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半导体产业逐渐向好。 当前,台积电、三星、英特尔等晶圆代工厂商之间的竞争已进入先进制程赛道,在此过程中,拥有更多先进制程所用的EUV极紫外光刻设备对厂商而言起着至关重要的作用。 台积电......
斯社报道,俄罗斯第一台能够生产最大350nm(行业一般说0.35μm)尺寸芯片的光刻机已经创建并正在测试中。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克(Vasily Shpak)在CIPR期间......
热搜 | 台积电用上英伟达计算光刻平台生产;“台积电用上英伟达计算光刻平台生产”这一话题登上百度热搜。 据多家媒体报道,美东时间10月8日,AI芯片大厂英伟达强调了同台积电......
的贸易稳定荷兰会想尽办法维系!” 但意外的是,没过多久ASML便官宣了一个新消息,负责人表态:“有能力远程锁定台积电的光刻机!”这也间接暴露了ASML所有售卖的设备都被留有“后门”,随时都可以将它们变成“废铁”。 这就......
期外媒消息,台积电等公司计划在2023年开始生产2nm代。如果消息属实,ASML高端光刻机将更加火热。 接下来的几年,ASML将会很忙。Q1财报会议上,ASML表示,随着......
长、成本高,但采用高NA光刻机可能风险更大,台积电应是认为采用原有的EUV更为经济且可行,在成本和技术之间寻求了平衡。 台积电于2019年开始在其N7+工艺上使用EUV,通过优化EUV曝光剂量及其使用的光刻......
随着这一轮熊市的调整,台积电、三星等公司抢购EUV的热度已经下去了。 来自供应链的消息称,ASML这几年最大的客户台积电要大砍2024年的EUV光刻机订单,多达40%的光刻机会取消或者延期交付,不过台积电......
年初定下440亿资本开支目标的台积电,无奈之下已连续两次削减了资本开支,每次都是40亿美元,合计高达80亿美元,同时台积电还鼓励员工休假,并关闭了部分EUV光刻机。 反观28nm及以......
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS,后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界称,台积电此举可确保关键设备的技术开发,并满足2nm商用化的供应需求。 三星在已量产第二代3nm......
在手里,想让它正常工作反而很简单。当然不排除ASML会在很复杂的系统下留下物理隔绝都没用的后门。 那么对目前国内的光刻机来说,是否也有被远程操纵的风险? 一名与台积电员工长期接触的网友认为,从技......
等浸入式 DUV,这些设备最高可支持 5nm 工艺,台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机......
英特尔拿下首套High-NA EUV,台积电如何应对?;英特尔(intel)近日宣布,已经接收市场首套具有0.55数值孔径(High-NA)的ASML极紫外(EUV)光刻机,预计......
EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?;近日,荷兰的光刻机制造商阿斯麦(ASML)发布2020年度财报,全年净销售额达到140亿欧元,毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
和28纳米的半导体生产线,预计于2024年开始量产。该产线月产能为5.5万片12英寸晶圆,用于汽车用和家电用芯片产品的生产。台积电还将在德国德累斯顿建设针对汽车芯片的12英寸晶圆厂,制程将从28/22......
纳米和28纳米的半导体生产线,预计于2024年开始量产。该产线月产能为5.5万片12英寸晶圆,用于汽车用和家电用芯片产品的生产。台积电还将在德国德累斯顿建设针对汽车芯片的12英寸晶圆厂,制程将从28......
这并不是经济上可实现的极限,台积电N5工艺使用的28nm最小金属间距可以在没有EUV的情况下制造。使用ArFi光刻的SAQP理论上也可以实现。如果目标是阻止中国实现5nm制程技术,那么ArFi的出货就必须被阻止,ASML和......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元;6月6日消息,荷兰制造商今年将向交付其最新款。据公司发言人莫尼克·莫尔斯(Monique Mols)透露,首席财务官罗杰·达森(Roger......
台积电年底前获首套High-NAEUV,生产领先2nm两代制程;日经亚洲的报导,全球最大半导体制造商台积电(TSMC)年底前会收到ASML最先进光刻机。高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机......
只能期待它相对快速地推出和采用,因为High NA EUV光刻机更像是EUV光刻机的“升级款”,而不是一个全新的产品。” 有趣的是,台积电以成本为由,迟迟不肯接受High NA。在外界看来,这有点像台积电......
台积电今年将拿到最新款光刻机:曾表态华为追不上我们; 6月6日消息,据外媒报道称,ASML将在今年向交付旗下最先进的光刻机,单台造价达3.8亿美元。 报道中提到,ASML首席......
3倍,光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺,英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日,据路透社消息,全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其......
也成为欧洲最先进的芯片制造工厂。 据ASML发言人称,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍,同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。 极紫......
/S线距比), 考验光刻机的适配性与综合性能, 包含曝光面积、图形拼接、对位标记、分辨率、产能、工艺窗口等综合性价比, 这些指标决定先进封装的终端成本及竞争优势。台积电在10年前推出(28nm)先进......
说简直就是灾难,因为其后续尖端制造工艺都需要EUV光刻机台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了,并且在随后的工艺迭代中,逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。借助EUV光刻,所需......
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作,并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源,并使光线到达抗蚀剂。业界表示,这是光刻机......
