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技术领域一直处于垄断地位，而佳能纳米压印光刻技术的出现，有望打破这一局面，使芯片制造更加多元化，从而推动整个行业的发展。 ASML公司作为光刻机领域的龙头企业，面临着前所未有的竞争压力。新技......
了国内许多优秀的半导体企业，尤其是在半导体材料方面，不仅有沪硅产业这样的龙头，也有南大光电和晶瑞股份这样知名的国产光刻胶企业。 接下来， 跟随小编一起逛一逛那些 参加2021 SEMICON......
64亿美元！日本光刻胶龙头被高溢价私有化; 据外媒报道，日本政府支持的投资公司JIC（产业革新投资机构）计划斥资约9093亿日元（约合64 亿美元），收购日本光刻胶龙头JSR。 JIC计划12月底......
在每次只能采购到10-20公斤。 很明显，最近半导体行业的缺“芯”难题，已经上导到上游材料领域。由于半导体光刻胶的行业集中度高，龙头企业市场份额高，行业利润水平高，且暂无潜在替代产品。作为半导体芯片......
，到目前为止，三星电子生产3D NAND芯片的光刻胶仍由Dongjin Semichem独家供应。三星一直试图减少对该家光刻胶公司的依赖，报道指出，虽然三星曾与至少四家潜在的日本光刻胶供应商接触，但这......
晶瑞电材KrF光刻胶项目获新进展;近日，晶瑞电材发布了2021年年报，年报披露，晶瑞电材2021年实现营业总收入183,208.76万元，较上年同期增长79.21%。其中晶瑞电材光刻胶......
多数材料具备极高的技术壁垒，因此半导体材料企业在半导体行业中占据着至关重要的地位。而日本企业在硅晶圆、合成半导体晶圆、光罩、光刻胶、药业、靶材料、保护涂膜、引线架、陶瓷板、塑料板、 TAB、 COF、焊线、封装......
机等已经完成安装并投入使用。 据披露，宁波南大光电已建成年产25吨的ArF（干式和浸没式）光刻胶产品生产线；研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片......
产品开发和产业化队伍。建成年产25吨的ArF（干式和浸没式）光刻胶产品和生产线；研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进，为ArF光刻胶......
时间。 ArF光刻胶是什么？ 芯片生产过程中，需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上，而这种辅助的光学材料，就是光刻胶。 从光刻胶的发展历程看，从 20 世纪 50 年代至今，光刻......
美开发“塑胶芯片”，价格不到1美分？;据外媒报道，美国伊利诺大学厄巴纳-香槟分校与柔性电子制造商PragmatIC半导体，共同设计了一款廉价的塑胶处理器，并预估能以不到1美分的价格大规模生产，真正......
润邦半导体二期半导体光刻胶项目奠基，总投资6亿元;据金港潮消息，6月30日，润邦半导体材料科技有限公司（以下简称“润邦半导体”）二期半导体光刻胶项目奠基仪式举行。 润邦......
的问题不是精度不够，而是速度太慢，每小时才10片硅片左右。 但是现阶段中国芯片制造业的龙头企业中芯国际,它的量产制程能力是28纳米，几乎差了三代。因此假设有一天台积电不让海思代工，而海......
光电、苏州瑞红、北京科华微、徐州博康、武汉鼎龙等多家龙头光刻胶企业，成为中国光刻胶企业国产PAG的领先供应商。......
材料包括硅晶圆片、化合物半导体；制造材料包括电子特气、溅射靶材、光刻胶、抛光材料、掩膜版、湿电子化学品；封装材料包括芯片粘结材料、键合丝、陶瓷封装材料、引线框架、封装基板、切割材料。 半导......
ASML股价继续大跌：想卖先进光刻机给中国厂商 但不被允许; 10月17日消息，由于业绩暴雷，这导致龙头股价暴跌，而两天时间股价已跌超20%。 据官方公布的数据看，阿斯麦(ASML......
