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获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址：       ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机......
lithography)技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。 在制程技术进入5nm节点之后，EUV光刻机......
在本次官方禁令范围内。该机器可支持中芯国际、华虹等国内半导体来生产 28nm 以上的成熟工艺。 据悉，该光刻机是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38......
价格或将超过3亿美元，这也使得尖端制程所需的成本越来越高。 相比之下，的目前纳米压印技术将可以使得芯片制造商不依赖于EUV光刻机就能生产最小5nm制程节点的逻辑半导体。 佳能......
一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)和存储器芯片制造商铠侠(Kioxia)合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。 佳能表示，这套生产......
:3400C、NEX:3400D，NA只有0.33，对应的分辨率为13nm，可以生产金属间距在38-33nm之间的芯片。 但是，金属间距缩小到30nm以下之后，也就是对应的工艺节点超越5nm，这样......
压印技术就是把刻有半导体电路图的掩模压印到晶圆上。在晶圆上只压印一次，就可以在合适的位置形成复杂的2D或3D电路。如果改进掩模，甚至可以生产电路线宽达到2nm节点的产品。目前，的纳米压印技术使图案的最小线宽对应5nm节点逻辑半导体。 ......
入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i......
EUV将成主流，哪些公司将受伤？; 来源：内容来自 华盛证券，作者华盛九叔 ，谢谢。 据相关机构统计，整个2016年，ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58......
就拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供货商。它是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，目前全世界没有一家企业、甚至可以说没有一个国家可以独立完成EUV光刻机的完整制造。 目前ASML仍然......
可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。 而浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，也被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，如果一旦浸没式光刻机......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
丽国厂商把持的工艺设备。据方正证券的电子首席分析师陈杭表示，目前光刻机大致分为两类：一是DUV深紫外线光刻机，其可以制造0.13微米到7纳米的芯片；二是EUV极紫外线光刻机，适合7nm到3nm以下芯片。目前DUV光刻机......
面缺陷的技术以及局部光散射体(LLS)。以上两类技术都受到国家安全和反恐管制的约束。 目前全世界唯一能生产EUV光刻机的企业只有荷兰ASML公司，而ASML最大的两大股东资本国际集团(MSCI)和贝莱德集团(BlackRock......
这并不是经济上可实现的极限，台积电N5工艺使用的28nm最小金属间距可以在没有EUV的情况下制造。使用ArFi光刻的SAQP理论上也可以实现。如果目标是阻止中国实现5nm制程技术，那么ArFi的出货就必须被阻止，ASML和......
中荷两国和双方企业共同利益。 作为全球光刻技术的领导者，ASML成立于1984年，目前在16个国家和地区超过60个城市设有办公室，员工超过3.5万人。 如今，ASML占据了全球60%以上光刻机市场份额，也是......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产......
NA EUV —— EXE:5000的部分组件。High NA EUV设备被誉为“下一代EUV光刻机”，其数值孔径（NA）为0.55，可用于制造5nm及以下（2nm/1nm）芯片产品，预估......
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
/5nm工艺，台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。 目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术，以满......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
又一台天价光刻机，即将出货！; 据韩媒最新报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV（极紫外）光刻机设备，这或......
细，显然量子芯片才是未来的方向。 其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
名员工。该公司目前在首都拥有1700名员工，预计几年内将增加到2300人。 据悉，ASML柏林工厂主要生产的零部件包括晶圆台、光罩盘以及反射镜等光刻机核心零部件。ASML在2020年收......
降低芯片制造的成本。日本无疑是开创者，日本开发的NIL工艺已投入实际生产，被铠侠用于生产存储芯片，近期日本方面宣布NIL工艺已推进至10nm以下，预计NIL工艺可以推进至5nm。 如今美国的Zyvex......
应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。 表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。 IT之家注：纳米印刷（Nanoprinted......
有可能提高至220片。此外，新工具还提供了小于1.1nm的晶圆对准精度。 即便用于4/5nm芯片的生产，Twinscan NXE:3800E也能提升效率，让制造商可以提高芯片生产的经济性，实现更为高效且更具成本效益的芯片生产......
