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研发客服“台积电用上英伟达计算光刻平台生产”这一话题登上百度热搜。
据多家媒体报道，美东时间10月8日，AI芯片大厂英伟达强调了同台积电在加速计算领域合作的成绩：其名为cuLitho的计算光刻平台正在台积电投入生产。
英伟达表示，cuLitho将加速计算引入计算光刻领域，将cuLitho投入生产使台积电能够加快下一代芯片技术的开发，而目前的生产流程正接近物理学的极限。台积电应用cuLitho进行生产可以提高制造下一代先进半导体芯片的速度，并突破物理限制。
2023年3月，英伟达宣布将加速计算引入计算光刻领域，使ASML、TSMC和Synopsys等半导体企业能够加速下一代芯片的设计和制造。
图片来源：英伟达官网
NVIDIA cuLitho是用于GPU加速计算光刻和半导体制造工艺，含有优化过的工具和算法的库，其速度比当前基于CPU的方法快几个数量级。
据官方介绍，cuLitho在GPU上运行时，性能比目前的光刻技术（在硅片上创建图案的过程）提高了40倍，加速了目前每年消耗数百亿CPU小时的海量计算工作负载。它使500个NVIDIA DGX H100系统能够实现40,000个CPU系统的工作，并行运行计算光刻过程的所有部分，有助于减少电力需求和潜在的环境影响。
短期内，使用cuLitho的晶圆厂每天可生产3-5倍的光掩模（芯片设计的模板），耗电量比当前配置少9倍。一个光掩模过去需要两周时间，现在一夜之间就能加工完成。从长远来看，cuLitho将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和人工智能光刻。
英伟达CEO黄仁勋彼时表示，“芯片行业是全球几乎所有其他行业的基础。光刻技术处于物理极限，NVIDIA推出cuLitho并与合作伙伴TSMC、ASML和Synopsys合作，使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹，并为2nm及以后奠定基础。”
封面图片来源：拍信网