GAA制程等。在2nm制程上,台积电、三星、英特尔、Rapidus都已接洽ASML,其目的正是为了能使2nm制程量产的关键设备,即ASML手中最新的High-NA EUV光刻机。 ASML是一家全球最大的光刻机......
)的工程师当初不安于现状才成就了ASML的光刻机霸主地位。20年前的intel,三星,台积电的工程师们也许只能和尼康佳能的光刻机打交道,被迫接受着日本工匠式的教条灌输和培训,但他们一直想着换花样。光刻机......
调试工作,并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源,并使光线到达抗蚀剂。业界表示,这是光刻机正式投入使用前的一项重要准备工作,代表光刻机的光......
电,2022年其用电量或将进一步提升。因为EUV光刻机每日耗电便达到3万度,而台积电今年下半年即将量产3纳米,此外其他先进制程也正在加速研发中。 近期,据媒体报道,台积电将从2023年1月起......
。 因为每种芯片都要经历多次曝光,所以光刻中使用的掩膜数量不尽相同。NVIDIA H100(台积电4N工艺,800亿晶体管)需要89张掩膜,Intel的14nm CPU需要50多张掩膜。 此前......
没有提到具体的名单,但是台积电、三星、Intel这三家是没跑的,他们的逻辑工艺现在都是要用到EUV光刻机的。 还有2家应该是内存芯片厂商了,三星这部分已经在14nm DRAM内存......
还对外交付了第二台High NA EUV光刻机,但未透露买家信息。 值得一提的是,ASML的订单已超过了十几台,但EUV设备的最大客户台积电却表示“不抢ASML新设备”。台积电......
四家半导体大厂重磅合作!计算光刻技术从幕后到台前;在3月22日召开的GTC大会上,英伟达宣布与台积电、ASML、新思科技(Synopsys)合作,将加速运算技术用于芯片制造环节的计算光刻中,并推出用于计算光刻......
代EUV光刻机达到4亿美元,昂贵的芯片制造设备正在快速推高芯片制造的成本。 此前台积电曾计划量产的3nm工艺最终没有一个客户接受,除了该工艺量产时间晚、性能不达标之外,还在于它的成本太高了,之前......
技术,这让光刻工艺走上了一个新的高度,于是光刻行业进入了以 EUV 光刻机为主的极紫外光时代。 随着先进制程的进一步推进,全球半导体制造龙头台积电、三星、英特尔纷纷扩大 EUV 光刻机......
成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。 先进制程竞争开战:光刻机“挺忙的” 在芯片制造中,先进制程技术是当前行业研发的重点,掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔,从三大厂的动态来看,先进......
元。 除了Intel,三星、台积电、SK海力士也都订购了高NA EUV光刻机,首批订单有数十台。 ......
还表示各项数据优于三星 。 三星、台积电都在使用EUV光刻机生产制造3nm芯片,但实际上已经有点力不从心了:三星采用了全新的GAA工艺,性能和功耗提升明显,但良品率成了最大的问题;台积电采用传统工艺,良品......
-Tencor)占据了全球集成电路设备市场的前五名,其中,荷兰承包了全球四分之一以上的半导体设备份额。 而AMSL在三季度售出的光刻机中,价格最贵的14台极紫外光刻机大部分被台积电拿下,目前台积电旗下EUV(极紫......
-2025两年,台积电将接受60台EUV光刻机,预估总投资额将超新台币4000亿元(约122.7亿美元),据悉,ASML年底将向台积电交货High-NA EUV。 图片来源:拍信......
报会议上,ASML表示,将维持55台EUV光刻机的产能预期。有供应链消息传出,三星今年将预定18台EUV光刻机,而台积电则最少预定22台。 此外,有业内人士认为,三星和台积电今年量产3纳米制程所使用的......
无论技术还是成本角度,Hyper NA之后该怎么走,谁的心里都没数。 微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示:“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件,只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻,现有的光刻技术必然终结。” ......
出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。 ▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻机 台积电目前正式公布的最先进制程为 A16,该工艺将支持背面供电网络(BSPDN......
ASML公布Hyper NA EUV光刻机:死胡同不远了; 6月16日消息,去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机; 6月16日消息,去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外,同时正在研究更强大的Hyper NA......
方面,近期ASML新任首席执行官傅恪礼Christophe Fouquet透露,英特尔的第二台High NA EUV光刻机已经顺利完成组装,而台积电的首台High NA EUV光刻机......
俄罗斯已经有相应的规划了。 首先是自研光刻机光刻机是制造芯片的主要工具,有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机,也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何......
三星电子将从2024年开始实际使用High NA EUV 光刻设备。 2022年9月,台积电研究发展资深副总经理米玉杰也对外表示,台积电将在2024年取得ASML新一代High-NA EUV光刻机,为客......
、外延生长、沉积等环节发挥着重要作用。 在光刻过程中,则有特定需要的光刻气,该类气体可使光刻机产生深紫外激光。据悉,光刻气在腔体内受高压激发后,由于电子跃迁,产生了一定波长的光,不同的光刻气和电压可产生不同波长的光......
越有可能加倍努力”,以制造能够与阿斯麦匹敌的光刻设备。 Wennink还指出“在美国的压力下,我们放弃的已经够多了”,此前EUV光刻机向中国销售已有限制。2022年的市场似乎也印证了这一点:按照ASML......

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