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纳米压印光刻,能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
外),但它又贵又难造,除了全力研发,国产有没有其它的路可以走?本文引用地址:事实上,光刻技术本身存在多种路线,离产业最近的,当属纳米压印光刻(Nano-Imprint Lithography,简称 NIL......
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佳能押注“纳米压印”技术:降低先进工艺生产成本,加速追赶 ASML(2023-12-27)
社长御手洗富士夫近日表示,纳米压印光刻技术的问世,为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能半导体设备业务经理岩本和德表示,纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上,只需......
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挑战ASML ?佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
处理器等逻辑电路相比,存储制造商具有严格的成本限制,且对缺陷要求放宽,纳米压印光刻技术与之非常契合。
据DIGITIMES此前消息,SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备,正在进行测试与研发,目标在2025年左......
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Toppan Photomask与EV Group达成合作(2022-09-20)
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作,通过结合各自优势,提供纳米压印光刻技术开发工具包,并实......
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美光计划部署纳米印刷技术,降低 DRAM 芯片生产成本(2024-03-05)
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻(NIL)半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示,纳米压印光刻技术的问世,为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能......
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成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?(2023-10-11)
是现在离产业化比较近的一个。
在2020年和2021年国际器件与系统路线图(IRDS)中,我们可以看到都有一个纳米压印光刻技术与EUV光刻并列在一起,但2022年的IRDS中,又删......
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佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造(2024-02-11)
印记,而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录,据称与行业巨头ASML的EUV设备相比,其能耗降低了90%。
去年,佳能推出了首款纳米压印光刻(NIL)设备,该设备可以与ASML的极紫外(EUV......
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美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机!(2024-03-08)
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机!;
业内消息,近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印(NIL),旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
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可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
公司宣布开始销售基于“纳米压印”(Nanoprinted lithography,NIL)技术的芯片生产设备
FPA-1200NZ2C。佳能表示,该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案,可以制造5nm......
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ASML正计划搬离荷兰?向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
领域一直处于垄断地位,而佳能纳米压印光刻技术的出现,有望打破这一局面,使芯片制造更加多元化,从而推动整个行业的发展。
ASML公司作为光刻机领域的龙头企业,面临着前所未有的竞争压力。新技术......
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日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂(2022-12-13)
,还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。
KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术,但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
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佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日,佳能宣布成功交付首台新型纳米压印(NIL)光刻机,设备将被送往美国得克萨斯电子研究所(TIE)。
资料显示,TIE设立于2021年、是由......
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佳能推出纳米压印半导体制造设备,执行电路图案转移(2023-10-16 11:09)
官方介绍称,其NIL技术可实现最小线宽14nm的图形化,相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。随着掩模技术的进一步改进,纳米压印光刻有望实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。此外,新产品采用新开发的环境控制技术......
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佳能 CEO:纳米压印“光刻机”无法出口中国!(2023-11-08)
佳能 CEO:纳米压印“光刻机”无法出口中国!;
上个月(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
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挑战 EUV!佳能发布新型 2nm 光刻机(2023-10-16)
挑战 EUV!佳能发布新型 2nm 光刻机;
最新消息,近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C
的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
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昇印光电嵌入式纳米印刷实现全铜增材电路印刷,完成超亿元融资(2023-07-18)
资。本轮融资由领航新界资本和软银中国资本(SBCVC)共同领投,昆山高新创业投资有限公司跟投。作为嵌入式纳米印刷技术发明者,昇印光电以微电铸、纳米压印、嵌入式印刷作为模块化微加工技术,可实现1.4m......
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纳米压印光刻机能绕过制裁吗;台积电获美国豁免;高通又裁了丨一周速览(2023-10-13)
能发言人拒绝就新设备是否会受到日本出口限制发表评论。
其次,其实纳米压印光刻还是光刻技术中的一种。在《成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?》一文中,我们详细解析了现在的光刻技术,纳米亚印光刻不是一个新技术,但极具潜力,被印......
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EUV光刻新突破,是不是真的?(2023-09-18)
都有所规划,并且已经持续数十年,它就是国际器件与系统路线图(IRDS)。
根据路线图规划,极紫外光刻(EUV)、导向自组装(DSA)和纳米压印光刻(NIL)是下一代纳米制程节点的技术候选方案。不过,纳米压印光刻......
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韩国吉佳蓝公司将在中国无锡,建设刻蚀设备研发制造基地(2024-07-29)
无锡建设半导体刻蚀设备研发制造基地。
根据报道,此次吉佳蓝与无锡高新区、市产业集团签约合作在锡落户中国总部项目,将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线,同时计划引入纳米压印光刻设备生产,努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆,进一......