芯材始终专注于高端半导体DUV级别（ArF/KrF）光刻胶核心主材料的研发与生产，凭借PPB级别的金属杂质控制及多步合成的定制化开发等核心技术，已成功导入国内阜阳欣奕华、南大光电、苏州瑞红、北京科华微、徐州博康、武汉鼎龙等多家龙头光刻胶......
，日韩贸易争端期间，日本政府宣布限制对韩国出口原产于日本的半导体材料、OLED材料等，其中就涉及了半导体用光刻胶。 随着芯片集成度日渐提升，对光刻技术的精密性要求也更严格，半导体光刻胶......
对半导体行业面临的一系列挑战。 昭和电工是半导体上游材料领域龙头企业，也是台积电和英飞凌等众多半导体公司的关键芯片材料供应商，其宣布涨价的决定，令半导体材料市场供需状态受到关注。 半导体材料需求旺盛，三类产品涨势明显 半导......
的市场需求还没有完全跟上来。 5 结语 总体而言，部分终端需求回升，拉动上游芯片增长，随着存储芯片、手机CIS传感器、光刻胶等涨价潮延续至模拟芯片，同时伴随着国际龙头减产动作持续，业界......
两会提案聚焦：自主可控、光刻胶、三代半、人才培养等;3月4日，全国两会正式开幕。其中国务院总理李克强、国务院副总理刘鹤、全国政协委员张英等人提及“集成电路”、“芯片”等关键词。此外，来自......
晶圆厂都在加速验证导入本土KrF光刻胶。但是，光刻胶要想真正实现“本土化”，其实还有很多亟待突破的壁垒。市场行业特性壁垒和技术壁垒就是其中难以迈过的“两道坎”。 在市场行业特性壁垒方面，步日欣向《中国......
产业螺旋式发展，实现产业链内企事业单位的合作共赢，真正达到推进光刻胶国产化的目的。 报名费用 如何付款 银行......
/3，121.2亿美元。而特气、光掩膜板和光刻胶各约40亿美元以上； 半导体晶圆制造材料的产业态势： 供应高度垄断。供方商高度集中，单一......
来说，目前国外的光刻胶阻抗可以做到10^15，国内基本上停留在10^10。阻抗越高纯度越高，光刻胶纯度不足会造成芯片良率下降，甚至污染事故。2019年台积电就因为光阻原料污染导致上万片12寸晶......
这家企业欲收购光刻胶龙头关键股份;日本芯片材料厂商Resonac的首席执行官Hidehito Takahashi正在为日本分散的芯片材料行业的另一轮整合做准备，并表示公司可能会出手收购JSR的关......
网视频截图 例如，集成电路签约项目包括梧升研发总部项目、彤程光刻胶制造项目、碳化硅总部及产业园项目、金宏电子特气制造项目等。 据国际金融报报道，上海梧升电子科技(集团)有限......
功进入海内外十余家客户的晶圆产线。公司MOCVD设备持续在行业领先客户生产线上大规模投入量产，保持在行业内的领先地位。 推动材料升级加速国产化 投资南大光电 加速光刻胶国产替代 8月23日，南大......
这种重构掩模图形的技术。 资料显示，计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态。 光刻机龙头ASML在其公众号上介绍，“计算光刻将算法模型与光刻......
学反应机理上看，光刻胶可分为负性和正性两类。其中，负性光刻胶在显影时，由于易变形和膨胀，通常情况下其分辨率只能达到2µm，更适用于低成本低价质量的芯片；而正性光刻胶分辨率对比度高，更适用于小型图形，高端光刻胶......
中已能实现一定替代，ArF 光刻胶则逐步取得核心突破，国产化前景光明。 硅片是大宗半导体材料，中国集成电路产量的增长，直接带动硅片需求量的增加，这给本土硅片厂商带来了巨大商机。 6 月 11 日，中国大陆硅片龙头......
