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俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出,俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出,2024年将开始生产350纳米光刻机......
3.5 版本,甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。 据俄罗斯cnews报道,圣彼得堡创建了一个光刻综合体,该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
于蚀刻生产无掩模芯片,这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。 该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一......
成本几十万,俄罗斯也要自研“光刻机”?;据俄罗斯cnews报道,圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体,在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称,第一台用于无掩模纳米光刻......
再努力出货,供应客户是长江存储(复购)、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩,每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%,基本......
再努力出货,供应客户是长江存储(复购)、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩,每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%,基本......
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址:该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一种工具的成本未知。 开发人员介绍,传统光刻......
联动”,先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升,14纳米先进工艺规模实现量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。 吴金......
国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院澄清;近期,一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏,消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化,并表示该项目已在雄安新区落地。 对此,9月18日中......
线宽,双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上,能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻,有望使国产集成电路光刻机......
年的3家上升至7家,分别是中微公司、盛美上海、至纯科技、华海清科、拓荆科技、长川科技、芯源微。 图片来源:全球半导体观察制表 单从刚过去的2023年前三季度营收看,有12家企......
积电也将在下半年开始量产3纳米。但近日,台积电方暗示4nm、3nm等产能将趋于紧张,原因显示可能是先进制造设备到货延期,这直接指向DUV和EUV光刻机。业界猜测,受到光刻机设备短缺影响,近两......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超?(附厂商盘点);刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺,有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化(CMP)等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室,成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产,成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。 此外,为助......
专家组都说了:‘该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
过科创板上市委会议,这意味着其距离上市又进了一步;上海微电子则专攻光刻机,其技术在中低端领域已达相对较领先水平,产品已实现90nm制程覆盖。 在众多设备领域中,光刻机......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中,你将了解到:纳米压印光刻能绕开光刻机吗,纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势,纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
,该手机的系统芯片采用了中芯国际的技术,当于工艺。由于ASML无法出售最新的光刻,中芯国的工艺可能是以28nm光刻机进行重复曝光后完成,虽然这种做法技术难度大,良率较低,成本也高出许多。 目前中国大陆国产最先进的仍是上海......
上海中微临港产业化基地(一期)项目主厂房封顶;据人民网报道,此前2021年6月20日,在临港新片区第二季度建设工程集中开工仪式上,中微临港产业化基地项目正式开工。上海中微临港产业化基地(一期)项目......
370亿项目搬入光刻机;3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(以下简称“增芯项目”)迎来工厂最核心设备--光刻机搬入,标志......
考虑扩大在刻蚀设备领域的竞争优势,延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。 图片来源:中微公司2020年度业绩说明会视频截图 至于业界关注的光刻机研发计划,尹志尧则表示,公司......
新世纪以来中国半导体业发展进入一个新时期,如果回顾这段历程,将-芯片制造业的领头羊;上海中微半导体设备-中国优秀半导体设备制造商,以及华为海思-中国芯片设计业的领头羊,它们三家的情况较为典型。 这三家公司在发展中都先后经受、中国......
公司年报截图 在年报中,中微公司就刻蚀技术的未来发展作出了分析。分析指出随着芯片制程向5纳米及更先进制程发展,当前浸没式光刻机受光波长的限制,需要结合刻蚀和薄膜设备,采用多重模板工艺,利用......
氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备;芯源微中标1台聚合物涂胶显影机;阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。 官方信息显示,上海积塔半导体此次是为特色工艺生产线项目招标。该项目2017年签约落户上海临港,2018年8月开......
器件、太阳能领域的关键设备;三是进军光学检测设备,中微公司通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备,近期将尽快开发出电子束检测设备,这也是除光刻机以外最大的短板。 目前中微......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关,半个多世纪以来,光刻机光源的波长不断缩小,芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV(极紫外光源)光刻......
国产光刻机巨头,更新上市进展?;近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE,简称 “上海微电子”)IPO动态消息震动产业界,概念股乘势而起,那么实际情况究竟如何? 并未......
中微公司拟1.08亿元增资上海睿励 完善业务布局;3月9日,中微公司发布公告称,公司基于经营战略发展考虑,公司拟以现金方式投资1.08亿元人民币,认购上海睿励新增注册资本7576.68万元......
设备(特别是EUV光刻机)等领域仍存在一定差距,但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域,中国企业已经取得了一定的市场份额,并逐步实现国产化替代。 市场......
