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芯碁微电子装备有限公司相关负责人介绍说,即将投产的激光直写光刻机、双台面激光曝光机,均为进口替代产品。 其中,该公司的MLL及LDW系列光刻设备是国内目前唯一可以替代进口的半导体光刻设备,已有38所、771所、中科......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1,今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导体......
胶以正性为主。按应用领域,光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶。而下文将主要围绕半导体光刻胶展开描述。 数十年里,半导体行业的迅猛发展离不开光刻工艺的进步,而光刻工艺必然也离不开光刻机......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产 佳能将于2023年1......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
尼康计划推出支持3D半导体的光刻机,目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道,尼康计划在2025财年(截至2026年3月)将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年(截至2022......
气相沉积(PVD)和氧化等特定领域,国产化比例已超过50%。但关键的光刻机设备主要还是依赖于进口。 一组统计数据显示,2023年1-6月期间,在中国A股上市半导体......
设备产业也正经历着“四大挑战”。 2015 年全球半导体市场市占率 (Source:拓墣产业研究所整理,SEMI, 2016.9) 中国半导体设备的关键零部件受制于人:以光刻机为例,光刻机......
杀器 光刻机之王的桂冠,如今戴在ASML的头上,但正如众人所熟知的那样,20年前这项荣誉属于尼康。 尼康成立于1917年,上世纪60年代涉足半导体业务,得益于上世纪80年代日本半导体......
光刻胶产能紧缺,盘点全球13家供应商产品类型(附表);半导体光刻胶缺货 在价格方面,受下游需求不断增加,芯片价格上涨的影响,光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍,仅在今年1-2月,江苏......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
石相关负责人介绍,企业正加速推进海外布局战略,并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下,预计今年底,企业将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。 此次引入电子束掩模版光刻机,冠石半导体......
国产高端光刻胶为啥量产难?一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局;有一种材料,占半导体市场不到1%的规模,却决定了芯片能否生产,该材料的供应商集中在日美两国,尤其是头部企业在日本最为聚集,这种材料就是光刻......
一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头。  众所周知,ASML是全球最大的光刻机设备厂商,2021年,ASML曾2次提高生产目标,希望到2025年,其年出货量能达到约600台DUV(深紫......
主要分析国产刻蚀厂家的发展优势和经验决策。 1.中微公司 从2004年创立至今,中微半导体设备(上海)有限公司在短短十余年时间里追上国际先进水平(5nm),成为国内生产刻蚀机水平最高的企业之一,其背后的杀手锏就是“研发实力”。而中微......
飞凯材料:半导体光刻胶已形成少量销售,正在做KrF相关的开发工作;4月12日,飞凯材料公布投资者关系活动记录表。飞凯材料的光刻胶主要有显示面板光刻胶和半导体光刻胶,其主要产品多应用于半导体封装、面板......
设备(特别是EUV光刻机)等领域仍存在一定差距,但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域,中国企业已经取得了一定的市场份额,并逐步实现国产化替代。 市场上冒尖的中国半导体......
胶的生产研发状况时表示,“公司目前正在生产和销售的半导体光刻胶主要包括I线和G线光刻胶,此外还有印制电路板(PCB)和液晶显示器(LCD)光刻胶等;购买的光刻机主要用于未来高端半导体光刻机......
芯片紧密相连的 2.5D 技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。 为此,佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”,通过半导体......
技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。为此,佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”,通过半导体......
21年来首次!佳能扩产光刻机设备!;据日经新闻报道,佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量,将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称,佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂,目标......
相机、摄影镜头、网络摄像头、多媒体投影机等。 而我们最为关心的光刻机、蒸镀机这类设备属于其中的“工业与其他”。从2021年的营收情况来看,佳能的这项业务占到整个佳能公司营收的大约15.5%。该业务具体的产品包括了半导体光刻机......
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机;4月1日,据日经中文网报道,佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机,佳能光刻机新产品最早于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍,可支......
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001:比光刻机精度更高,可提高生产效率;IT之家 2 月 21 日消息,在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域,制造工艺日趋复杂,半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品 不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造 还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
”。 据了解,在半导体芯片的制造工艺中,光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。 保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在......
快速发货流程的应用,以便帮助客户实现必要的产能扩张。 尼康 光刻机出货量倍增、积极开拓新客户 日媒报道,近期尼康提出半导体光刻设备业务新发展目标:到2026年3月为止的财年,将光刻机......
核心供应商A公司的重要供应商。 炬光科技表示,公司为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器,是荷兰ASML光学设备核心供应商A公司的重要供应商。相关......
中微半导体诉讼美国泛林公司非法获取商业机密获胜; 据业内信息,昨天中微半导体设备(上海)股份有限公司宣布,在针对美国半导体设备大厂泛林集团(Lam Research Corporation......
划将于2025年12月31日之前执行。 公开资料显示,在全球半导体光刻机市场,ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外,日本两大光刻机......
