资讯

成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
方的面板营收超过了Samsung Display。加上主要的LCD面板制造商都在大陆和台湾,这种情况也比较容易预期。 2.佳能现在的光刻机是什么水平? 我们也询问了,用佳能光刻机以后,foundry厂所......
新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。 纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio......
佳能可能解决了这些问题。 纳米压印是一种微纳加工技术,它采用传统机械模具微复型原理,能够代替传统且复杂的光学光刻技术。简单而言,像盖章一样造芯片,把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上,再将印章盖在橡皮泥上,得到......
压印技术,完全有替代EUV光刻机的可能性,目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能,佳能在NIL技术上专利全球最多,且已经有了量产机器,目前在改进精度,希望国产加油,也能够赶紧推出NIL光刻机......
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息,据彭博社报道,佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
用小芯片技术设计的芯片,采用的是不同的架构,依赖的是芯片制造的后道环节。传统方法现在依赖的是ASML的光刻机和台积电的制造技术,而小芯片技术则不然,所依赖的是先进封装光刻机和先进封装技术。 上面......
龙头ASML的光刻机产品。来自日本的半导体设备进口额成长约40%、来自美国的进口额则仅增长20%。 2023年10月,中国大陆从荷兰进口的光刻机数量达21台,总价值6.725亿美......
外交部确认了即将举行的会议,但没有详细说明议程上的议题。“荷兰总是与我们的合作伙伴进行良好的讨论。周一的官员会议就是一个例子,”该部告诉路透社。 ASML是全球最大的光刻机制造商,也是唯一的极紫外(EUV......
成本几十万,俄罗斯也要自研“光刻机”?;据俄罗斯cnews报道,圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体,在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称,第一台用于无掩模纳米光刻......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
10亿一台仍供不应求!目前,全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机,台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂,这些技术掌握在由42个国......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中,你将了解到:纳米压印光刻能绕开光刻机吗,纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势,纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
提供部分设备的维修服务。 在业绩电话会上,ASML首席执行官温宁克回应称,“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。” 光刻机是制造芯片的关键设备,中国大陆是ASML的第二大市场。 因此......
实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。   半导体制造领域,光刻机是昂贵且关键的设备,而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”,担负......
装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。 EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。 但问题是EUV光刻机......
每一步骤都是在前一步的基础上进行的,最终成品率是每一步成功率的乘积。若整个流程包含超过两千个步骤,即使每一步都能达到99%的成功率,最终生产出来的成品率也只有0。 因此在芯片制造技术中,好的设备很关键,尤其是需要高精度的光刻机......
近500亿元!EUV光刻机巨头挣翻了;7月17日,全球最大的光刻设备厂商阿斯麦(ASML)公布2024年第二季度业绩。根据数据,ASML Q2总净销售额 62.43亿欧元(约491亿元人民币),净利......
影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。但这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少......
大幅扩充人员规模 光刻机是芯片制造流程中,光刻工艺的核心设备,具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一,尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片,则只有ASML一家......
机器,包括最先进的极紫外光刻机(EUV)。 ASML不装了 为了让中国不能获取先进光刻机和芯片,美国绞尽了脑汁。而这一次,他们又把目光锁定在台积电厂房内的光刻机和产线。 据外......
脖子的设备有很多,但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说,5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为,当金属间距缩小到30nm以下(对应工艺节点超越5nm),光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
细,显然量子芯片才是未来的方向。 其次,量子芯片的生产原理和硅基芯片不同,完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机,就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖,而靠我们一己之力去攻克光刻机......
康指出,高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂,但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展,只能采取从低到高的策略,比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机,以及周边设备材料等,EUV......
工厂、大学和研究所等。其光刻机产品在中国本土市场上占据了重要的份额,是中国半导体产业中不可或缺的一部分。 产品特点与优势 ABM Inc.的光刻机产品种类丰富,包括有掩膜和无掩膜光刻机。有掩膜光刻机是半导体制造的主流光刻机......
是两种不同的技术路线。两者的目标相同,简单描述就是将设计好的集成电路图“复制粘贴”到硅片上。而实现方法却大有不同,形象地比喻类似“照相”与“盖印章”。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻......
在本次官方禁令范围内。该机器可支持中芯国际、华虹等国内半导体来生产 28nm 以上的成熟工艺。 据悉,该光刻机是 ASML 现有效率比较低的光刻机,支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38......
