资讯
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
图案通过投影透镜缩小，再将图案曝光在晶圆上。晶圆在晶圆台上依次移动，电路图案将在一个晶圆上重复曝光。因为电路是由从微米到纳米※8级别的超精细图案经过多层堆叠制成，所以半导体光刻机......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
德州大学奥斯汀分校支持成立的半导体联盟，由德州当地政府、半导体企业、国立研究所等所组成，而TIE将使用NIL光刻机进行研发与试产先进半导体。
传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案，佳能......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
制造当中最关键的核心装备，相当于晶圆制造的照相机，通过曝光的方式将图像投射到硅片上。光刻作为集成电路制造的关键工艺，利用光化学反应原理把实现制备在掩模版上的图形转印到晶圆表面，后续经过蚀刻在晶圆上......
半导体后端工艺｜第七篇：晶圆级封装工艺(2024-06-03)
利用等离子体束对靶材进行物理碰击，使靶材粒子脱落并沉积在晶圆上的工艺。
图1：各类晶圆级及相关步骤
光刻工艺：在掩模晶圆上绘制电路图案
光刻对应的英文是Photolithography，由“-litho（石刻......
小伙儿在家自造芯片和光刻机！(2024-10-22 16:01:50)
见方。
然后Zeloof在晶圆的表面上图
涂上光刻胶，再把它放到自制旋涂仪上，用4000rpm的速度去旋转个30秒
钟......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！(2024-03-08)
增加更多曝光步骤，以取出密集存储阵列周围的虚置结构。
佳能于2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C纳米压印，可将电路图案直接印在晶圆上，佳能强调了该设备的低成本和低功耗，号称通过纳米压印光刻（NIL......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！(2023-05-29)
晶体管只有 3
个原子的厚度，堆叠起来制成的芯片工艺将轻松突破 1nm。
目前的半导体芯片都是在晶圆上通过光刻/蚀刻等工艺加工出来的三维立体结构，所以......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
用传统机械模具微复型原理。简单来说，传统的光刻设备通过将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案，而纳米压印光刻造芯片则通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，就像印章盖在橡皮泥上，然后......
科普 | 芯片制造的6个关键步骤(2022-08-08)
时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。
光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻胶。如之前介绍的那样，当光线照射到光刻胶上时，会产......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上如实再现。
佳能表示，相较于传统光刻机......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破;
光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造(2024-02-11)
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道，佳能表示，首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备，不过这将用于试运行。
报道称，这些新设备的工作原理是在晶圆上......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm(2023-03-10)
的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率......
ASML官网显示支持7nm高端DUV光刻机仍可出口(2023-07-03)
并不在限制范围内。
ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是......
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm(2023-03-10)
在分辨率方面，写到是大于等于38nm，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆......
ASML：支持7nm高端DUV光刻机仍可出口(2023-07-05)
支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台，大多......
ASML加大中国市场开拓：7nm高端DUV光刻机可出口(2023-04-18)
上关于这一台TWINSCAN
NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
导指出，采用High-NA EUV光刻机对于台积电开发2纳米以下制程至关重要。因为High-NA EUV光刻机将数值孔径从0.33增加到0.55，可以进一步在晶圆上达到更高分辨率。而根......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
设计。
△Source：英伟达官网
其中，元件尺寸缩小在很大程度上是由光刻工艺和技术的发展推动的。光刻阶段，晶圆会被放入光刻机中，被暴露在深紫外光（DUV）下，光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻......
EUV光刻究竟难在哪里？看完本文你就明白了(2016-11-18)
整个IC产业的发展，EUV光刻算得上是迄今为止碰到最难解决的问题。
EUV的电源将等离子体转换成13.5nm波长的光线，然后经过镜子的几重反射之后，再打落到晶圆上。现在的EUV可以在晶圆上“打印......
ASML加快拓展中国业务：支持7nm高端DUV光刻机可出口(2023-04-28)
上关于这一台TWINSCAN
NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT......
晶圆大厂抢抓12英寸主流，半导体设备跟随布局(2023-10-27)
片，然后通过抛光等步骤将晶圆厂需要的晶圆材料准备好。
收到晶圆片后代工厂还需经过湿洗等步骤完成光刻准备工作，先通过光刻机在晶圆上打印特定的电路......
7nm高端DUV光刻机仍可出口！ASML订单爆满：今年销售激增30%(2023-07-19)
:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
......
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-29)
制造中最重要的步骤，是目前最主要的在晶圆上制作亚微米和纳米精度图形的技术。光刻是利用光化学反应(Photo-Chemical
Reaction，PCR)原理把制备在掩模上的图形通过光刻投影系统转印至晶圆上......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品(2023-03-13)
硅片实现超高解像力的显示器制造形式。
※4.为了对半导体电路进行多层叠加制造，以定位为目的在晶圆上作的标识
〈主要特点〉
1.通过制造方法的革新，兼顾高解像力与大视场曝光，实现......
DUV光刻机出口许可被撤 ASML：中国订单已全数交付(2024-01-03)
、TWINSCAN NXT:2050i。
报导说，ASML官网上关于TNXT:1980Di介绍中指出，它在分辨率方面不小于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光分辨率，事实上光刻机是......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
生产设备的工作原理和行业领导者 ASML
的光刻机不同，其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。
相较于目前已商用化的EUV光刻技术，尽管纳米压印技术的芯片制造速度要比传统光刻......
7nm高端DUV光刻机仍可出口！ASML：全力给中国客户交付(2023-09-01)
是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
......