就需要用到一种设备——光刻机。 目前上海微电子装备公司生产的600系列光刻机代表了中国的最高水平，加工精度只有90nm。而世界上最先进的光刻机，荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）已经可以满足5nm......
限制 DUV，ASML 出口新规或将于近日实施！; 业内消息，荷兰政府的半导体新规预计最快会在下周开始实施，届时 的 DUV 光刻机将被限制出口。 2023 年 3 月，荷兰政府声称对半导体技术出口实施新的限制以保护国家......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心;最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（），用于生产......
ASML 正在准备向客户交付首台 High-NA EUV 光刻机，大概会在明年某个时间点完成。另外，High NA EUV光刻机可以用于生产制造1nm以上制程的芯片，主要是用于生产制造2nm等芯片，单台......
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将......
是中国大陆、韩国、新加坡，美国和欧洲分别占营收12%和4%。 ASML主要提供先进光刻设备，并且是唯一一家可以量产极紫外（EUV）光刻机的厂商。目前来看，唯有日本佳能（Canon）和尼康（Nikon）的产品半导体光刻机......
解，ASML的光刻机技术来自全球40多个国家、数百家供应商，就连美国也没有独立生产制造光刻机的能力。 另外，在ASML生产制造的光刻机中，美国技术占比是有限的。因此，美方修改规则限制出货，这对ASML......
～14nm）以下，就有可能需要用到EUV光刻机。届时，存储器厂商订的EUV设备将有大的爆发。 据悉，三星电子目前已经尝试将EUV应用于1z DRAM的生产当中。2020年8月，三星电子宣布在平泽工厂新建的第二座生产线开始生产......
（属于DUV光刻机）的出口。 需要指出的是，该设备对制造尖端芯片至关重要。一旦浸没式光刻机被加入限制，则意味着中国自45nm及以下成熟制程芯片的生产可能也将受到影响。不过，从美......
两年是芯片缺产能，然而今年下半年开始市场需求不足，芯片产能又大增，台积电现在要发愁的是5nm产能利用率。来自供应链的消息称，由于5nm芯片的利用率下降，台积电不得不考虑关闭部分EUV光刻机，该公......
ASML柏林厂大火恐将影响EUV光刻机供应...;市调机构TrendForce在最新调查中指出，占地32,000平方公尺的柏林厂区中，约200平方公尺厂区受火灾影响。而柏林厂区主要制造光刻机......
等厂家。台积电是世界上为数不多既可以生产晶圆还拥有研发技术能力的厂家。台积电不仅拥有先进的生产制造设备，而且还能够生产出良品率比较高的产品，在业界也是数一数二的存在。 台积......
进行多次曝光。 至于DUV是否能进行7nm以下更先进的制程？据台积电前研发副总林本坚（Burn Lin）表示，依靠ASML的DUV光刻机，是可以继续将制程工艺从7nm再推向5nm，但要......
开消息显示，英特尔目前已获得ASML的先进光刻机，极紫外 (EUV) 光刻机。 据悉4月上旬，英特尔在位于爱尔兰Leixlip的Fab 34工厂，完成了首台极紫外（EUV）光刻机的安装，Fab 34......
EUV光刻机设备，用于7nm、5nm、4nm等先进制程，且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程，这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示，因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果，使台......
需要耐心和坚定。」张宏说，他还指出，芯片生产不是一个国家能够独立完成的事情，中国应该寻求与主张全球化的国家合作。 最先进的 EUV 光刻机拥有超过 45 万个零部件，超过 F1 赛车的零部件数量 20 多倍。即便......
让华为制定供应 7000 万部智能手机的计划。 据称，中国最新的先进制程工艺使用了荷兰ASML 的 Twinscan NXT:2000i 系列光刻工具，这是一种深紫外 (DUV) 光刻设备，可以生产......
扩产潮下，芯片制造商未来2年内将面临设备短缺问题？;外媒报道，近日光刻机巨头ASML（阿斯麦）首席执行官彼得•温宁克表示，芯片制造商们的扩张计划，将受到未来两年关键设备短缺的限制，这种短缺会导致供应链难以提高生产......
向塔斯社报告了这一点。 他表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10......
胶的晶圆上来转移电路图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上如实再现。 佳能表示，相较于传统光刻机......

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