胶批量测试的过程需要占用晶圆厂机台的产线时间,在产能紧张的时期测试时间将会被延长。测试的过程需要与光刻机、掩膜版及半导体制程中的许多工艺步骤配合,付出成本极高。通常面板光刻胶验证周期为 1-2 年,半导体光刻......
设备厂商近年来不断加大自主研发力度,半导体设备国产化比重逐步提升,一些行业龙头企业也正迎来发展拐点。业内人士表示,投资者可关注相关板块。 记者近日从中微半导体设备(上海)有限公司采访获悉,作为国产半导体......
造需求。 尼康披露旗下首款半导体后端工艺用光刻机 而尼康依旧想在ArF浸润式和ArF干法领域有所收获。据悉,尼康计划在2026财年之前陆续推出三款半导体光刻机,进一步通过增加氟化氩(ArF)干式、氟化......
量已增加至每小时280发,并且通过减少停机时间,与当前型号相比,整体生产率提高了10-15%,已达到该司半导体光刻设备中最高的生产率水平。 此外,尼康表示,曝光设备在不牺牲生产率的情况下,在需要高重叠精度的半导体......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机......
半导体光刻机巨头,何去何从?;3月27日消息,据外媒报道,为留住光刻机设备巨头阿斯麦(ASML)继续在荷兰发展,荷兰政府计划向ASML注入至少10亿欧元资金。 本月初,荷兰当地报纸De......
。 △Source:拓荆科技公告截图 资料显示,拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀......
厂商景气度连涨两年 按照工艺流程划分,半导体设备可分为晶圆制造(前道设备)和封装、测试设备(后道设备)。 前道晶圆制造设备占据了市场80%以上的份额,设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀......
(300mm)硅片超过99%依赖进口。与之形成对比的是,12英寸硅晶圆的市场占比在2020年已经超过70%。 (2)光刻胶 日本的半导体光刻胶产能占全球产能的一半以上,该国在该领域有很大的话语权。去年7月......
制造流程的各阶段所需(除光刻机外),各领域设备国产化率及主要厂商如下图所示。 图片来源:全球半导体观察制表 整体上,我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高,在CMP、热处......
ASML再次改口!国家迅速回应,外媒:荷兰将光刻机事情闹大了;近年来,行业发展迅猛,成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业,其对华出口的态度一直备受关注。然而,最近......
节点之争剧烈,EUV光刻机的争夺也成为焦点。 由于ASML在光刻设备上一家独大,其光刻机供货情况牵动着半导体产业链。在当下设备严重缺芯缺零件下,ASML情况也十分胶着。 官方消息显示,2021年,ASML......
中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业秘密案,终审胜诉!;7月11日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布,公司在针对美国半导体设备大厂泛林集团(Lam Research......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比,我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距,但近年来,随着首台28nm国产光刻机成功交付,中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是,除了自研光刻机之外,我国在半导体......
中微半导体首台8英寸CCP刻蚀设备顺利付运;近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微半导体”)首台8英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利......
胶研发生产企业。 此前,晶瑞电材发布公告称,控股子公司瑞红苏州通过定向发行股票募集资金总额达人民币8.5亿元。所募集资金将用于瑞红苏州在先进制程工艺半导体光刻胶及配套试剂业务的研发、采购、生产、销售......
配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。 该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610,T150 A在光刻......
南昌中微半导体设备生产基地项目将于明年4月投产;近日,据高新投资集团官微消息,截至目前,公司旗下城开公司投资建设的南昌中微半导体设备有限公司(以下简称“南昌中微半导体”)生产......
中微半导荣获深圳市半导体行业协会颁发年度“市场表现奖”;3月29日,深圳市半导体行业协会召开的深圳市集成电路产业总结大会暨深圳市半导体行业协会第八届第一次会员大会在深圳深铁皇冠假日酒店举办。中微半导体......
中微半导体完成对上海睿励1亿元增资;浦东科创集团官方公众号消息,近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微半导体”)完成对睿励科学仪器(上海)有限公司(以下简称“上海睿励”)1亿元......

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;中微光电子(潍坊)有限公司;;中微光电子(潍坊)有限公司(以下简称:中微公司)是一个总部设在山东省潍坊市高新技术产业开发区的高度全球化的高科技跨国公司。公司的初创资本和产品技术主要来自于美国。中微公司是一个以半导体光
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cmsemicon;中微股份;;深圳市中微半导体有限公司是一家专注于集成电路设计与销售的高科技企业。公司自2001年6月成立以来持续稳健发展,与国内外众多知名厂家建立了长久稳定的合作关系。 历经
;重庆中科芯亿达电子有限公司;;重庆中科芯亿达电子有限公司由中国电子科技集团公司第24研究所和深圳中微半导体公司共同投资设立,于2009年12月23日正式成立。依托
;怡芯微半导体科技有限公司;;深圳市怡芯微半导体科技有限公司,是闪字风扇方案、倒车雷达方案、车机方案、防盗报警器方案、遥控器方案、插卡小音箱方案、无叶风扇方案、单片机软件开发、RF高频
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