的建设能大幅提升公司产能，有效消除昆山工厂产能瓶颈对于公司发展的限制，进一步扩大公司电子化学品的供应能力，巩固公司行业龙头位置。 集成电路材料测试中心项目总投资4.5亿元，主要开展半导体光刻胶、晶圆......
方面，以ChatGPT为代表的生成式人工智能对下游高性能逻辑和存储芯片的带动作用显著。但从短期数据进行分析，目前AI暂时无法替代消费电子产品对集成电路产品需求的整体拉动作用。当前集成电路制造厂以及部分互联网龙头......
的还包括光掩膜缺陷检测和涂覆显影等周边设备，以及光刻胶等关键材料。 光掩膜缺陷检测设备可检测光掩膜中存在的缺陷，如果承载原始电路的光掩膜存在缺陷，则芯片的缺陷率将相应增加。因此该设备也十分重要。日本Lasertec是这......
光刻胶龙头“掌门人”身陷天价离婚案，140亿元怎么分？; 在资本市场中，上市公司“掌门人”的婚姻状况从来不是“家务事”。因为一旦他们劳燕分飞，不仅会直接导致“天价”股权等财产分割，还可......
产品正在继续发往多个下游客户进行验证工作，验证进展顺利。从目前测试结果看，ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平，并实现了ArF光刻胶国产化和本土化，打破了被国外长期垄断的被动局面，测试中的ArF光刻胶可以用于逻辑芯片和存储芯片......
进一步扩大生产的能力，建议抓住机遇，尽快扩产。 南大光电表示，ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片......
目前主要量产的产品为g线、i线正性/负性光刻胶，可用于LED芯片、分立器件、集成电路芯片等，目前芯片主要客户以6寸及以下的Fab为主，正在积极开拓8寸及12寸客户。随着公司对光刻胶的持续投入，将会逐步进入更高端光刻胶......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局;有一种材料，占半导体市场不到1%的规模，却决定了芯片能否生产，该材料的供应商集中在日美两国，尤其是头部企业在日本最为聚集，这种材料就是光刻胶......
线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，KrF光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段。ArF高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片......
与掩膜版完全对应的几何图形。 光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40-50%，是半导体制造中最核心的工艺。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类， 根据......
展现巨大增长潜力，中韩供应商力争本土化突破 随着对先进工艺需求的持续增长，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻胶也将持续增长。特别是，EUV 光刻胶有望大幅增长，这主要是因为该行业追求具有更高计算能力和能源效率的芯片......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
持公司的核心竞争优势，未来公司将会持续保持产品研发投入力度，不断提高产品性能，丰富产品体系。3月12日，容大感光在互动平台表示，公司目前可以用于芯片制程的i线光刻胶可以满足0.35μm及以上线宽的光刻......
产品通过了客户认证，并成功取得订单，其中通过认证的KrF光刻胶产品客户数量不断增加，已进入国内主流芯片制造公司。目前除ArF光刻胶外，上海新阳EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中；KrF光刻胶......
徐州博康：半导体光刻胶获国内主流存储芯片厂客户订单;据华懋科技官方消息，华懋科技旗下徐州博康近期收到某国内主流存储芯片厂商的半导体光刻胶采购订单，此前该产品型号全部依赖于海外进口。 据悉，该产......
南大光电：ArF光刻胶产品再次通过客户认证;5月31日，南大光电发布公告，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称“宁波南大光电”）自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片......
南大光电ArF光刻胶产品取得逻辑芯片制造企业55nm技术节点认证突破;6月1日，江苏南大光电材料股份有限公司（以下简称“南大光电”）发布公告称，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称“宁波......
材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造。 全球半导体光刻胶市场集中度高，市场被美日公司长期垄断,日本的JSR、东京......
（248nm深紫外）光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段。ArF高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，满足......

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;深圳容大感光科技股份有限公司;;深圳市容大感光科技股份有限公司成立于1996年，是一家专业生产PCB油墨、LED白油、五金玻璃油墨、正性负性光刻胶、金盐等光电化学材料的专业制造商。公司
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