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日本佳能推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-16)
之一,很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。目前,纳米压印技术在国际半导体技术蓝图(ITRS)中被列为下一代 32nm、22nm 和 16nm 节点光刻技术......
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纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步?(2023-10-31)
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步?;
在半导体制造的高科技世界中,在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长,对先进光刻技术的需求也在增加。谈到......
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佳能推出纳米压印半导体制造设备,执行电路图案转移(2023-10-16)
的进一步改进,纳米压印光刻有望实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。此外,新产品采用新开发的环境控制技术,可抑制设备内细颗粒污染,使精细复杂电路的形成成为可能,有助于制造尖端半导体器件。
......
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基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实方案(2024-07-01)
了增强实现应用。
基于超构透镜阵列的近眼集成成像显示示意图
基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实概念图
尽管用于高通量超构表面制造的纳米压印光刻技术和实时渲染算法可以推动用于未来虚拟现实和增强现实应用的集成成像......
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佳能押注“纳米压印”技术,价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
Holdings Corp.)合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同,佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上,从而......
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10亿中韩半导体基金落地,多个项目已签约(2024-08-21)
目将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线,同时计划引入纳米压印光刻设备生产,努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆,进一步增强无锡集成电路产业核心竞争力。
据悉,吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业,主要......
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全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...(2024-10-26)
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。
佳能交付首台新型纳米压印光刻机
在光刻机市场竞争中,佳能的策略是专注于KrF和i-line,而不涉及EUV......
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DNP开发出新一代半导体封装用中继元件中介层(2021-12-01)
应用于制造绘制半导体电路图案的"光掩膜"板,用于下一代图案转印的纳米压印光刻技术的 "模板",以及为传感器MEMS提供代工服务等。通过运用在过去业务中积累的玻璃和硅基板加工以及处理技术和微缩布线技术,此次......
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日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机(2023-12-26)
价格或将超过3亿美元,这也使得尖端制程所需的成本越来越高。
相比之下,的目前纳米压印技术将可以使得芯片制造商不依赖于EUV光刻机就能生产最小5nm制程节点的逻辑半导体。
佳能......
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EUV、NIL等下一代光刻专利数量上,台积电远超三星电子(2023-01-28)
NIL(纳米压印)和 DSA(引导自组装)等替代技术方面,佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件,台积电拥有145项,三星电子为70项专利;但在DSA光刻......
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21年来首次!佳能扩产光刻机设备!(2022-10-08)
以低成本制成尖端微细电路的新一代设备。
目前,佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备,在学术界,日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术,据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片,成本将比现有EUV光刻......
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日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-14)
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备;10月13日,日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,这是最重要的半导体制造工艺。
随着掩模技术......
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佳能:删除872条第三方侵权打印墨盒商品信息(2024-01-26)
端的SPAD传感器、光子计数CT、利用深度学习的图像处理技术、下一代商业打印技术和纳米压印光刻,因此该公司取得了诸多技术专利。
美国作为庞大的市场,且拥有众多的高科技公司,对于......
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绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠,以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作,在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL)
的量产技术,可以不使用EUV光刻机,就能使制程技术......
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ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
点是产能低,效率低,无法大规模量产芯片,只能实验室用,但也不失为一条新的路。
第二条路是纳米压印,也称NIL技术。原理是电路图设计出来后,刻在纳米板上,再像印书一样压印在硅片上。
这种的优点非常多,比如......
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华为哈勃新入股一家纳米压印设备厂商(2021-08-02)
以及生产咨询服务。公司致力于拓展纳米压印技术在创新产品领域的应用,例如3D传感(DOE、Diffuser等)、AR/VR、生物芯片、集成电路、显示、太阳能电池、LED等。
今年1月,天仁......
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台积电CEO秘访ASML,High-NA EUV光刻机竞赛提前打响?(2024-05-30)
或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术,如NIL(纳米压印光刻),EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜,即不......
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佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
端领域为满足电路图案进一步微细化的需求,佳能也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产。
自1986年起,佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域,开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后......
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不用EUV也能直上5纳米,铠侠与合作伙伴开发中有意率先导入(2021-10-23)
始与半导体设备厂佳能,以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作,在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影的量产技术。当前铠侠已掌握15纳米的制程量产技术,目前正在进行15纳米以下技术......
