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佳能光刻机现在是什么水平?探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个,汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看,涉足的层级和业务都有区别。 像佳能......
PPC-1 广告 50周年纪念标志 佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术,佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后......
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机;4月1日,据日经中文网报道,佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机佳能光刻机新产品最早于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍,可支......
安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。 〈关于半导体光刻机解说的网站〉 我们发布了“佳能光刻机网站”,通过图片和视频等易于理解的方式说明“光刻机”的原理和性能。此外,我们......
本的尖端芯片。 根据报道,佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造,而不是更加复杂的微处理器。 佳能表示,其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的DUV和EUV工具,而是......
可进一步用来生产2纳米产品。此外,日媒报道,佳能光学设备事业本部副本部长岩本和德近日对外表示,目标在3-5年内、每年卖出十几台光刻机。......
全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...; 近日,ASML发布最新三季度财报后,股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间,尼康和佳能陆续发布的光刻机......
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息,据彭博社报道,佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
在不使用EUV光刻机的情况下,实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。 封面图片来源:拍信网......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
EUV没有直接联系的工序数也会增加。 国内设备厂芯源微日前表示,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌,以及上海微电子(SMEE)的光刻机......
新技术。今年4月外媒报道佳能正在内部开发“三维(3D)”技术的光刻机,以通过堆叠多个芯片的方式实现提高半导体性能。 据悉,该光刻机的光刻面积是现有产品4倍面积,佳能......
新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。 纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio......
压印技术,完全有替代EUV光刻机的可能性,目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能佳能在NIL技术上专利全球最多,且已经有了量产机器,目前在改进精度,希望国产加油,也能够赶紧推出NIL光刻机......
较早宣布其扩产计划。 尼康光刻设备新的业务发展目标是截止到2026年3月份,光刻机的年出货量将比目前3年的平均水平增加一倍以上。 佳能方面,在今年10月4日,佳能宣布将投资超过500亿日元(约合......
21年来首次!佳能扩产光刻机设备!;据日经新闻报道,佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量,将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称,佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂,目标......
ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?;首席财务官达森(Roger Dassen)表示,技术路线发展受欧美限制,且已接近技术极限,此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破......
年3月)3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。 众所周知,光刻机是半导体制造的关键设备。但是在半导体光刻机市场,荷兰ASML一家独大,占据......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
%左右,其他的对手包括尼康,佳能等。 当然了,半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV,ASML在这方面是毫无疑问的霸主,其极紫外光刻机去年销售了四台,单台的平均售价达1.1亿美元,最新......
芯片制造工艺黑科技再现,那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足?; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后,近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的,并且......
(不过由于北约的瓦森纳协议限制,中国只能买到中低端ASML光刻机). 这是中国外交的一大突破。 下面我们来看看尼康的财务报表是多么得惨淡,先上一封 尼康各个季度报表中 最靓......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日,日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。 图片来源:全球半导体观察制图 目前,全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。 据外媒公开消息,俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂,分别是Mikron和......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机......
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。 7......
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备......
实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。   半导体制造领域,光刻机是昂贵且关键的设备,而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”,担负......
绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息,光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布,其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
的成本和物理极限的挑战限制了EUV光刻机的进一步发展,围绕光刻分辨率提升,光刻机走过了紫外光、深紫外光乃至如今的极紫外光技术路线,未来光刻机又将如何进一步提升,极紫外光势必不是光刻光源的终点所在。随着......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂; 正在东京以北的栃木县宇都宫建厂,估计耗资 500 亿日元(约合 3.66 亿美元)。 该工厂将用于制造 KrF 和 i-line......
一季度增加7台,但整体的交付量较上一季度减少了1台。不过,由于售价更高的极紫外光刻机的交付量有增加,因次在整体交付量有减少的情况下,ASML三季度的营收较上一季度并未减少,还有明显增加。 财报显示,该公......
人和日本人并不急于对中国采取与美国人相同的严厉措施,因为失去中国市场将对它们造成巨大打击。还有人认为,限制向中国提供半导体设备只会迫使中国加倍努力建立自己的生产链。中国即使现在没有完整的生产链,也与之非常接近了。在光刻机领域取得新突破......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能......
