资讯
半导体寒冬下，这一关键材料却陷供应紧缺，交期为往常4至7倍(2022-11-11)
重新转向短缺。
公开资料显示，在半导体制造流程中，需使用光蚀刻技术，在芯片上形成图形。而为了将图形复制在晶圆上，必须借助光掩膜的帮助——这一流程类似与冲洗相片时，利用底片将图像复制至相片上，因此......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
使用特殊的掩模，传统光刻技术使用专门的光罩来获取图像。开发人员称该技术与传统光刻技术相比在成本和时间方面都更优，并且全自动化专用程序控制安装。
该光刻综合体由圣彼得堡理工大学开发，旨在......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。引用大学代表的话写道——该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和硅等离子体化学蚀刻的设备。
第一种安装用于在基板上获得图像，而不使用特殊的掩模。据开......
LG显示为苹果开发新OLED蚀刻技术(2023-04-19)
LG显示为苹果开发新OLED蚀刻技术;
【导读】LG显示已开始为OLED面板开发一种新的蚀刻技术，该技术将提供给苹果。据韩媒The Elec报道，LG显示正在准备推出混合OLED面板，该面......
制造400层3D NAND，存储大厂将引入低温蚀刻技术(2024-06-06)
制造400层3D NAND，存储大厂将引入低温蚀刻技术;据日本媒体报道，存储器大厂铠侠近日宣布，将从其第10代NAND产品开始，在制程中引入低温蚀刻这一前沿技术，以进一步提升生产效率，并追......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
费数十亿卢布。据开发人员称，传统光刻技术需要使用专门掩模版来获取图像，该装置则由专业软件控制，实现完全自动化。
硅的等离子体化学刻蚀设备则用在光刻工序之后，可直接用于形成纳米结构，也可以制作硅模，如用......
半导体制造工艺——挑战与机遇(2024-01-12)
沉积 10）金属接触光刻 11）金属蚀刻 12）定型元件
半导体制造趋势和挑战
图案转移
图案转移技术的进步已经成为半导体工业快速发展的关键驱动力，进而能够制造更小和更复杂的电子元件。图案转移技术的一个主要进步是先进光刻技术......
改进晶圆制造工艺，探索蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案(2022-10-18)
改进晶圆制造工艺，探索蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案;满足当今技术创新的繁荣发展和复杂多变的产业环境，半导体代工厂需要定量、准确和高速的过程测量。海洋光学(Ocean Insight)与等离子蚀刻技术......
机器人在活体肺组织内“半自主导航”，同时避开微小气道和血管等重要结构(2023-09-26)
于追踪肺部的小目标有很大帮助。
该机器人由几个独立的组件组成。机械控制组件的原理是利用一种针，针向前和向后提供受控推力，并且针设计允许沿着弯曲路径转向。该针由镍钛合金制成，经过激光蚀刻以增加其灵活性，使其......
制程升级压力，三大DRAM厂商EUV竞争白热化？(2022-05-27)
率先使用极紫外（EUV)光刻技术，同年10月便开始批量生产基于EUV的14nm DRAM。在此过程中，三星将其最先进的14nm DDR5上的EUV层数从两层增加到了五层DRAM工艺。
2021年11月......
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？(2017-02-06)
并未对浸入式光刻展开深入的研究。
2002年以前，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。然而，157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。这是......
改进半导体制造，海洋光学为晶圆蚀刻提供全光谱等离子监测解决方案(2022-09-15)
改进半导体制造，海洋光学为晶圆蚀刻提供全光谱等离子监测解决方案;海洋光学(Ocean Insight)与等离子蚀刻技术的领先创新者合作，探索适用于检测关键晶圆蚀刻......
三星启动其首批第九代V－NAND闪存量产(2024-04-24 09:00)
三星启动其首批第九代V－NAND闪存量产;比三星上一代产品提高约50%的位密度(bit density)通过先进的通道孔蚀刻技术（channel hole etching）提高生产效率近日，三星......
三星启动其首批第九代V-NAND闪存量产(2024-04-23)
三星启动其首批第九代V-NAND闪存量产;
比三星上一代产品提高约50%的位密度(bit density)
通过先进的通道孔蚀刻技术（channel hole etching）提高生产效率
近日......
