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泰晶科技车规级产品和光刻工艺技术今年获新进展;3月19日,泰晶科技披露了公司近日接受机构调研的会议纪要,公司表示,其车规级产品和光刻工艺均有了明显进展。 车规级产品实现批量供货 泰晶科技......
学器件等电子元器件,高速高稳通讯网络器件及组件,汽车电子及模组等智能应用,精密冲压组件及部件,相关智能装备的研发、生产、销售及技术服务的国家级高新技术企业。 泰晶科技介绍称,公司产品聚焦小型化、中高......
泰晶科技、芯来科技等获批参与湖北重大专项“车规级MCU与专用芯片及控制器研制”;据湖北省科学技术厅官网消息,近日,湖北省科学技术厅公示2021年度中央引导地方科技发展资金 “车规级MCU与专......
学器件等电子元器件,高速高稳通讯网络器件及组件,汽车电子及模组等智能应用,精密冲压组件及部件,相关智能装备的研发、生产、销售及技术服务的国家级高新技术企业。 据了解,近年来,泰晶科技抓住新能源汽车、智能......
分国内厂商还需在人员管理、技术攻关等方面下苦功,这样才能在与国际厂商的竞争中抢占更多市场份额。” 泰晶科技的晶振产品种类众多,其晶振月产能至少为328KK。其中,DIP晶体谐振器约为158KK/月(传统表晶TF-206......
oscillator),单价较一般服务器/消费电子的振荡器高约10-20倍,毛利率为50-60%以上。 受此消息影响,惠伦晶体、泰晶科技、晶赛科技、东晶......
一步影响到研发和生产进程,需要进一步观察。预计2020年Q1-Q2期间,武汉弘芯机台设备入厂将进入高峰期。当前已经入厂的设备以光刻机为主,其他设备将在3月后陆续到位。 9、泰晶科技:1月31日紧急开工,货物......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;深圳2024年10月18日 /美通社/ -- 由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术创新中心(苏州)联合攻关的重大成果——基于......
%。 铭普光磁(002902): 近3日铭普光磁上涨10.49%,现报23.65元,2024年股价上涨3.09%,总市值55.69亿元。 泰晶科技(603738......
NVIDIA联合半导体三巨头,颠覆计算光刻方法学;2023春季GTC上,NVIDIA与TSMC(台积电)、ASML 和Synopsys(新思科技)联合宣布,完成全新的 AI 加速计算光刻技术......
行业是全球几乎所有其他行业的基础。光刻技术已临近物理极限,NVIDIA cuLitho的推出以及与台积电、ASML和新思科技的合作将使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹并为2纳米及更高工艺奠定基础。” 据悉,台积......
情防控提供数据和决策支撑。 泰晶科技 2月1日,泰晶科技通过随州市红十字协会捐款100万元人民币,用于新型肺炎疫情防控工作。 与此同时,泰晶科技还公布了一项子公司紧急开工信息。 据介绍,泰晶科技旗下子公司泰晶晶体在1月31日下......
| 编辑 1、像盖章一样造芯片 纳米压印是一种微纳加工技术,它采用传统机械模具微复型原理,能够代替传统且复杂的光学光刻技术。[2] 虽然从名字上来看,纳米压印概念非常高深,但实......
极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业的标准界限;据科技日报报道称,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则,我国计算光刻技术是否能“打”?; 在前不久的 GTC 2023 上,带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以......
装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。 EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。 但问题是EUV光刻......
的五分之一,因此是非常不错的解决方案。 纳米印刷技术并不能在内存芯片生产的所有阶段取代传统的光刻技术,两者并非纯粹的竞争关系,但该技术至少可以降低单个技术操作的成本。 佳能......
),包括干涉光刻、激光直写光刻、基于空间光调节器的光刻技术等。 但是这些技术为什么只用来造掩模版呢?因为这些技术"慢"到没朋友,有得必有失,虽然有了不用掩模的优点,但生产效率低是致命的。如果......
实力。晶科能源目前拥有全球超过2280项有效授权专利,涵盖从组件设计到制造的多个方面,确保技术领先地位和市场竞争力。 全面选用防尘黑科技的德州德信能源项目,选择相信科技的力量,实现......
极紫外光刻新技术问世,能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本;据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
-90nm。由于光波衍射的缘故,光刻电路是一个弥散的光斑,其特征尺寸大约是光波长的一半,更小特征尺寸的光刻电路意味着更高的光刻分辨率。为了得到更高的分辨率,目前主流光刻技术......
ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系,当这......
电等芯片公司追捧的新宠。有人认为EUV 光刻能够拯救摩尔定律,但事实是否真的如此? 现在,科技的发展的确到了一个转折点。荷兰的光刻工具制造商 ASMLHolding 生产的 EUV 光源......
一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头。  众所周知,ASML是全球最大的光刻机设备厂商,2021年,ASML曾2次提高生产目标,希望到2025年,其年出货量能达到约600台DUV(深紫......
使用特殊的掩模,传统光刻技术使用专门的光罩来获取图像。开发人员称该技术与传统光刻技术相比在成本和时间方面都更优,并且全自动化专用程序控制安装。 该光刻综合体由圣彼得堡理工大学开发,旨在......
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作,通过结合各自优势,提供纳米压印光刻技术开发工具包,并实现大批量生产全球首屈一指的光......
EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?;近日,荷兰的光刻机制造商阿斯麦(ASML)发布2020年度财报,全年净销售额达到140亿欧元,毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
将会在65nm或者45nm的时候遇到障碍,由此亟需下一代的光刻技术,去缩小晶体管的规模,延续摩尔定律。 多年以后,EUV已经成为下一代光刻技术中的佼佼者,其他的竞争技术,如自组装技术、电子束直写和纳米打印技术......
