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可在需要高重叠精度的半导体制造中提供更高的性能，尤其是先进逻辑和內存、CMOS图像传感器、3D闪存等3D半导体制造，堪称最佳解决方案。 另据了解，新光刻机的光源技术是20世纪90年代就已经成熟的“i-line”，再加......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
润式系统TWINSCAN XT:1900，使ASML超越当时的龙头尼康和，成为的全球霸主；2010年，交付了全球第一台光刻机，凭借其极高的技术壁垒，ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机技术......
订单，占比已经达到约45%。 当季，ASML售出光刻机整整100台，比一季度增加30台，其中全新光刻机89台、二手光刻机11台，分别增加23台、7台。 其中，在0.33数值......
1041.34美元。今年以来，ASML的股价累计上涨约35%。 ASML的最新光刻机能在上刻画宽度仅为8纳米的线条，为上一代设备的1.7分之一，这将被用于生产支持人工智能应用和先进消费电子的芯片。 这款......
人员。 在龙仁市新开通的极紫外光刻机培训中心，是阿斯麦在韩国的第二个培训中心。这一中心开通之后，阿斯麦在全球的极紫外光刻机技术人员的培训能力，预计将提升30......
率为50.5%，净利润为56亿欧元。 另外，2022年底，ASML未交付订单创下历史新高，达404亿欧元，该年总共销售317台新光刻机，较前一年增长31台，此外还出货了28台二手光刻机......
也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产。 自1986年起，佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域，开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
收获存储客户多个订单，2552亿美元光刻机巨头公布最新财报;4月20日，半导体设备光刻机巨头ASML公布了最新财报。 数据显示，2022年第一季度，ASML实现了净销售额35.34亿欧元，毛利......
%。 按产品来看，一季度，ASML共售出100台光刻机，其中全新光刻机96台，二手光刻机4台。该季度ASML新增订单金额为37.5亿欧元，较上......
每年投入巨资，毕业生数量庞大，为什么不能完成成熟设备？ 当然，我们制造EUV光刻机并非要取代ASML，而是为了满足自身需求，推动全球光刻机技术发展，继续前进，克服老美的封锁，困难将更大，代价更高。然而，国内......
%；净利润12亿欧元（当前约92.4亿元人民币），环比下降 40%，低于分析师预期。 在光刻机产品出货方面，该公司第一季度售出的全新光刻系统和二手光刻系统分别为66台和4台，相比上一季度的113......
成本也更为惊人。 报导分析说，在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下，对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大，这有利于大陆厂商的技术追赶。 但是，在EUV技术......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
解，ASML的光刻机技术来自全球40多个国家、数百家供应商，就连美国也没有独立生产制造光刻机的能力。 另外，在ASML生产制造的光刻机中，美国技术占比是有限的。因此，美方修改规则限制出货，这对ASML......
样的局面之下，中企便开始布局芯片产业链的国产化，以此来推动国内芯片代工技术的发展，来摆脱外界规则所造成的影响。 而想要大规模的量产芯片，就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下，中企加大了对于先进光刻机技术......
，国产光刻机技术上与之差距太大，根本无法在高端市场上参与竞争，严重制约了我国微电子信息工业的发展。根据媒体报道，近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当，每年已经超过2000亿美......
年第二季度共售出113台光刻机。其中，全新光刻机107台，二手光刻机6台。 财报显示，今年第二季度ASML光刻机系统的销售收入为56亿欧元（约合人民币451亿元）。其中，来自中国大陆市场的销售收入占比为24......
大幅降低半导体芯片的成本，如果现阶段的光刻机技术无法突破 1nm 工艺的话，那么这种新技术将从光刻机手中拿走接力棒，届时也将走进历史~ ......
设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。 在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈......
互联网研究专家项立刚表示，所谓远程瘫痪台积电光刻机技术，应该没有多复杂，但ASML也要面对一个问题，只要通信中断，怎么瘫痪，要靠人力启动吗？在今天的技术中，远程锁定会有很多的办法进行反制。只要光刻机......
