2月14日晚间，上海新阳发布公告称，公司拟与上海化学工业区管委会、上海化学工业区发展有限公司签订《投资意向协议》，变更全资子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司注册于上海化学工业区，并启动位于上海化学工业区的项目建设。

据公告披露，项目主要开发集成电路关键工艺材料，总投资额约5.8亿元，占地约104亩。预计年产500吨I线、KrF、ArF干/湿法光刻胶；年产10000吨光刻胶稀释剂；年产5000吨高选择比氮化钛刻蚀液系列产品；年产15000吨干法蚀刻清洗液系列产品。

项目拟于2023年取得施工许可证，2025年底前竣工，2026年6月底前投产。

公开资料显示，光刻胶是一种对光敏感的混合液体，其主要作用是通过光化学反应，基于曝光、显影等光工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩(掩模版)转移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻胶还可以保护硅基材免受腐蚀，阻止离子影响。

光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。

上海新阳曾于2022年8月左右表示，公司在ArF光刻胶方面，ArF、ArF-i光刻胶研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试，此外ArF浸没式光刻胶产品已有样品在测试阶段。

据悉，上海新阳主攻KrF和干法ArF光刻胶，已经进入产能建设阶段。其在2020年11月3日定增预案，公司拟定增募资不超过14.50亿元，其中8.15亿元拟投资于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目，主要目标为实现ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化，力争于2023年前实现上述产品的产业化，填补国内空白。2021年6月，上海新阳宣布，该公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品通过了客户认证，并成功取得订单，其中通过认证的KrF光刻胶产品客户数量不断增加，已进入国内主流芯片制造公司。目前除ArF光刻胶外，上海新阳EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中；KrF光刻胶已有订单客户超3家。

在ArF光刻胶的产业化进程上，除了上海新阳，南大光电、徐州博康也取得较大进展。南大光电ArF光刻胶有小批量订单，尚未规模量产，目前已建成25吨产能的ArF光刻胶生产线。公司在2022年年末表示，ArF光刻胶项目正在顺利推进，有多款ArF光刻产品在国内大型芯片制造企业正进行测试；徐州博康则在2022年11月22日举办的势银光刻胶产业大会上表示，ArF光刻胶已经有两支产品通过了客户的小批量采购，有4支产品在国际厂进行验证评估，预计2022年12月和2023年一季度就会产生一定量的采购订单。

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