速芯片制造业的技术升级和产能扩张。随着全球对高性能处理器的需求不断增长,芯片制造商急需寻找一种能够提高生产效率、降低成本的新型制造工具。而Twinscan NXE:3800E光刻机的出现,正好......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机!; 业内消息,近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印(NIL),旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
MEMS滤波器芯片生产基地和封装测试生产基地,极大提高两江新区及重庆在集成电路设计和制造领域整体实力。 除了锐石创芯,今年搬入ASML光刻机的中国厂还有鼎泰匠芯、格科微等。今年年初,格科微12英寸......
12月通过了客户的使用认证,这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。 同时,上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术,本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机的......
的最新款EUV曝光机,以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系,获得ASML的最新一代光刻机的相关技术,并填补上述差距。 但是,另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
将推出的A16节点技术需求,他强调是否采用ASML的新技术将基于经济效益和技术平衡考量。 可以说,对ASML来说,不仅要面临最先进光刻机的出货压力,还要面临竞争对手,诸如佳能纳米压印光刻的压力。而如果ASML......
EUV光刻新突破,是不是真的?;这几天,关于光刻的迷惑性传言又来了。 事情围绕 EUV而起,传闻者将其包装的“有鼻子有眼”,大概意思就是有总比没有强。发酵愈深,传闻愈悬。 这也引发EEworld坛友......
链进口替代浪潮呼声越来越高,国内掩膜版厂商以此为契机发展迅速。 光刻机企业回应市场需求 全球光刻机市场,ASML、尼康、佳能三家公司占据绝大部分市场份额,面对日益高涨的市场需求,三家光刻机......
美光积极准备EUV技术,争取与三星及SK海力士竞争;根据韩国媒体《Etnews》报导指出,目前全球3大DRAM存储器中尚未明确表示采用EUV极紫外光刻机的美商美光(Micron),因日......
到0.55的设备。比现有的EUV设备处理更精细的半导体电路。业界大多数人认为,High-NA设备对2nm工艺至关重要。 据推测,High-NA EUV光刻机的单价为5000亿韩元,是现有EUV光刻机的......
着芯片制造技术的提升,一些半导体设备,制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识,只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的,一方......
直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。 我国光刻机技术的突破 相比于对华出口光刻机受限,我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机,产能......
当时对此进行了报道,该措施实施后会在已经限制深紫外光(EUV)光刻机的基础上,再限制了深紫外光(DUV)光刻机对华出口。 具体来说,出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i......
都在提升对国内市场的出货能力。比如,今年第一季度ASML就出货了23台DUV光刻机,国内市场一举超过美国,成为ASML第三大市场。 现如今,ASML不仅拒绝收紧DUV光刻机的出货范围,还计......

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字机产品已出口到亚洲、美洲和欧洲。公司生产的灯泵浦LM-YAG(LP)-70激光刻字机,主要用于标刻金属和非金属材料。由于该机的激光功率高达70瓦(通常是30-40瓦),价格较低,所以在国内外有很多用户。这一型号的YAG激光刻
;济南众星数控机械有限公司;;济南众星数控设备有限公司是专业从事研发木工雕刻机、广告雕刻机、石材雕刻机、数控加工中心的生产厂家。公司拥有雄厚的技术实力,专业的研发团队,不断推出CNC雕刻机的新
复印机,理光复印机,惠普打印机为品牌的私营企业。本公司主要以黑龙江省,内蒙古为市场方向引导我公司在办公、文教行业的发展。所经营产品具有本公司是一家知名的私营企业,在产品方面有着理光复印机佳能复印机的
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;济南阿科思达科技有限公司;;雕刻机品牌网主要是木工雕刻机,广告雕刻机,激光雕刻机,石材雕刻机,电脑刻字机的咨询门户,为雕刻机企业提供好的交流平台。
;济南星辉(雕刻机)数控机械科技有限公司;;星辉数控机械科技有限公司,专业生产雕刻机,木工雕刻机,激光雕刻机,广告雕刻机的厂商,公司注册资金1000万。中外合资企业。
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
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