也远比想象中要多。 虽然EUV并非通向先进制程的唯一之路，但只是都没那么好，或者太贵了，EUV仍然是现在最主要的方向。 对芯片行业来说，理想的光刻机技术应该是成本较低、通量高、特征尺寸小、材料......
设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈......
了净销售额67亿欧元，毛利率为50.6%，净利润达20亿欧元。今年第一季度的新增订单金额为38亿2欧元，其中16亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2023年第二季度的净销售额约为65亿~70亿欧......
节点发展态势放缓，导致某些晶圆厂计划推迟并影响了对光刻设备的需求时间节点，尤其是对EUV光刻机的需求。在存储芯片领域，我们看到新增产能有限，该领域的发展重点依然是技术转型，以满......
Innovation Day论坛上透露，Intel 18A制程目前有许多测试晶圆正在生产中，这一技术已经研发完成，正加速进入生产阶段。其实英特尔最初就计划利用新光刻机投产Intel 18A工艺，早在2022年1......
Q3 2022 净销售额 5,431 5,778 其中装机管理销售额1 1,290 1,524 售出的全新光刻......
能是因为美国向荷兰政府施压。 中国的上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等企业/机构正围绕光刻机而积极研发。现在国内已经成功量产的光刻机只能最高生产90nm的芯片，中科院曾公开表示，中国的光刻机技术......
事关光刻机！美国开发新光源：效率有望提升10倍......
设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机......
四季再获得的4 台订单，目前EUV 设备累积订单数量已达18 台。 然EUV 机台并不便宜，一台EUV 光刻机要价逾1 亿美元，是其他微影技术设备金额的两倍，这场制程竞赛，比技术也比银两，竞争......
装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
及键合设备，是全球少数几家具备自主研发、设计并拥有核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商之一。 自主技术：ABM Inc.整机设备为自研自制，拥有超过2000项自主开发的光刻机重要零部件专有技术......
独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。 未来，三星......
功率远比EUV光刻机低，一台EUV光刻机一年要用1000万度电，但这种NIL技术能耗减少90%，且制造成本比EUV光刻机低40%。 缺点是目前精度不够，远远达不到7nm、5nm的级别，大约还处于28......
也会大涨。 光刻机的分辨率越高，越有利于制造更小的晶体管，而分辨率也跟光刻机物镜的NA数值孔径有直接关系，目前的EUV光刻机是NA=0.33技术的，下代EUV光刻机则是提升到NA=0.55......
市场实力，尼康还将推出适应3D堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品，已提高其在成熟制程设备市场的竞争力。 佳能 研发3D技术光刻机、满足生产需求 无独有偶，另一大日本光刻机企业佳能也被报道在研发光刻机新技术......
二季度财报。2024年第二季度，ASML实现净销售额62亿欧元，毛利率为51.5%，净利润达16亿欧元。今年第二季度的新增订单金额为56亿欧元2，其中25亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2024年第......
-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。 后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术......
露，该光刻机将于2020 年底前运抵国内。后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司(以下简称“合作方”)沟通协调设备运输与安装等细节，致使设备没能在规定时间内运达。 现经......
）光刻机是目前最先进光刻技术，能在更小尺度实现精准图案转移，是制造下一代高性能芯片的基础设备。荷兰光刻机巨头ASML......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址：在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，近日发布的第三代EUV......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
的EUV。 为争取更多的EUV光刻机，三星高层去年就到ASML总部争取 。今年6月14日，三星副会长李在镕造访ASML荷兰总部，拜会了ASML首席执行官Peter Wennink等高管，广泛讨论半导体技术......
布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术......
再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。 3月12日，上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示，近日，公司旗下参股子公司上海芯刻微材料技术......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前......
威力科创TokyoElectron）宣布，将于镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产，以维持原本2023年问世的期程。另外，除了东京电子之外，比利时微电子研究中心（IMEC）也是......

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