称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。 消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造,而......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日,佳能宣布成功交付首台新型纳米压印(NIL)光刻机,设备将被送往美国得克萨斯电子研究所(TIE)。 资料显示,TIE设立于2021年、是由......
头争霸的格局。值得注意的是2016年Q1的ASML销售额中,有35%销往中国,除了三星在西安的超大型3D 10纳米级NAND芯片厂扩产外 和intel在大连的芯片厂升级外,中国本土厂商也买到了ASML的光刻机......
俄罗斯要建 10 台超级计算机,还要自研光刻机?; 业内消息,近日多家外媒报道俄罗斯定下多个宏大科技领域的目标,其中包括在 2030 年之前建造 10 台的,此外还包括在圣彼得堡理工大学的光刻......
俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出,俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出,2024年将开始生产350纳米光刻机......
元件尺寸以及优化器件电路设计。 △Source:英伟达官网 其中,元件尺寸缩小在很大程度上是由光刻工艺和技术的发展推动的。光刻阶段,晶圆会被放入光刻机中,被暴露在深紫外光(DUV)下,光线会通过“掩模版”投射到晶圆上,光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻......
是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤,其成本占总生产成本30%以上,占据将近50%的生产周期。卡中国脖子的设备有很多,光刻机是国产化率成长最慢的一个。虽然如此,无论资本市场,还是自媒体,现在......
存储市场吹响EUV光刻机集结号;AI浪潮下,存储市场DRAM芯片正朝着更小、更快、更好的方向发展,EUV光刻机担当重任。三大DRAM原厂中有两家已经引进EUV光刻机生产DRAM芯片,美光......
在新北市林口工一产业园区内新建厂区,扩大产能。 说起芯片产业,就不得不提起ASML。作为全球最大的光刻机厂商,无论是用于14nm及以上的DUV光刻机,还是用于10nm及以下的EUV光刻机,ASML都是......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源,这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中,光刻机是必不可少的精密设备,是集......
成为最重要的三大前道设备之一,所以并不是有了光刻机就能造芯片,光刻只是芯片制造工艺流程的中的一个,还需要其他6大前道工艺设备的支撑,其重要程度与光刻机同等重要。误区二:中国最紧迫的是造出光刻机?误区......
CIS集成电路半导体项目正式搬入ASML先进ArF光刻机设备;11月,位于上海临港新片区的鼎泰匠芯洁净室正式交付,还搬入了首台ASML光刻机。 ASML:一如既往地投入和支持中国市场 光刻机是......
光刻机。 如果目标是阻止中国扩大其14纳米工艺技术大规模量产,那么必须阻止所有可以实现节点上最小金属间距64纳米的工具,理论上,连KrF光刻机......
亿欧元,毛利率为48.6%,净利润达36亿欧元。 EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备,主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年,ASML共销售31台EUV,较前一年增加5台,创收45......
晶圆代工厂“头疼”?阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日,据朝鲜日报报道,阿斯麦(ASML)将针对1纳米以下制程,计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
尼康计划推出支持3D半导体的光刻机,目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道,尼康计划在2025财年(截至2026年3月)将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年(截至2022......
在世界上首次实现了1微米以下的曝光,此项技术作为“重要科学技术历史资料(未来技术遗产)”,于2010年被日本国立科学博物馆产业技术历史资料信息中心收录。 目前佳能的光刻机阵容包括i线光刻机和KrF光刻机产品线,并根......
装备、5G、人工智能、工业互联网等领域。 据增芯科技总经理张亮介绍,增芯此次引进的光刻机产能输出速率可达到260片/小时,其资金投入占整个工厂建设投资的约25%。 光刻机是......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米; 12月10日消息,宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”,生产效率、套刻......
主要被用于45nm以下成熟制程的生产。 依据ASML在声明中所言,主要关注成熟制程的客户,使用不太先进的浸没式光刻工具也能够得到很好的服务。 TWINSCAN NXT: 2000i 是ASML生产的一款用于半导体制造的光刻机......
也成为欧洲最先进的芯片制造工厂。 据ASML发言人称,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍,同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。 极紫......
购了这家名为Berliner Glas的工厂。 晶圆代工厂疯抢光刻机设备 光刻机是一种制造芯片的关键设备,利用特定波长的光进行辐射,将掩膜版上特定的图像精准的印刻在硅片上。目前,光刻机......
也卖不动了,台积电被曝砍单40%订单。 EUV光刻机是7nm以下工艺必不可少的核心设备,全球只有荷兰ASML公司能够生产,售价高达10亿,下一代EUV光刻机会更会涨价到25亿以上,但是......

相关企业

;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;深圳天和;;做中国最好的IC
;宜昌市创新电器有限责任公司;;做中国最好的
;地方城市门户;;中国最好的网站源码,包括地方城市门户源码,博客,电影,行业网站,租房,房产,人才,小说,企业,网站域名,网站服务器,空间等。 本公司的网站服务器空间是中国最好,价格最优惠的。有需
;多元电气集团;;中国最好的胶印机制造厂商,力争超过海德堡
担激光机的维修和承接激光加工业务。本公司生产激光刻字机已有多年的历史,中国第一台激光刻字机是由本公司的总经理和总工程师在20世纪80年代初率先开发成功的。目前已形成灯泵浦的YAG激光刻字机、二极管泵浦的YAG激光刻字机、脉冲
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;Creative Union International;;我们是国外采购商在中国的贸易合作伙伴。我们致力于为客户提供最好的采购服务,帮客户以最低的价格寻找到中国最新最好的产品。降低
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
表面刻字,金属电刻字机,手写电刻笔,压字机,国产 质量最好的,最便宜的,dymo打马机,铜标牌雕刻机,电动标记机,电脑钢印打字机,电脑刻钢字,电脑刻印机,电子标签机,电子振动刻字机,钢号,钢印打码机,钢字