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一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
用于舰载超压传感器。 这不是俄罗斯首次对外公布有关光刻机的消息， 2022年10月，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布朝光刻机领域展开工作，该研究所希望能开发俄罗斯首台本土光刻机，用以生产7纳米......
是俄罗斯首次对外公布有关的消息， 2022年10月，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布朝领域展开工作，该研究所希望能开发俄罗斯首台本土光刻机，用以生产7纳米拓扑芯片。对此，业界认为，这需要数年时间才能实现。......
EUV光刻新突破，是不是真的？;这几天，关于光刻的迷惑性传言又来了。 事情围绕 EUV而起，传闻者将其包装的“有鼻子有眼”，大概意思就是有总比没有强。发酵愈深，传闻愈悬。 这也引发EEworld坛友......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
装置，另一个是硅的等离子体化学刻蚀设备。 具体来说，无光罩纳米光刻设备成本在500万卢布（约合36.6万人民币）以内，相当于中国一辆质量良好的车，而外国类似平台成本则高出十倍，要花......
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。 据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
中国半导体厂商再引入ASML光刻机！;近日，上海鼎泰匠芯科技有限公司（以下简称“鼎泰匠芯”）洁净室交付，首台ASML光刻机设备搬入。 鼎泰......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中国......
CIS集成电路半导体项目正式搬入ASML先进ArF光刻机设备；11月，位于上海临港新片区的鼎泰匠芯洁净室正式交付，还搬入了首台ASML光刻机。 ASML：一如既往地投入和支持中国市场 光刻机是......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。 报道中提到，尽管......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！ ▲首台设备搬入 造芯：预计......
是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本30%以上，占据将近50%的生产周期。卡中国脖子的设备有很多，光刻机是国产化率成长最慢的一个。虽然如此，无论资本市场，还是自媒体，现在......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》电子专用装备目录下，集成电路设备方面包括：氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻......
获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址：       ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机是......
体行业准备迈入High-NA EUV时代 众所周知，EUV光刻机是先进半导体生产的关键。从本质上理解，High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展。NA代表数值孔径，表示......
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示，光源还可以继续用193纳米，但换个介质试试，不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质，光源通过水会产生折射，使193纳米光源实际效果可能比157......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
350nm，俄罗斯光刻机制造完成;5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
设备（特别是EUV光刻机）等领域仍存在一定差距，但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域，中国企业已经取得了一定的市场份额，并逐步实现国产化替代。 市场上冒尖的中国......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的3纳米半导体芯片制程技术后，三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机，目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术，2025年进入2纳米制程技术，并在2027年进入1.4......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
于下半年开始试产，2025年二季度小量生产。 英特尔方面，去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔，助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
正式投入使用前的一项重要准备工作，代表光刻机的光源已经正常工作了。此后，英特尔又对外分享视频，展示了首台High-NA EUV 光刻机交付过程，相关组件通过空运从荷兰运到美国，相比......
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。 此外，为助......
亿欧元，毛利率为48.6%，净利润达36亿欧元。 EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备，主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年，ASML共销售31台EUV，较前一年增加5台，创收45......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
机器很快就会停止工作。 毕竟光刻机是一个很玄乎的东西，时刻在雕刻纳米级的雕塑。就比如，《光刻巨人：ASML崛起之路》一书中所说的，曾经美国亚利桑那州fab厂中光刻机不断故障，始终查不出到有任何技术问题，直到......
报会议上，ASML表示，将维持55台EUV光刻机的产能预期。有供应链消息传出，三星今年将预定18台EUV光刻机，而台积电则最少预定22台。 此外，有业内人士认为，三星和台积电今年量产3纳米......
光集团重点区域布局的一环，也是看好大湾区区位优势，投资具有战略性、引领性、前瞻性...详情请点击 5 又一台光刻机进入中国工厂 据重庆两江新区消息，12月27日，锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台......
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。 吴金......
10亿一台仍供不应求！目前，全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机，台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂，这些技术掌握在由42个国......
.https://www.researching.cn/ ArticlePdf / m00018/2020/49/9/20201035.pdf [12] 中国光学：Nanophotonics | 纳米光刻......
基板及封装的设计提供了统一的格式和规则要求，为相关方设计数据的交换和处理、信息和结果的共享提供了统一遵循的原则...详情请点击 6 俄罗斯首台光刻机制造完成 5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机......
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。   半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
开消息显示，英特尔目前已获得ASML的先进光刻机，极紫外 (EUV) 光刻机。 据悉4月上旬，英特尔在位于爱尔兰Leixlip的Fab 34工厂，完成了首台极紫外（EUV）光刻机的安装，Fab 34......
上海微电子推出新一代先进封装光刻机，首台将于年内交付;据上海微电子装备集团消息，9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 图片来源：上海......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货; 综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今日在韩国首......
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂;4月16日，由广东微技术工业研究院（简称“广东工研院”）组织的“曝光时刻--3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机......

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