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瑞士微纳光学企业成中企标的,炬光科技收购SMO100%股权(2024-01-22)
加工((非)柱面微透镜、2-20 微米尺寸的凹槽、中心对齐精度小于 3 微米的双面微透镜结构等特殊微纳结构,并可制备特定角度的微棱镜形成集成式一体化微透镜。
SMO自主研发的纳米压印微纳光学设计与制造技术......
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佳能光刻机现在是什么水平?探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
在做一种“纳米压印”光刻技术——达成光刻的方法和“光学曝光完全不一样”,“类似于盖章,没有复杂的光学元器件”,不是通过图案mask(掩模板)后微缩曝光,而是一种“等比例”的技术,“reticle上面是多少纳米......
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ASML摊牌了:可远程瘫痪台积电光刻机(2024-05-22)
将推出的A16节点技术需求,他强调是否采用ASML的新技术将基于经济效益和技术平衡考量。
可以说,对ASML来说,不仅要面临最先进光刻机的出货压力,还要面临竞争对手,诸如佳能纳米压印光刻的压力。而如果ASML......
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高意推出用于高功率工业激光器的衍射光学元件(2023-01-16)
:Coherent高意公司
光学元件的创新是显著降低工业激光器拥有成本(Cost of Ownership)并加快其在现有和新应用中采用的关键因素。Coherent高意利用其专有的纳米压印技术......
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全新 EVG®880 LayerRelease™ 离型层系统将半导体层转移技术产量提高一倍(2024-06-20)
电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。其主要产品包括:晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印(NIL)与测量设备,以及光刻胶涂布机、清洗......
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总投资5亿元,微纳光学器件及半导体光掩模生产项目签约(2023-04-25)
资5亿元。
海门开发区微平台消息称,半影光学(南京)有限公司主要致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务,该公司生产的光掩模产品在技术上突破了传统纳米压印......
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EV集团为EVG®850 NANOCLEAVE™系统采用革命性的层转移技术,实现批量生产(2023-12-13)
(EVG)是为半导体、微机电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。主要产品包括:晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印(NIL)与计......
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炬光科技获微纳制造技术产业化“领航企业奖”(2024-04-24)
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略,并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术,例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印精密微纳光学设计与加工制造技术......
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炬光科技获微纳制造技术产业化“领航企业奖”(2024-04-25 08:50)
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略,并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术,例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印精密微纳光学设计与加工制造技术......
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微纳制造赋能百业!2024(首届)微纳制造技术应用峰会盛大举办!(2024-04-25)
赋能百业——纳米压印技术平台的价值》。他介绍了纳米压印技术的产业化历程,突出其技术优势和应用拓展情况。同时,罗博士重点探讨了纳米压印技术平台的价值,以及新维度公司在该模式的布局情况。他指出,纳米压印技术......
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ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?(2024-06-07)
路线发展受欧美限制,且该技术路线前景灰暗的情况下,中国大陆厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随,还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新的技术路径?将会面临困难的抉择。比如佳能去年就推出了面向先进制程的奈米压印......
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文晔收购富昌背后原因“令人寒心”,苹果跌落神坛,年内最大IPO“落听”丨一周速览(2023-09-18)
机,其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率,在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小,部分应用领域离国际先进水平具有一定差距,需要持续的研发投入;纳米压印光刻领域,公司......
相关企业
及菲律宾等地区。 主要产品包括有:晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;武汉名印光电科技公司;;
;深圳市鸣名光电技术有限公司;;深圳市鸣名光电技术有限公司是一家专业制作光盘的服务型科技类企业,致力于高品质的光盘生产,所有产品均经过严密的质量检测,为客户提供一流的产品和服务。公司
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
;北京汇德信科技有限公司;;北京汇德信科技有限公司成立于1999年,是由数位留学德国的科研人员所创建,主要宗旨是将国际上最先进的科研仪器、系统设计、实验室配置及运行管理的理念带到国内,并致力与国内外一流企业和研究部门在纳米技术
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
;淄博力倍得工控器材商行;;本商行成立与1999年.主要经营意大利SITI西蒂压机配件.SACMI萨克米压机配件.气动元件.工业皮带.低压电器等。渠道正宗,质量优良,价格便宜,服务及时。
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硼化硅、纳米硼化锆、纳米硅粉、纳米氮氧化钛等产品专业生产加工的股份有限公司,尤其是以我公司国际领先水平的纳米分散技术为基础,开发出纳米合金变质技术、PET纳米改性技术、燃煤纳米催化技术、纳米电池修复技术