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业界对于佳能最新推出基于纳米压印技术的芯片制造设备可以绕过EUV生产5nm充满了兴趣,认为这可能会是一条能够绕过美国限制制造更先进制程芯片的路径。 虽然在今年7月日本实施了新的出口管制措施,限制了可以被用于先进制程的浸没式光刻机......
绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息,光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布,其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
DUV光刻机遭进一步限制,中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向,知名行业分析师Dylan Patel认为,三方所达成的合作意向依然非常初步,本质......
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
并不限制中国,还在正常供应,因为供应商主要来自于欧洲荷兰的ASML以及日本Nikon、佳能,并不直接受美国禁令,但EUV目前并未买到。目前,前道设备格局是:1、光刻机:由欧洲ASML和日本Nikon和......
功率远比EUV光刻机低,一台EUV光刻机一年要用1000万度电,但这种NIL技术能耗减少90%,且制造成本比EUV光刻机低40%。 缺点是目前精度不够,远远达不到7nm、5nm的级别,大约还处于28......
芯片制造工艺黑科技再现,那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足?; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后,近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的,并且......
实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。   半导体制造领域,光刻机是昂贵且关键的设备,而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”,担负......
如此,终端市场驱动因素的发展(比如 5G,人工智能,和高性能计算),将推动先进制程的逻辑芯片和存储芯片的市场需求,这都需要使用到先进的光刻机。” 值得一提的是,目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本......
单一国家想要与别人分开是极其困难和需要巨大成本的。 Fouquet 认为 成功的秘诀就是与全球关键供应商维持长期合作,全部自己做的想法是极具挑战的,日本光刻机制造商佳能和尼康就是前车之鉴。 3 月荷......
NA EUV —— EXE:5000的部分组件。High NA EUV设备被誉为“下一代EUV光刻机”,其数值孔径(NA)为0.55,可用于制造5nm及以下(2nm/1nm)芯片产品,预估......
我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。” 极紫外光刻产业:不仅只有EUV 光刻机供应商除ASML之外,还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要,ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”(DUV)光刻......
光刻机将芯片制造工艺推进至7nm,国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术,如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片,对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降。 ASML硬气......
纳米及更先进制程,必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中,台积电和三星均已引入光刻机。目前,台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段,台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机!; 业内消息,近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印(NIL),旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
亿个/mm2,与5nm相比,功耗下降25%~30%,功能提升了10%~15%。 2纳米作为下一代节点,性能势必有更进一步的提升,功耗也将进一步下降。市场的需求是可以预期的。这或许正是日本......
两年是芯片缺产能,然而今年下半年开始市场需求不足,芯片产能又大增,台积电现在要发愁的是5nm产能利用率。来自供应链的消息称,由于5nm芯片的利用率下降,台积电不得不考虑关闭部分EUV光刻机,该公......
上了,EUV光刻机有储备。 更具体地说,台积电Fab 15的5、6、7期在跑7nm EUV光刻工艺。Fab 18的1、2、3期造5nm工艺;预计2024年5nm工艺要达到240k片晶圆/月的产能;亚利......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议?将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道,、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络:或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务;将全......
等浸入式 DUV,这些设备最高可支持 5nm 工艺,台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机......
/5nm工艺,台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。 目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术,以满......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内,对EUV的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年......
7nm、5nm芯片问题,挑战ASML的市场主导地位。 美国为了打压我国芯片产业,牺牲自身利益,但芯片产业链巨大,包括设计、制造、封装、架构、材料、设备、EDA工具等。中国芯片产业的瓶颈在设备端,特别是光刻机......
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片,目前正寻求产业链的合作。 2nm关键设备EUV,厂商“抢疯了” 随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强,半导......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备!;尽管半导体产业仍处调整周期中,但部分应用市场需求强劲,正吸引半导体厂商积极扩产,而在芯片制造过程中,制造设备不可或缺。近期,为满足市场需要,全球光刻机大厂ASML又有......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机:成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难,光刻机龙头ASML也是举步维艰,一点点改进。ASML宣布,将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
又一台天价光刻机,即将出货!; 据韩媒最新报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV(极紫外)光刻机设备,这或......