EUV没有直接联系的工序数也会增加。 国内设备厂芯源微日前表示,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌,以及上海微电子(SMEE)的光刻机......
学科负责人。通过3年多的奋斗,他组建了SMEE第一个控制工程实验室,解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。“20年前参加国家的重大专项,100纳米分辨率光刻机的研制,回到学校以后就一直在从事计算光刻......
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示;7月18日,中国招标投标公共服务平台官网公示,上海华虹宏力半导体制造有限公司(以下简称“华虹宏力”)中紫外步进式光刻机项目中标结果。标的物为中紫外步进式光刻机......
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示,光源还可以继续用193纳米,但换个介质试试,不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质,光源通过水会产生折射,使193纳米光源实际效果可能比157......
1998年获工学博士学位。 2002年,刘世元在学院派遣下,作为最早的几个技术骨干之一,加盟上海微电子装备有限公司(SMEE),承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务,为总......
可进一步用来生产2纳米产品。此外,日媒报道,佳能光学设备事业本部副本部长岩本和德近日对外表示,目标在3-5年内、每年卖出十几台光刻机。......
装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。 EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。 但问题是EUV光刻机......
芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升,14纳米先进工艺规模实现量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。 吴金城指出,上海......
为主导。近年来,上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高,虽在光刻机、量测检测设备、离子......
博康曾先后与中科院微电子所建立了校企联盟,与复旦大学、加拿大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室,成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产,成为中国唯一的高端光刻......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机3大新方向;众所周知,当前全球只有一家能够生产,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有能够生产,不会有第二家。本文引用地址:原因在于把的路堵住了,这条......
杀器 光刻机之王的桂冠,如今戴在ASML的头上,但正如众人所熟知的那样,20年前这项荣誉属于尼康。 尼康成立于1917年,上世纪60年代涉足半导体业务,得益于上世纪80年代......
价格或将超过3亿美元,这也使得尖端制程所需的成本越来越高。 相比之下,的目前纳米压印技术将可以使得芯片制造商不依赖于EUV光刻机就能生产最小5nm制程节点的逻辑半导体。 佳能......
中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业秘密案,终审胜诉!;7月11日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布,公司在针对美国半导体设备大厂泛林集团(Lam Research......
中微半导体诉讼美国泛林公司非法获取商业机密获胜; 据业内信息,昨天中微半导体设备(上海)股份有限公司宣布,在针对美国半导体设备大厂泛林集团(Lam Research Corporation......
光刻机。 如果目标是阻止中国扩大其14纳米工艺技术大规模量产,那么必须阻止所有可以实现节点上最小金属间距64纳米的工具,理论上,连KrF光刻机......
俄罗斯媒体:中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章,原题:重大成就:中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道,上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
出了全球首个采用全栅极(GAA)技术的3纳米半导体芯片制程技术后,三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机,目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术,2025年进入2纳米制程技术,并在2027年进入1.4......
半导体设备厂商近年来不断加大自主研发力度,半导体设备国产化比重逐步提升,一些行业龙头企业也正迎来发展拐点。业内人士表示,投资者可关注相关板块。 记者近日从中微半导体设备(上海)有限公司采访获悉,作为......

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;上海方晟光电科技有限公司;;上海方晟光电科技有限公司是一家专业从事纳米光学技术开发的高科技公司。其产品应用于汽车仪表、医疗器械、广告超薄灯箱、会展展示、居家装潢、婚纱影楼等行业。s
材料的论文 7 篇,已申请的国家专利共 7 项,正在申请中的有 3 项 公司已经建成具有国际领先水平的纳米光催化材料自动化生产线,年产规模达千吨。 2005年9月温家宝总理到广东考察时,奥因纳米材料被广州市科委列为十家重点推荐项目之一 。
标记机,激光标刻机,激光刻码机,激光标码机,镭射打标机,亚铬激光打标机,激光刻字,激光打标加工3)金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属刻字机,金属印字机,金属打标机,金属
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司
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;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司;;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 公司代理进口优质的日本纳米光触媒系列产品,将日本经过多年研究研制成功的纳米
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;上海中连电气有限公司;;上海中连电气有限公司位于中国上海市徐汇区石龙路345弄7号302室 近上海南站地铁3号线石龙路即到 上海中连电气有限公司是一家销售、维修变频器、PLC、人机界面、伺服
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