资讯
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-20)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
(2023.3.20)半导体周要闻－莫大康(2023-03-22)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清(2023-09-20)
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。
对此，9月18日中国......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
集成电路产业规模达2500亿，上海：14nm先进工艺实现规模量产(2022-09-15)
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
改变，但中国芯片制造迅速发展，ASML表示愿意支持并提供技术与设备，甚至EUV光刻机。
然而，当中国取得EUV光刻机突破时，ASML急了，担心破坏全球产业链。20多年过去，中国已量产90nm光刻机，交付......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址：该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。
开发人员介绍，传统光刻......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
.https://www.researching.cn/ ArticlePdf / m00018/2020/49/9/20201035.pdf
[12] 中国光学：Nanophotonics | 纳米光刻......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
年产1100吨光刻材料，这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外，为助......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
危言耸听。但是也不必担心，因为只有工艺制程达到7纳米及以下时才会使用EUV光刻机。
对于这样的现状，首先心态要放正确。西方继续压制中国半导体业的进步，这个政策在相当长时间内还会持续下去。然而......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
系统FPA-1200NZ2C，佳能表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。
另据佳能透露，经由改良、期待未来NIL光刻机......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
约1340亿元半导体项目敲定；东芝一工厂突发停电(2022-09-21)
芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金城指出，上海......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
的技术难度和成本高筑进入壁垒。
中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。
如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路(2023-01-30)
光刻机。
如果目标是阻止中国扩大其14纳米工艺技术大规模量产，那么必须阻止所有可以实现节点上最小金属间距64纳米的工具，理论上，连KrF光刻机......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
康指出，高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂，但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展，只能采取从低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机，以及周边设备材料等，EUV......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命(2024-09-10)
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命;
9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。
报道中提到，尽管......
ASML完成第100台EUV光刻机出货(2021-01-06)
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示，光源还可以继续用193纳米，但换个介质试试，不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质，光源通过水会产生折射，使193纳米光源实际效果可能比157......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
总归要讲商业逻辑，路要一步一个脚印地走。
另一方面，要考虑到技术实现的问题。光刻机不仅是吞金兽，还是吞电兽、吞水兽，这么大的机器要用多少电、用多少水、废水怎么处理都是要看考虑的问题；光有一个EUV光源还不代表技术突破......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备;
10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
的EUV。
为争取更多的EUV光刻机，三星高层去年就到ASML总部争取 。今年6月14日，三星副会长李在镕造访ASML荷兰总部，拜会了ASML首席执行官Peter Wennink等高管，广泛......
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义(2021-04-26)
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息，日前，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。
EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。
但问题是EUV光刻机......
中国芯片“B计划”曝光！(2023-02-03)
细，显然量子芯片才是未来的方向。
其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
真正达到极限难以向前时，纳米压印技术或将是一条值得期待的路线，而那时，芯片制造或许也会迎来全新的范式，一切都会被颠覆。
关键是，佳能的5nm纳米压印光刻机优势还很明显，不仅价格是ASML传统EUV的......
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元(2021-01-21)
亿欧元，毛利率为48.6%，净利润达36亿欧元。
EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备，主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年，ASML共销售31台EUV，较前一年增加5台，创收45......
2022国产芯片原厂图鉴(2022-12-13)
丽国厂商把持的工艺设备。据方正证券的电子首席分析师陈杭表示，目前光刻机大致分为两类：一是DUV深紫外线光刻机，其可以制造0.13微米到7纳米的芯片；二是EUV极紫外线光刻机，适合7nm到3nm以下芯片。目前DUV光刻机并不限制中国......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
，压在晶圆上面就是多少纳米”；同时，“纳米压印的图案每一层都一次压印成形，不像传统光刻会用到SADP/SAQP（多重曝光）等复杂工艺”。
其特点在于制造成本更低，而且耗电量也远低于EUV光刻机......
7nm物理极限！1nm晶体管又是什么鬼？(2016-10-11)
斯伯克利国家实验室的一个团队打破了物理极限，采用碳纳米管复合材料将现有最精尖的晶体管制程从14nm缩减到了1nm。
那么，为何说7nm就是硅材料芯片的物理极限，碳纳米管复合材料又是怎么一回事呢？面对美国的技术突破，中国......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术;
近日，美国商务部和国家半导体技术中心(NSTC)的运营商Natcast宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米......
消息称ASML将向中国推出“特供版”DUV光刻机(2023-07-06)
称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。
消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而......
斥资76亿元，荷兰企图复制一个ASML半导体“神话”(2022-04-18)
投资Smart Photonics，以确保关键技术不外流，一度阻拦ASML向中国出口光刻机。
国际电子商情了解到，除生物科技、微米电子与半导体、纳米科技与先进材料之外，光子学 (photonics) 也是......
三星否认“3nm 芯片量产延后”？称仍按进度于第二季度开始量产(2022-06-23)
下一代半导体的生产至关重要。不过，三星电子暂时没有透露ASML将提供的额外EUV光刻设备的细节。
据悉，3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示，ASML在2021年出货的48台EUV......
实现自主可控的14nm，把握后摩尔时代的芯片挑战和机遇(2021-09-01)
的光源，曝光出20nm-30nm的图形，现在集成电路的光刻工程师却能用波长193nm的光源曝光出数十纳米的图形，突破了光学的限制；
第二，新材料的挑战。芯片的性能提升主要依赖新材料和新工艺。至今，大约......
突破美方封锁 国产小芯片4纳米封装开始量产(2023-01-10)
突破美方封锁 国产小芯片4纳米封装开始量产;据台湾“中时新闻网”1月8日报道，用先进的封装技术连接功能不同的数个芯片以达到先进制程芯片功能的小芯片（又称晶粒）技术，被视为中国突破......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
MTS2023最新议程；立讯为iPhone代工；中芯国际新项目封顶(2023-01-03)
行列
广东再添重量级半导体公司
又一台光刻机进入中国工厂
中芯国际临港项目封顶
1
MTS2023最新议程公布
2023年1月5日（周四），集邦咨询将举办“MTS 2023存储......
7nm 是物理极限？ 那刚发布的 1nm 是什么概念？有商业化价值吗？(2016-10-18)
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
7nm 是物理极限？ 那刚发布的 1nm 是什么概念？有商业化价值吗？(2016-10-18)
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
电还将延续使用EUV光刻机。
2nm未见果，1.8/1.4nm现身影
今年，先进制程动态不断，尤其是3nm、2nm等最先进制程。从共同点来讲，大厂们的目标无非是为了突破芯片技术壁垒，占领新技术高地，从而......
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范围的招商、推广、服务工作。 奥因公司是专业从事纳米光催化材料及其应用技术、系列产品的研发、生产及营销，集产、学、研为一体的高新技术企业。 公司突破传统研究思路，坚持自主创新，研究出采用逐步推进的化学修饰法使纳米光
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;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
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刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
人： 倪志平 所有产品及服务：喷绘机;雕刻机;电脑刻绘机;热转印条幅机;激光刻章机;灯布拼接机;激光雕刻机;展示架,X架,拉网架等;写真机;喷绘墨;名片切卡机;平板喷绘机，UV喷绘加工
;合肥开尔纳米能源科技股份有限公司市场销售部;;合肥开尔纳米公司简介合肥开尔纳米能源科技股份有限公司（新公司）于2009年由合肥开尔纳米技术发展有限责任公司与合肥市建设投资控股（集团）有限