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俄罗斯已经有相应的规划了。 首先是自研光刻机。 光刻机是制造芯片的主要工具，有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机，也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何......
高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于200/300毫米线的大规模工业生产。 SSB500系列步进投影光刻机......
改变，但中国芯片制造迅速发展，ASML表示愿意支持并提供技术与设备，甚至EUV光刻机。 然而，当中国取得EUV光刻机突破时，ASML急了，担心破坏全球产业链。20多年过去，中国已量产90nm光刻机，交付......
芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
成像原理图 “OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。” 据刘......
胶配套高纯显影液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机;据报道，中国将于年底推出首款 ，这标志着中国芯片产业在经历了美国主导的多年打压和围堵后实现了跨越式发展。本文引用地址：据《证券日报》报道，北京......
制造2025》中针对国产半导体制造设备提出了明确要求：在2020年结束之前，90-32nm工艺设备国产化率达50%，实现90nm光刻机国产化、封测关键设备国产化率达50%；在2025年结束之前，20......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
国大陆市场占有率达到85%。此外，公司LED系列光刻机全球市占率55%。不止如此，根据官方信息，上海微电子的600系列光刻机可用于IC前道制造，满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻......
是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学......
是芯片制造过程中最复杂、最昂贵、最关键的环节。而计算光刻是连接芯片设计和制造的关键技术,在90nm及以下芯片制造中,不可或缺。 计算光刻并非新鲜事物,已经存在了30年之久。芯片沿着摩尔定律不断微缩,光刻机......
场竞争中，ASML的设备和技术占绝对领先地位，占据全球市场82.1%：90nm以下节点高端光刻机（如ArF、ArFi、EUV光刻3种高端机型）95%以上属ASML设备。 但是当前，宏观经济形势不稳定，如高......
能是因为美国向荷兰政府施压。 中国的上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等企业/机构正围绕光刻机而积极研发。现在国内已经成功量产的光刻机只能最高生产90nm的芯片，中科院曾公开表示，中国的光刻机......
高压集成电路和功率器件芯片生产线，拟装修净化车间，添置国际先进的光刻机、刻蚀机、扩散炉等设备，配套建设动力及辅助设备设施等。项目建成达产后将新增2万片/月的12英寸高压集成电路和功率器件芯片生产能力，并进一步提升生产线技术水平，预计......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳......
国内仅能实现90nm光刻机商用，因此想要突破28nm及以下的芯片工艺，ASML的DUV光刻机成为了重中之重。 如此以来，拿出28亿美元在南京扩产28nm生产的台积电，也将削弱其在大陆的影响力。 ......
进的下一代 EUV 光刻机就成为了重中之重。据悉，ASML 的下一代 EUV 光刻机试验型号最快明年出货，2025 年后正式量产，这基本在台积电的节奏之中。不过，这种 EUV 光刻机的售价将达到 4......
结果表明该技术具有较高的修正效率。 光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一，光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。随着集成电路图形的特征尺寸不断减小，光刻系统的衍射受限属性导致明显的光学邻近效应，降低了光刻成像质量。在光刻机......
的企业，其90nm DUV光刻机在2016年已经通过验收，但45nm、28nm光刻机仍在研发过程中尚未量产，亟待突破。 结 语 从上文的各项数据来看，全球半导体设备市场几乎被美日荷所垄断，核心设备如光刻......
技术实现更小的特征尺寸，半导体制程引入了多重pattern技术。光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。 但到了22nm/20nm，单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片......
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
胶主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。 如晶瑞电材ArF高端光刻胶研发工作已启动，为适应行业现状带来的发展机遇，已在......
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件; “OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们......
就需要用到一种设备——光刻机。 目前上海微电子装备公司生产的600系列光刻机代表了中国的最高水平，加工精度只有90nm。而世界上最先进的光刻机，荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）已经可以满足5nm......
光刻胶产品大规模生产线，将形成年产25吨ArF（干式/浸没式）光刻胶产品的生产能力，产品性能可以满足90nm-14nm集成电路制造的要求。 2021年5月，南大光电发布公告表示拟使用1.5亿元用于光刻......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......
上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间，上海新阳半导体发布公告，称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于......
3倍，光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺，英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日，据路透社消息，全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其......
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
尼康计划推出支持3D半导体的光刻机，目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道，尼康计划在2025财年（截至2026年3月）将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年（截至2022......
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元;据路透社报道，半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新旗舰光刻机，有望2023年上半年完成原型机，最早2025......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
以在相同尺寸的矽片上集成更多的电晶体——Intel曾经宣称将闸长从130nm减小到90nm时，电晶体所占得面积将减小一半；在芯片电晶体整合度相当的情况下，使用更先进的制造工艺，芯片的面积和功耗就越小，成本也越低。 闸长可以分为光刻......

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