行业向更高级别的芯片制程转型,EUV技术显现出的短板和局限性逐渐暴露,这也迫使行业重新审视未来技术发展的路径与方向。 其他的光刻技术陆续出现,像BEUV技术、X射线光刻技术、NIL纳米压印技术等。尤其NIL技术,已经不再是实验室技术......
中科院:上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask......
持。 NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示:“计算光刻技术是芯片制造的基石。我们与 TSMC 和 Synopsys 围绕 cuLitho 展开合作,通过加速计算和生成式 AI 为半......
到其软件、制造工艺和系统中,在加速芯片制造速度的同时,也加快了对未来最新一代 NVIDIA Blackwell 架构 GPU 的支持。  NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示:“计算光刻技术......
达到物理极限,NVIDIA 推出 cuLitho 并与我们的合作伙伴 TSMC、ASML 和 Synopsys 合作,使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹并为 2nm 及更高工艺奠定基础。” 英伟达表示,相比目前的光刻技术......
于相当于从地球上照出手电筒并击中放置在月球上的 50欧分硬币; EUV系统包含一个重达7600公斤的大型真空室。 那么,不用EUV行吗? 除了EUV,也不是没有其它技术,全世界对光刻的研究一直都很积极,已经足足有将近60年历史,光刻技术......
时间。 ArF光刻胶是什么? 芯片生产过程中,需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上,而这种辅助的光学材料,就是光刻胶。 从光刻胶的发展历程看,从 20 世纪 50 年代至今,光刻技术......
优化过的工具和算法的库,其速度比当前基于CPU的方法快几个数量级。 据官方介绍,cuLitho在GPU上运行时,性能比目前的光刻技术(在硅片上创建图案的过程)提高了40倍,加速了目前每年消耗数百亿CPU小时......
Blackwell 架构 GPU 的支持。NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示:“计算光刻技术是芯片制造的基石。我们与 TSMC 和 Synopsys 围绕 cuLitho 展开合作,通过......
我们常说的高端晶振之一, 目前国内厂商中的惠伦晶体、泰晶科技具有高基频晶振的量产能力。 中国大陆厂商以中低端晶振市场为主,高端晶振市场国产替代需求强烈。 日本厂商凭借领先的技术......
技术的进一步发展。NA代表数值孔径,表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高,聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统,High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率,从而......
光刻技术在性能(每小时处理的晶圆数量)和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度,相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%,将来......
太可能被现有的贸易限制所禁止。 目前,佳能的发言人拒绝对新设备是否受到日本出口限制发表评论。 纳米压印究竟是什么黑科技?竟能代替复杂的光学光刻技术?   资料显示,纳米压印是一种微纳加工技术,它采......
泰晶科技等8家单位共建,致力于推动芯片近地化供应链发展,实现车规级芯片完全自主定义、设计、制造、封测与控制器开发及应用。 东风公司副总经理尤峥介绍,联合体实现了3款国......
科普 | 芯片制造的6个关键步骤;在智能手机等众多数码产品的更新迭代中,科技的改变悄然发生。苹果A15仿生芯片等尖端芯片正使得更多革新技术成为可能。这些芯片是如何被制造出来的,其中......
援全球客户及半导体产业的发展,目前无法透漏新北投资案的相关细节。 在ASML台湾林口工厂担任量测机台组装工程师的Jason自豪地说,ASML是全世界科技的领导品牌。他表示,林口厂有2成非技术职缺,加入ASML不是......
四家半导体大厂重磅合作!计算光刻技术从幕后到台前;在3月22日召开的GTC大会上,英伟达宣布与台积电、ASML、新思科技(Synopsys)合作,将加速运算技术用于芯片制造环节的计算光刻中,并推出用于计算光刻......
中国台湾地区半导体企业加紧投资EUV光刻技术,进一步扩大竞争优势。 目前投资中国台湾地区最大外商的美商存储器大厂美光科技,除决定今年底美国总部安装ASML最新曝光设备NXE:3600D,美光......
光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高,聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统,High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率,从而有助于晶体管的进一步微缩。 ASML的High NA EUV设备......
沉舟” 光刻技术......
池涉及在服务器平台上绑定多个 CXL 内存块以形成池,并允许主机根据需要从块中分配内存。这种方法最大限度地提高了效率并降低了运营成本。 美光将通过 EUV 光刻技术......

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;深圳市泰晶源电子科技有限公司;;深圳市泰晶源电子科技有限公司是生产石英晶振石英谐振器、石英滤波器、振荡器、高稳谐振器、时钟振荡器、声表谐振器、声表、epson c-002rx等产
;深圳市华尚科技有限公司;;公司于2011年成为台湾桦晶科技股份有限公司产品的专业代理。本公司以“更好的产品,更好的支持,更好的服务”为宗旨,致力于提供优良的光电产品IC, 为节能、环保的光
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;武汉泰晶电子科技有限公司;;
;强晶科技有限公司;;深圳市强晶科技有限公司是一家经营专业电脑清洁剂和键鼠套装等周边产品的公司,主要有屏幕清洁套装,笔记本外壳彩帖,健盘保护膜,液晶屏幕保护膜唯美键鼠套装等。以高科技的
创造价值,效率成就发展”是一晶科技的核心价值观和发观。“人才品质、产品品质、服务品质”是一晶科技最关注的企业品质。品质之于人才,是品德和素质;品质之于产品,是品牌和本质;品质之于服务,是品
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;泰晶;;
;深圳泰晶公司;;
;深圳市泰晶电子有限公司;;