制程与先进封装(2021-07-28)
Alder Lake 客户端产品,以及 2022 年第一季量产 Sapphire Rapids 数据中心产品。
Intel 4:全面使用极紫外光(EUV)微影技术,透过超短波长光,印制极小形状。 伴随......
日立高新技术公司部宣布推出其GT2000高精度电子束测量系统(2023-12-13)
里占有最大的市场份额。本文引用地址:GT2000配备了用于尖端3D半导体器件的新型检测系统。它还利用低损伤高速多点测量功能用于high-NA EUV*2抗蚀剂晶片成像,以最小化抗蚀剂损伤并提高批量生产的产率。
技术......
光刻胶产能紧缺,盘点全球13家供应商产品类型(附表)(2021-03-23)
胶以及其他光刻胶。其中,半导体光刻胶约占27%,LCD光刻胶和PCB光刻胶分别各占24%,其他光刻胶产品占据25%。本文重点讨论半导体光刻胶。
半导体光刻胶主要通过不断缩短曝光波长,从最......
中国商务部会见荷兰 ASML 全球总裁(2023-03-31)
同维护全球半导体产业链供应链稳定。
除此之外,双方还就阿斯麦在华发展等议题进行了交流。从 2019 年开始 ASML 的 EUV
设备就被禁止出口中国大陆,荷兰......
主宰半导体世界的摩尔定律这回真的走到终点了?(2017-08-17)
的极端紫外线(EUV),在13.5nm波长可以解决这一难题,但事实证明生产EUV科技产品从技术上来说困难重重。
即使有了EUV,也并不确定还能缩小多少;2纳米时,晶体管的长度将只有10个原......
半导体大厂取消增加光刻胶供应商计划,国内厂商发展现状如何?(2022-09-23)
更容易溶解从而为刻蚀和沉积做好准备。负性光刻胶则正好相反,受光照射的区域会聚合,这会使其变得更难溶解。正性光刻胶可以达到更高的分辨率,从而让它成为光刻阶段更好的选择,因此正性光刻胶是当前半导体制造的主流。
根据曝光波长......
2nm 工艺的计量策略(2023-03-09)
制造商正在从使用深紫外光刻 (193nm) 的双重或四重图案化过渡到关键级别(晶体管定义、第一金属层)的 EUV 光刻(13.5nm),再到图案化 25nm 特征。与 193nm 相比,EUV 提高......
国产高端光刻胶为啥量产难?一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
-EUV的升级方向,g线到EUV光源的曝光波长不断减小,光刻技术难度依次叠加,IC工艺节点也逐渐变小。
总体来看,KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合更高端的光刻机来应用,由于光刻胶的生产工艺复杂、纯度......
相关企业
退 两个月包换,三年保修,终身维护。 联系人:陈经理18660149102 QQ38902114 HTB-1100FSC-25 单纤双向25KM,波长1310nm/1550nm HTB-1100FSC-40
;深圳市专芯光电科技有限公司;;中为LED芯片原厂稳定供应: 7*9 8*10紫光圆片(做F5圆头亮度150以上.波长基本上都在390-395-400.集中5NM,良率99以上,IR均已挑选) 12
;上海市诠硕电子科技有限公司;;公司专注于 光电器件的销售 主要销售EPITEX 的可见光 紫外 红外 近红外系列LED 大功率LED 及双波长 三波长系列 还有APD 光电二极管等
;深圳市易林科技;;品牌 FELINK 型号 FL 接口类型 SC ST 传输距离 20(m) 发射波长 1310(nm) 电压输入 220(V) 品牌 FELINK 型号 FL1100/S 接口
;宁波长宏光电;;
发光二极管,覆盖了从375-700nm波长范围,我们可以提供这个范围里的任何波长和外形LED产品.
,波长范围在:450-475nm,基本上都按2.5nm细分波长,5mcd分亮度,现我司月产能32KK,而且推出了ITO制成的SuperEagle系列,亮度40-50mcd,50-60mcd,60
;珠海市吉比光电仪器有限公司;;珠海市吉比光电仪器有限公司成立于1998年,致力于光纤通信仪表的研发、生产和销售工作。目前已拥有光源、光功率计、光多用表、光纤插损回损测试仪、多波长稳定光源、双波长
;晨辉科技;;能否提供:外径5mm,电压在3.5伏以下,电流在30MA以下的白光亮度在7000-9000mcd直插式二极管及蓝色: 波长260-275nm 二极管。
;深圳瑞丰兴电子有限公司;;我司专业代理LED芯片,现供应老元砷(SECVCME462-8)30k波长:(462.5-465)nm亮度:(230-255)mcd新世纪绿色波段长期供货