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技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
另辟蹊径？俄罗斯拟自研“比ASML便宜”的EUV光刻机;综合CNews、Tom′s Hardware报道，俄罗斯科学院微结构物理研究所（IPM RAS）宣布了一项名为“高性能X射线光刻发展新概念......
EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。 NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。 ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
的升级就势必与分辨率水平相关联。 光刻机演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV 作为 7nm 及更先进制程芯片的基础，采用了更加成熟化的极紫外光源，同时还采用了立体化的全数控光刻......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前......
国电子院官微进行了澄清。该项目不是国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS），而且项目位于北京怀柔雁栖湖畔。 HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产......
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机摆脱一味采用更短波长光源......
易制造。 据悉，俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源，而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可......
大幅增加。 所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯，和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。 按照的说法，除芯片精细化以外，封装......
科益虹源光电技术公司日前发生了变化，注册资金从1.2亿元增加到2.02亿元，增长68%，新增投资人包括华为旗下的哈勃投资，占股4.76%，成为第七大股东。科益虹源主要业务是光刻机中的三大核心技术之一的光源系统，是国......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
-NA光刻机？ 从早期的深紫外光刻机（DUV）起步，到后来的极紫外光刻机（EUV）以其独特的极紫外光源和更短的波长，再到如今的高数值孔径光刻机（High-NA）正式登上舞台，为制造更小、更精......
分辨率=k1*λ/NA”中，可以得知，NA越大，光刻机分辨率就越高，制程就越先进。但NA孔径并没有那样容易提升，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm的EUV光源取代193nm的DUV光源，就能大幅提升光刻机......
计划在2023年推出光源使用化合物“氟化氩（ArF）”、并支持3DIC的“ArF浸润式光刻机”的新产品，可以适应3D堆叠结构器件如3D NAND芯片、图像传感器制造需求。并希望将到2025年将ArF光刻机......
八倍pattern去扩展光刻是很有问题的。这事你会面临很多问题，最大的挑战则是cut。 在过去的几年，ASML已经推出过几个版本的EUV光刻机，但目前来说，这些光刻机都是只能用于研究，ASML也将其光源......
荷兰的ASML在EUV相关设备市场上垄断了核心光刻机，但日本在DUV光刻设备中的实力也不容忽视。Gigaphoton是日本最大工程机械企业小松旗下的半导体企业，在光刻设备的DUV光源......
，光刻胶也是EUV技术另一个需要面对的问题。据专家介绍，光刻胶本身对于光的敏感度就十分高，但是对于不同波长的光源，光刻胶的敏感度也有差异，这就对EUV光刻机产生了一些要求。光刻机选择的波长必须和光刻......
将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以......
事关光刻机！美国开发新光源：效率有望提升10倍......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式，属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式)，可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是......
全球唯一量产EUV光刻机的厂商，包括台积电、三星、英特尔的先进制程都要依赖EUV光刻机来生产。现阶段，每台光刻机的单价将近1.5亿美元。不过，ASML的EUV光刻机目前出货的是使用光源波长在13.5nm......
ASML宣布与比利时微电子研究中心合作 加速推进新一代光刻机;比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布，双方将在开发先进高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻......
ASML确认！荷兰管制新规将影响这几种型号光刻机出口; 当地时间6月30日，荷兰政府正式颁布了有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例。正如其在今年3月发布的消息中所述，这些......
于1923年，作为德国政府顾问单位参与发起了德国工业4.0 战略，是德国工业 4.0 首批创立成员。通快长期致力于激光和机床领域，还是全球唯一一家能够供应极紫外（EUV）光刻机光源的厂商。上世纪80年代......
集团 (TRUMPF) 成立于1923年，作为德国政府顾问单位参与发起了德国工业4.0 战略，是德国工业 4.0 首批创立成员。通快长期致力于激光和机床领域，还是全球唯一一家能够供应极紫外（EUV）光刻机光源......
英特尔拿下首套High-NA EUV，台积电如何应对？;英特尔（intel）近日宣布，已经接收市场首套具有0.55数值孔径（High-NA）的ASML极紫外（EUV）光刻机，预计......
可在需要高重叠精度的半导体制造中提供更高的性能，尤其是先进逻辑和內存、CMOS图像传感器、3D闪存等3D半导体制造，堪称最佳解决方案。 另据了解，新光刻机的光源技术是20世纪90年代就已经成熟的“i-line”，再加......
重回市场的策略之一，尼康表示将于2024年夏季推出采用成熟技术的光刻机新产品。使用了1990年代初实用化、被称为“i线”的老一代光源技术。着眼于适合制造需要耐久性的功率半导体等的特点。市场观点人文，尼康......
时每一分都要精准。 每台光刻机的装配大约需要50000个零件左右，像德国蔡司的光学设备，美国Cymer的光源都是阿斯麦的上游供应商。阿斯麦创立于1984......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
是芯片制造过程中最复杂、最昂贵、最关键的环节。而计算光刻是连接芯片设计和制造的关键技术,在90nm及以下芯片制造中,不可或缺。 计算光刻并非新鲜事物,已经存在了30年之久。芯片沿着摩尔定律不断微缩,光刻机所用的光源......
英伟达布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作的项目，旨在加快新一代芯片的设计和制造。 据介绍，计算光刻技术主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻......
NXE：3400B EUV 微影系统完成出货。 而回顾整个2016年， ASML销售了139台光刻机，在半导体设备行业的市场份额在58％左右。据了解，半导体制造企业的平均毛利在34%左右......
部件能在荷兰生产，其余55%都要依靠向美国及美国的盟友日德等国的进口。尤其是EUV的核心极紫外光源，只有美国Cymer公司可以制造，只要美国断供光源那荷兰就造不出EUV光刻机，联手其他盟友一起断供那55%的零......
英唐智控称收购先锋微案获批！后者资产包括日本光刻机;国际电子商情获悉，英唐智控近日在深交所互动易平台回复投资者提问时表示，其。消息利好让英唐智控24日股价小幅上涨。 被问及光刻机......
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
多个芯片概念股涨停！涉及第三代半导体等领域;2月23日上午，媒体报道当日芯片板块强势拉升，芯源微、北方华创、安集科技、江丰电子等多个半导体概念股涨停，涉及半导体设备、第三......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货; 综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今......
的成本和物理极限的挑战限制了EUV光刻机的进一步发展，围绕光刻分辨率提升，光刻机走过了紫外光、深紫外光乃至如今的极紫外光技术路线，未来光刻机又将如何进一步提升，极紫外光势必不是光刻光源的终点所在。随着......
ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系，当这......
的另一个原因是，DUV光刻机对美国技术依赖较低。DUV光刻机使用的是深紫外光源，而全球能够提供深紫外光源技术的供应商有三家，分别是美国Cymer、日本Gigaphoton和中国的科益虹源。 也就是说，DUV光刻机......
半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干......
调试工作，并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源，并使光线到达抗蚀剂。业界表示，这是光刻机正式投入使用前的一项重要准备工作，代表光刻机的光源......
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作，并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源，并使光线到达抗蚀剂。业界表示，这是光刻机......
(EUV)的开发商和制造商，也是次世代光刻光源的极端远紫外光源（EUV）的开发者并实现量产。近年来，日本GIGAPHOTON株式......
光刻机关键原料氖气价格暴涨20倍 中企出手后：降下来了;芯片制造离不开，数据显示，全球晶圆制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是。本文引用地址：以光刻为例，需要的就包括氖气、氩气、氪气、氙气......

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