Linear推出16通道、16位电压输出数模转换器LTC2668-16(2014-06-17)
性负载时也是稳定的。这使 LTC2668 非常适合在光学模块、可编程逻辑控制器 (PLC)、MRI 和 X 射线成像、自动测试设备、激光蚀刻设备、频谱......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
领域获得主动权。本文引用地址：该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。
开发人员介绍，传统光刻技术......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
三星首批面向AI时代的QLC第九代V－NAND启动量产(2024-09-12 11:01)
三星首批面向AI时代的QLC第九代V－NAND启动量产;三星最新的QLC V-NAND综合采用了多项突破性技术，其中通道孔蚀刻技术能基于双堆栈架构实现最高单元层数 推出的三星首批QLC和TLC第九......
三星首批面向AI时代的QLC第九代V-NAND启动量产(2024-09-12)
三星首批面向AI时代的QLC第九代V-NAND启动量产;
三星最新的QLC V-NAND综合采用了多项突破性技术，其中通道孔蚀刻技术能基于双堆栈架构实现最高单元层数推出的三星首批QLC和TLC第九......
三星电子发布第九代V-NAND(2024-04-24)
展示了该公司在工艺能力方面的领先地位。 该技术通过堆叠，并最大限度地提高制造生产率。 随着单元层的增加，穿透变得至关重要，这就需要更复杂的蚀刻技术。
第9代V-NAND配备了下一代NAND闪存......
度（bit density）比上一代产品提高约 50%，通过通道孔蚀刻技术（channel hole etching）提高生产效率。
第九代 V-NAND 采用双重堆叠技术，在旗舰 V8 闪存的 236......
比利时imec首次展示功能性单片CFET器件，将在0.7nm A7节点引入(2024-06-21)
展示了具有堆叠底部和顶部源极/漏极触点的CMOS CFET器件。虽然结果是两个触点利用正面光刻技术获得的，但imec还展示了将底部触点转移至晶圆背面的可行性——这样可将顶部器件的存活率从11%提升至79......
三星7nm工艺揭秘，摩尔定律还能继续(2017-03-13)
年发表了使用 11nm 射线的结果。另外还有 AT&T 公司的贝尔实验室和 Lawrence Livermore 国家实验室也分别实践了这种技术。1989 年，一些相关研究学者在光蚀刻......
三星量产QLC第9代V-NAND(2024-09-12)
足包括云服务提供商在内的客户需求。
三星QLC第九代V-NAND汇集了多项创新，取得了技术突破。
采用三星独有的通道孔蚀刻技术，以双......
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具：还要生产7nm芯片(2023-10-10)
得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。
据介绍，其中一种工具的成本为 500 万卢布(当前......
助力晶圆生产工艺改进，海洋光学参加2022中国半导体设备年会(2022-10-25 13:18)
给客户一个包罗万象的工具箱，为客户提供做出创新仪器的全套工具模块，客户用这个工具箱可以在半导体等领域进行自己的开发，实现自己的创新理念。”蚀刻终点监测：等离子体检测系统在半导体行业 , 晶圆是用光刻技术制造和操作的。其中蚀刻......
0.75 NA 突破芯片设计极限！Hyper-NA EUV 首现 ASML 路线(2024-06-14)
右提供 Hyper-NA，达到 0.75 NA。
Imec 高级图案设计项目总监 Kurt Ronse 表示，这是 ASML 首次将 Hyper-NA EUV 加入其路线图，他与 ASML 合作开发光刻技术......
中芯国际间接助力，上海新阳上半年净利同比大增316.82%(2021-08-20)
液产品。
受让芯刻微32%股份，加码光刻胶业务
近年来，上海新阳正在重点布局第三大核心技术-光刻技术，并且已经立项开发集成电路制造用ArF（干法）、ArF（浸没式）、KrF（含厚膜）、I线等......
追求极致手感—— CHERRY MX BOARD 1.0 TKL 机械键盘体验评测(2022-12-12)
手就无比细腻。整个键盘用的是80%的布局，占地空间小，可以为鼠标创造更大的操作空间。高品质的ABSUV涂层透光键帽，搭配纤细的激光蚀刻字符，使透光更加均匀美观，在黑......