沙子做的芯片凭啥卖那么贵？(2016-11-25)
图案，紫外线透过掩模经过特制透镜折射后，在光刻胶层上形成掩模中的电路图案。一般来说在晶圆上得到的电路图案是掩模上的图案1/10、1/5、1/4，因此步进重复曝光机也称为“缩小......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品(2023-03-14 10:11)
100万分之1米（＝1000分之1mm）。※3.通过有机 EL（OLED）独有的高画质，使用硅片实现超高解像力的显示器制造形式。※4.为了对半导体电路进行多层叠加制造，以定位为目的在晶圆上......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
是多少纳米，压在晶圆上面就是多少纳米”；同时，“纳米压印的图案每一层都一次压印成形，不像传统光刻会用到SADP/SAQP（多重曝光）等复杂工艺”。
其特点在于制造成本更低，而且耗电量也远低于EUV光刻机......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
。EUV光刻机工作相当于用波长只有头发直径一万分之一的极紫外光，在晶圆上“雕刻”电路，最后将让指甲盖大小的芯片包含上百亿个晶体管，这种设备工艺展现了人类科技发展的顶级水平。荷兰ASML公司......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
-40nm及以上，但未来精度提高后，替代EUV完全可行。
还有一种是自组装（DSA）光刻，这种技术比较神奇，就是用一些化学材料，直接在硅晶圆上，操纵这些材料，把芯片的电路图刻画出来，比如......
近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了(2024-07-18)
光学系统收集和聚焦光线的能力，数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而有助于晶体管的进一步微缩。
业界预计，随着High-NA......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商(2022-01-26)
半年交付。
量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200，产能提升到200WPH，每小时200片晶圆，预计会在2024年下线，Intel的20A工艺正好是在2024年量产。
封面......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML(2023-12-27)
社长御手洗富士夫近日表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，只需......
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化(2021-03-11)
体设备国产化势在必行
据悉，涂胶显影设备是光刻工艺主设备之一，也是芯片制程中必不可少的处理设备。它利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为晶圆......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
包括光刻技术！美商务部再禁运6项关键技术(2020-10-24)
所需的特定软件，包括与三维（3D）效应、掩模阴影效应、光照方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应以及源掩模优化有关的软件，这类软件是在晶圆上做出经过优化的光刻胶图案必需的软件；而“用于......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机(2022-12-08)
”。
据了解，在半导体芯片的制造工艺中，光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中，在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。
保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响，并在......
华为关闭俄国业务，台积电、欧洲巨头相继行动，普京压力山大？(2022-12-29)
俄罗斯已经有相应的规划了。
首先是自研光刻机。
光刻机是制造芯片的主要工具，有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机，也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何......
尼康计划推出支持3D半导体的光刻机，目标2026年销量翻番(2022-08-25)
年3月）3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。
众所周知，光刻机是半导体制造的关键设备。但是在半导体光刻机市场，荷兰ASML一家独大，占据......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
技术，就只有193nm沉浸式光刻，但也只能在晶圆上打印一下细小的功能部件，并不能大规模应用。
按理说，193nm光刻在80nm的时候就会碰到瓶颈。但芯片制造商通过应用分辨率增强技术（RETs）,将......
引进光刻机等设备，美迪凯拟建年产20亿颗(件、套)半导体器件项目(2021-08-30)
体器件项目。
据披露，该项目位于杭州市钱塘新区，总投资约10亿元，拟引进包括光刻机、干刻机、镀膜机等高精尖生产和检测设备，重点开展CIS集成电路晶圆上的整套光路层、环境光芯片光路层、射频芯片和功率器件芯片的微电路......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
使制程技术推进到5nm。
佳能表示，这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML
的光刻机不同，其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-14)
术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
佳能介绍称，传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，新产品则通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点。由于其电路......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
胶会发生性质变化，从而将掩膜版上的图案精确的复制到硅片上。最后一步就是“显影”，也就是在硅晶圆上喷洒显影液，把多余的光刻胶洗掉，再用刻蚀机把没有光刻胶覆盖的刻蚀掉。
总的来说，光刻的就是利用光线将电路图案“印刷......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。
光刻机格局：三分天下
光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
技术的进一步发展。NA代表数值孔径，表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而......
相关企业
担激光机的维修和承接激光加工业务。本公司生产激光刻字机已有多年的历史，中国第一台激光刻字机是由本公司的总经理和总工程师在20世纪80年代初率先开发成功的。目前已形成灯泵浦的YAG激光刻字机、二极管泵浦的YAG激光刻字机、脉冲
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
卡外壳，MINI SD卡外壳等闪存卡外壳激光打标。 3. 内存条激光打标。 4. 供应IC，集成电路，FLASH激光刻字加工打磨。 5. 各种餐具激光打标加工，如，不锈钢碗激光镭射图案，刀叉
融13708029604,总经理:刘丹毅13908187709 公司专业从事系列精密光刻机、氢气炉、真空炉、超高真空排气台、真空干燥柜.真空镀膜机、真空泵及真空机组的设计、制造和销售。驻杭
;南京华运天瑞激光设备有限公司销售部;;南京华运天瑞激光设备有限公司销售部是激光打标机、激光刻字机、激光机、激光雕刻机、激光刻字加工、激光打标加工等产品专业生产加工的有限责任公司,公司
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品，章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如：布料花边冲孔，布料激光裁剪，有机玻璃、压克力制品加工，导光板切割，皮革打孔。激光刻字，金属件刻字，塑胶件激光打标，激光焊接加工。