ASML柏林厂大火恐将影响EUV光刻机供应...;市调机构TrendForce在最新调查中指出,占地32,000平方公尺的柏林厂区中,约200平方公尺厂区受火灾影响。而柏林厂区主要制造光刻机......
是可以进行多次曝光。 至于DUV是否能进行7nm以下更先进的制程?据台积电前研发副总林本坚(Burn Lin)表示,依靠ASML的DUV光刻机,是可以继续将制程工艺从7nm再推向5nm,但要......
全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...; 近日,ASML发布最新三季度财报后,股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间,尼康和佳能陆续发布的光刻机......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1,今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
公司的态度再次发生变化,引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
续续的亏损也还是常事,12台 5G/6G 的面板光刻机总算填补了财报窟窿,勉强有毛毛雨般的毛利润。(才33亿日元) 可以断言。如今ASML的芯片光刻机已经把日本的芯片光刻机厂商尼康和佳能都踩烂了,芯片光刻机......
司成立了Rapidus公司,计划在2025年试产2nm工艺。 从45nm到2nm工艺无异于弯道超车,为此Rapidus公司也多管齐下,跟光刻机公司ASML、欧洲微电子中心IMEC及美国IBM公司达成合作,其中......
的制程节点受益。 Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜,机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价,每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价,显然还是要低很多。此前有报道称,业界......
着芯片制造技术的提升,一些半导体设备,制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识,只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的,一方......
EUV光刻机设备,用于7nm、5nm、4nm等先进制程,且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程,这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示,因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果,使台......
国脖子的设备有很多,但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说,5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为,当金属间距缩小到30nm以下(对应工艺节点超越5nm),光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
开消息显示,英特尔目前已获得ASML的先进光刻机,极紫外 (EUV) 光刻机。 据悉4月上旬,英特尔在位于爱尔兰Leixlip的Fab 34工厂,完成了首台极紫外(EUV)光刻机的安装,Fab 34......
年 目前,全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能把持。其中,仅ASML一家就占据了全球80%以上的市场,是唯一能量产EUV光刻机(波长13.5nm,可生产7nm/5nm的芯片)的厂......
EUV将成主流,哪些公司将受伤?; 来源:内容来自 华盛证券,作者华盛九叔 ,谢谢。 据相关机构统计,整个2016年,ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58......
实施出口管制的六大技术,都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关,尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品,EUV光刻机在半导体制程的重要意义可想而知。 “用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件”涵盖EUV光刻......
广岛的工厂将于2025年生产最先进的存储芯片“1γ(Gamma)DRAM”。他表示,美光将成为第一家将EUV光刻机引入日本的半导体企业。预计1γ DRAM将使用EUV光刻机......
年出货量较目前的三年平均水平提高一倍以上。据悉,目前尼康平均每年售出16台ArF光刻机(含二手翻新)。 客户方面,尼康将积极开拓新客户,尤其是日本本土与中国地区客户。 除此之外,为提升光刻机......
显影机、离子注入机、检测设备等,国产化水平还很低,特别是在光刻机方面。 目前,全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能把持。ASML占据了全球80%以上的市场,也是唯一能量产EUV光刻机......
可怕的台积电,一口气买下5台EUV光刻机; 版权声明:本文内容来自经济日报,如您觉得不合适,请与我们联系,谢谢。 巴隆周刊(Barrons)报导,艾司摩尔(ASML)上周......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超?(附厂商盘点);刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺,有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化(CMP)等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
进的高数值孔径EUV设备的数值孔径将从0.33提高到0.55,这意味着设备可以绘制更精细的电路图案。 自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来,三星的7nm、5nm、3nm工艺,台积......
信越化学停止供货,光刻胶再现缺货潮;近日,由于日本信越化学KrF光刻胶产能不足等原因,中国多家晶圆厂均出现了KrF光刻胶供应紧张的问题,部分中小晶圆厂的KrF光刻胶甚至出现了“断供”现象。随着“一胶......

相关企业

;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机,金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属印字机,金属打字机,高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司;;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 公司代理进口优质的日本纳米光触媒系列产品,将日本
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如:布料花边冲孔,布料激光裁剪,有机玻璃、压克力制品加工,导光板切割,皮革打孔。激光刻字,金属件刻字,塑胶件激光打标,激光焊接加工。
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品,章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司