甬矽电子：募资12亿元加码多维异构先进封装项目(2024-05-29)
（RedistributionLayer，即 RDL）、晶圆凸块技术（Bumping）、扇入（Fan-in）技术等。同时，公司还在积极开发扇出（Fan-out）封装、蚀刻技术等晶圆级多维异构封装技术，并已......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
邻近校正 (OPC) 以及集成图案化和蚀刻技术。准备工作最近取得了首次曝光，首次展示了使用0.55NA EUV原型扫描仪在Veldhoven的金属氧化物光刻胶 (MOR) 上印刷的10纳米密集线条（20......
挑战 ASML，应用材料公司重新定义了光刻和图案化市场(2023-03-13)
也可能会争辩说，光刻技术已经存在了 150 年，而 EUV 也不是什么新鲜事物。
另一个主要的驳斥理由是它不成熟，而且还很遥远。那也是错误的。虽然 Sculpta 上周才在 SPIE 的光......
存储亮剑！NAND技术多点突破(2024-08-08)
上述存储厂商外，国际知名设备大厂Lam Research近期推出Lam CryoTM 3.0，这是Lam Research经过生产验证的第三代低温电介质蚀刻技术，为其客户迈向1,000层3D NAND铺平......
三星电子批量生产首款256千兆，3D V－NAND闪存(2015-08-12)
）结构，其中，单元阵列垂直层叠，以形成被电通过约180十亿通道孔相连通的阵列冲孔48层高的质量由于采用了特殊的蚀刻技术。总之，每个芯片包含超过85.3十亿细胞。它们每个可以存储数据的3位，结果256......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
开发先进的光刻胶和底层材料、光掩模、计量和检测技术、（变形）成像策略、光学邻近校正 (OPC) 以及集成图案化和蚀刻技术。准备工作最近取得了首次曝光，首次展示了使用0.55NA EUV原型扫描仪在Veldhoven的金......
3D NAND到底行不行，一文读懂3D NAND的神话与现实(2017-07-07)
NAND 则是使用的 3D 存储堆栈技术所需的专门工具来进行沉积和蚀刻。光刻技术不是 3D NAND 发展的推动力，在 3D NAND 工艺流程中最多也只有一个双重图案步骤。但是，其流程中却有多个高纵横比蚀刻......
泛林收购SEMSYSCO 强化下一代基板和异构封装几技术开发(2022-11-23)
的高级功能。使用 193i 光刻技术在 5nm 及以后的节点上变得越来越成问题，因为较小的特征尺寸需要大量的图案化和工艺步骤。
随着极紫外 (EUV) 光刻技术的出现，现在可以对 3 纳米......
下一代光刻机，万事俱备了吗？(2023-03-06)
同时，我们正在与更广泛的图案化设备和材料供应商生态系统合作，以便能够访问 High NA 实验室并准备 EUV 抗蚀剂材料、底层、干法蚀刻、光掩模、分辨率增强技术 (RET) 和计量技术。”
在imec......
长电科技举办线上技术论坛：面向新兴应用，拓展技术边界(2023-03-17)
专利金奖”的平面凸点封装（FBP）技术的升级版本。它在封装工艺中引入蚀刻技术，并在此基础上实现了高密度多圈多排的输出脚、多芯片在同一封装体内的集成等一系列突破；在此基础之上，HFBP的平面凸点（Flat......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极......
从阿波罗登月到iPhone：高多层PCB如何改变了电子世界？(2024-09-27 15:37:17)
焊接的电路线容易出错且难以规模化。
他还研究了腐箔技术，采用照相印制工艺，在绝缘板的金属表面上，形成具有耐酸性掩蔽层的导线图形。然后，用化学药品溶解掉未被掩蔽的金属，获得世界上首块名副其实的印制电路板。这项技术奠定了以后的光蚀刻......
晶圆厂的cycle time，你听说过吗？(2017-04-19)
开发后，将其运送到晶圆厂并放置在光刻机中。光刻机投射光线透过掩膜，将图像曝光在芯片上。
所以掩膜和光刻被绑定在了一起。今天，芯片制造商使用193nm波长光刻技术在芯片上打印微小的特征。实际上，193nm光刻......
MIT黑科技：让芯片自己组装自己 轻松实现7纳米(2017-03-29)
难使用同样的波长填满更小的晶体管。EUV光刻技术有望降低波长，在芯片上蚀刻出更细微的特征。这种技术有望实现7纳米工艺，但即便已经投资了数十亿美元研发资金，这种技术依然很难部署。
MIT认为，他们的新技术很容易融入现有生产技术......
