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绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂; 正在东京以北的栃木县宇都宫建厂，估计耗资 500 亿日元(约合 3.66 亿美元)。 该工厂将用于制造 KrF 和 i-line......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道，佳能表示，首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备，不过这将用于试运行。 报道称，这些......
经过脱模就能够得到一颗芯片。     纳米压印光刻（紫外纳米压印）与光学光刻对比   官方消息显示，佳能早在2004年开始秘密研发NIL技术，2014年美国分子压印公司（现佳能纳米技术）加入佳能集团，该研......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
10%，连耗电量也是传统EUV的10%。美光对外宣布将首先采用日本佳能的纳米压印NIL光刻机，进一步降低DRAM生产成本。一旦存储巨头美光获得成功，佳能的NIL光刻机将会迅速推广，届时ASML的EUV......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的，并且......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...; 近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机......
（NIL），这种方法承诺将详细设计的图案印在基板上。科技巨头佳能最近推出了其NIL工具，但专家质疑它是否能真正挑战极端紫外线（EUV）光刻术的主导地位。本文引用地址： 是如何工作 NIL的核......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML;12 月 27 日消息，佳能今年 10 月宣布 FPA-1200NZ2C，这是一款纳米压印光刻（NIL）半导体设备。 佳能......
掩模技术的进一步改进，日本佳能公司预计，NIL（Nano Imprint Lithography，NIL）纳米压印技术将有可能支持电路图案化的最小线宽为10nm，相当于2nm节点。据悉，佳能于2014年收......
  图源:Canon) 据悉，除了现有的光刻系统外，佳能还将采用纳米压印(NIL)技术的半导体制造设备推向市场，扩大其半导体制造设备阵容，以满足从最先进的半导体设备到现有设备的广泛需求。佳能......
产量有限，这使得芯片的生产成本骤然升高。为解决这样的问题，日本存储器大厂铠侠现在联合了合作伙伴开发了新的工艺技术，可以不使用EUV光刻设备，使工艺技术直达5纳米。 根据日本媒体的报导，铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能......
，该设备执行电路图案转移，这是最重要的工艺。 本文引用地址：（FPA-1200NZ2C  图源:Canon) 据悉，除了现有的光刻系统外，佳能还将采用(NIL)技术的半导体制造设备推向市场，扩大......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电拥有145项，三星电子为70项专利；但在DSA光刻......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳能......
作为芯片制造的重要环节，近期更是备受业界重视。 全球光刻机市场，ASML、尼康、佳能三家公司占据绝大部分市场份额，面对日益高涨的市场需求，三家光刻机龙头企业均给出了积极回应。 ASML EUV出货......
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机;4月1日，据日经中文网报道，佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，佳能光刻机新产品最早于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍，可支......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产 佳能将于2023年1......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！;据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标......
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。 佳能......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局：三分天下 光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
划将于2025年12月31日之前执行。 公开资料显示，在全球半导体光刻机市场，ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外，日本两大光刻机企业尼康和佳能......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
了大部分的市场。根据统计数据显示，2020年全球半导体光刻机总销量约413台，销售额约130亿美元，其中用于晶圆制造的基本均为ASML、尼康和佳能三家公司的产品。如果以销量来看，ASML销量为258台占比62%（其中......
%左右，其他的对手包括尼康，佳能等。 当然了，半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机去年销售了四台，单台的平均售价达1.1亿美元，最新......
丽的报表： 可以看出尼康的芯片光刻机惨不忍睹，算上尼康的面板光刻机（至少比佳能强多了），一共33台，平均单价只有14亿日元多（其中包含了solution的销售额，扣除solution销售......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日，日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
外），但它又贵又难造，除了全力研发，国产有没有其它的路可以走？本文引用地址：事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL......
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。 7......
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。 图片来源：全球半导体观察制图 目前，全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。 据外媒公开消息，俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂，分别是Mikron和......
立背景亦有日本半导体产业链的优势支撑，如尼康、佳能仍占有全球光刻机市场近40%的份额，几乎垄断硅片、光刻胶等原料市场，日本还研发出无需光刻机的NIL工艺并且突破到10nm等。但日本试图借Rapidus重振......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品 不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造 还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
科技、利和兴、苏大维格等纷纷大幅拉升。 一些媒体解读——它可以绕过制裁，也可以可以绕过光刻技术造5nm芯片。 当然，我们首先需要都知道光刻机从荷兰换到日本，美国照样能限制。而佳能......
最终将是截至2021年3月的财政年度规模的两倍左右。 光刻机设备厂商佳能也宣布将在宇都宫建造一座新工厂，计划于2025年春季启动，它将使全公司的产能翻一番。佳能高级管理执行官Hiroaki......
是半导体芯片的核心生产部件，是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备，被称为人类工业皇冠上的“明珠”。 全球光刻机行业的大佬有荷兰的ASML、日本佳能和尼康等，在国产化的浪潮下，如上......
技术或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备;于 10 月 13 日宣布，已将 FPA-1200NZ2C 商业化，这是一种纳米压印半导体制造系统，利用（NIL）技术实现尖端半导体电路的形成，并于......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极......

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