专家：美政府在对华芯片问题上无清晰战略(2023-08-02)
对中国芯片产业的围堵打压也持续强化升级。据彭博社7月31日报道，中国加速推进传统芯片生产之际，欧美正在讨论遏制中国芯片产业发展的新政策。
据了解，当前世界上最先进的半导体是使用最薄的蚀刻技术生产的，目前技术水平可达3纳米。而传......
半导体材料“卡脖子”问题待解，张汝京携30亿项目再出手(2022-08-22)
应用于平板显示、半导体、触控和电路板的制造过程，在IC制造过程中，其作用是将设计好的电路进行显影，将图形投影在晶圆上，利用光刻技术进行蚀刻，是半导体光刻工艺中所需的高精密工具。
当前，在5G、人工......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？(2023-10-31)
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？;
在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到......
三星存储器规划：14纳米EUV工艺DRAM和176层消费级SSD即将量产(2021-07-30)
，该工艺基于业界最小的14纳米级设计规则。
三星还将在下半年开始量产消费级固态硬盘，采用基于双堆栈的176层第7代V-NAND，以及最精细的蚀刻技术。
封面图片来源：拍信网......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
TCL携全新系列手机和平板亮相IFA2024，引领AI与护眼技术新潮流(2024-09-06 09:26)
NXTPAPER 5G两款手机，均采用了"未来纸"3.0显示技术。这种技术通过纳米级蚀刻技术和多层硬件级蓝光过滤技术等创新手段，模拟真实纸张观感与质感，实现了硬件级的低蓝光和防眩光效果，减少视觉疲劳，为用......
TCL携全新系列手机和平板亮相IFA2024，引领AI与护眼技术新潮流(2024-09-06)
和TCL 50 NXTPAPER 5G两款手机，均采用了"未来纸"3.0显示技术。这种技术通过纳米级蚀刻技术和多层硬件级蓝光过滤技术等创新手段，模拟真实纸张观感与质感，实现......
相关企业
油墨。 多年以来一直致力于研发、代理、销售、生产蚀刻设备和研究蚀刻技术，为业界提供优质的产品及服务，为供应材料的客户提供蚀刻加工技术，为广大客户提供全方位的蚀刻一条龙服务.公司
;深圳华宇达实业有限公司;;我公司是台湾光颉科技股份有限公司在中国大陆设立的销售公司,公司主要生产和销售以下产品:1.高频陶瓷电感:薄膜电感(AL系列)-利用光蚀刻(PhotoLithography
;深圳市鑫东辉自动化设备有限公司;;深圳市鑫东辉自动化设备有限公司（前身为深圳市东辉标牌厂）成立于1996年，是一家集研发、生产、销售、加工为一体的专业蚀刻设备生产和蚀刻技术
;卜勇军;;鑫源五金制品厂是一家从事金属精密蚀刻的高科技企业，采用化学精密蚀刻技术，制造各类模具冲压所无法完成的或成本太高的金属部件，如榨汁机过滤网，ATM柜员机按键等。本着“顾客满意，永续
;福立泰激光科技有限公司;;深圳市福利泰激光科技有限公司位于中国深圳市宝安区龙华大浪华昌路2号金星工业园B栋4楼，深圳市福利泰激光科技有限公司是一家SMT激光蚀刻
;东莞市展诚机械科技有限公司;;东莞市展诚机械科技有限公司（原名：东莞市志诚机械设备有限公司），成立于1998年，拥有3500平方米的现代化生产厂房，多年以来一直致力于研发、生产蚀刻设备和研究蚀刻技术
多年的历练，深得客户信赖。公司始终坚持以质量为本、信誉至上、务实创新、持续改进的精神，愿与广大客户共同成长，共同发展，共同创造辉煌未来。手机电容触摸屏行业设备主要为黄光蚀刻段所有设备，主要有：全自
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;深圳市千钢科技精密金属五金蚀刻元件实业有限公司;;深圳市千钢科技有限公司是一家生产精密金属元器件的公司，前身为汇思电子设备有限公司，成立于1996年。公司在精密蚀刻产品生产上有较大知名度，蚀刻技术
化学实验硫化工艺工业烘干草药/香料加工木材工业陶瓷烧结工艺溶济回收相片处理薄膜蒸镀（PVD/CVD）蚀刻技术等离子清洁ECR等离子处理反应性离子蚀刻技术下游等离子技术蚀刻