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线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
内第一、全球第三的193nm ArF准分子激光器企业。 根据相关报道，2018年科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器出货，打破了国外厂商的长期垄断。 2020年4月份，科益虹源集成电路光刻......
胶项目；同年5月，南大光电ArF光刻胶产品在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。 2、彤程新材 通过战略收购北京科华微电子和北旭电子，彤程新材实现了在集成电路光刻胶及平面显示光刻......
这次芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机设备，上海新阳在公告中指出，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻......
新品的大规模上量以及彤程电子生产厂区的投产和用户验证推进，2024年上半年公司半导体业务发展迅速，销售收入增长率超过50%，为历史最高点。 据悉，中高档集成电路光刻胶产品已成为彤程新材产品的核心力量，从产......
谱）；Lift-off工艺使用的负胶；用于分立器件的BP系列等，成立近20年来已经成长为目前中国最大的集成电路光刻胶本土供应商之一。 封面图片来源：拍信网......
创业板向不特定对象发行可转换公司债券已经深交所创业板上市委员会委员审议通过，并已经中国证监会同意注册。 据披露，晶瑞电材此次拟募集资金不超过5.23亿元，扣除发行费用后将用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目和阳恒化工年产9万吨超大规模集成电路......
MEMS滤波器芯片生产基地和封装测试生产基地，极大提高两江新区及重庆在集成电路设计和制造领域整体实力。 除了锐石创芯，今年搬入ASML光刻机的中国厂还有鼎泰匠芯、格科微等。今年年初，格科微12英寸......
胶。该设备于2020年11月19日从原厂断电停机，于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。 公告显示，本次购买的ASML光刻机设备系晶瑞股份集成电路制造用高端光刻......
露，该光刻机将于2020 年底前运抵国内。后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司(以下简称“合作方”)沟通协调设备运输与安装等细节，致使设备没能在规定时间内运达。 现经......
已达全球同行业第一梯队水平，产品技术指标可以履盖目前全部先进集成电路技术节点的要求。目前，公司正在积极开展客户论证测试，市场反应良好。现有3万吨硫酸项目的顺利建设为二期6万吨......
-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。 后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路......
装备产业先导基地，重点发展晶圆制造装备、封装装备、测试装备等制造。现有连城凯克斯、吉姆西半导体等重点企业。 电子化学材料产业园规划面积2平方公里，重点发展集成电路光刻胶及配套化学品、化学......
车规级工艺半导体晶圆厂，有利于临港新片区完善集成电路产业生态 ，支撑上海向世界级集成电路产业集群不断迈进。 值得一提的是，除了鼎泰匠芯，总投资22亿美元的格科微12英寸CIS集成电路......
张汝京二投光罩厂；光刻机企业回应市场需求;“芯”闻摘要 Q2原厂企业级SSD营收排名 30亿半导体项目落地嘉兴 光刻机企业回应市场需求 集成电路产业或再添“芯”平 至讯......
格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机;3月26日，格科微官微宣布，目前公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，今年2月16......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
石相关负责人介绍，企业正加速推进海外布局战略，并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下，预计今年底，企业将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。 此次引入电子束掩模版光刻机，冠石......
芯源微企业发展有限公司成立于2021年，是芯源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化， 2022年，上海芯源微承担建设的“芯源......
体应用市场从主要芯片掌握在少数供应商转变为主要芯片不再掌握在少数厂商。芯片供应链重整，不同的应用需要不同的芯片，芯片的需求成多元化。 华天科技募资51亿元扩产 1月19日，华天科技发布公告，拟定增募资不超过51亿元，用于集成电路......
-14nm工艺设备国产化率达30%，实现浸没式光刻机国产化。在经济上，启动了国家集成电路基金二期，计划针对集成电路行业注入2,000亿元资金。 在此背景下，众鸿半导体项目在临港产业区的新动态，受惠......
过部分重要客户测试，KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中，计划2022年形成批量供货。 自2020年启动集成电路制造用高端光刻胶研发项目以来，晶瑞电材不断完善半导体设备。在原有3台光刻机的基础上，晶瑞电材于2020......
该学术会议创办23年来第一位做大会主题报告的华人学者。”刘世元回忆道。如今，刘世元专注集成电路计算光刻的基础研究已有20余年。刘世元团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件......
超大芯片封装尺寸的应用需求。同时，将助力封装测试厂商提升工艺水平、开拓新的工艺，在封装测试领域共同为中国集成电路产业的发展做出更多的贡献。 据悉，目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机......
源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化， 2022年，上海芯源微承担建设的“芯源微临港研发及产业化”项目......
第一位做大会主题报告的华人学者。”刘世元回忆道。如今，刘世元专注集成电路计算光刻的基础研究已有20余年。刘世元团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件算法。刘世......
设备，上海新阳指出，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法......
膜生长设备龙头AMAT（应用材料）等公司已经发出信函，要求国内从事军民融合的企业，不得使用美国清单厂商半导体设备代工生产非民用集成电路，同时“无限追溯”机制生效。 只要采购了使用美国技术的设备，就无......
图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路......
大生产线需求，初步建成较完备的集成电路核心装备自主供给体系。 一是集成电路装备，瞄准光刻、刻蚀、湿法、沉积、离子注入、量测检测等工艺环节，推进先进光刻机、高端刻蚀机、晶圆清洗设备、离子......
消息显示，年产1200吨集成电路关键电子材料项目计划投资1.4亿元，建设内容为光刻胶中间体1000吨/年，光刻胶1200吨/年。 晶瑞电材当时指出，公司ASML1900型光刻机设备已安装到位，KrF光刻......
的方法需要超过一天的时间来生成 2D 材料，新方法则将其缩短到了一小时内。 “使用二维材料是提高集成电路密度的有效方法。我们正在做的就像建造一座多层建筑。如果你只有一层，这是传统的情况，它不会容纳很多人。但是......
的尺寸不断微缩，密度不断增加，但是功率密度不变。刘明认为，回顾集成电路产业的发展，在尺寸微缩的整个历程中，无论是材料、器件结构，还是光刻技术、封装和EDA工具，甚至连商业模式都在不断发生着创新。 她以......
电子报》记者表示，市场容量小的行业其实对“后进入者”很不友好，也缺乏足够的吸引力，这使得这个行业的集中度变得很高，而光刻胶就是这样的市场。“虽然光刻胶是集成电路生产中一个必不可少的关键环节，但并......
创芯滤波器生产基地项目一期首台ASML光刻机入厂。该项目（一期）总占地面积120亩，总投资22亿，将建设4G/5G用MEMS滤波器芯片生产基地和封装测试生产基地，极大提高两江新区及重庆在集成电路设计和制造领域整体实力。 除了......
整体平均价格估计上涨8%至13%，较前一季涨幅明显收敛。 中国：集成电路出口增长22% 近日，据中国海关统计数据显示，前三季度，中国进出口32.33万亿元人民币，同比增长5.3%，其中，出口......
生产先进芯片的技术不再只有少数大型半导体制造商所独享。本文引用地址：纳米压印技术并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅上，而是更类似于技术，直接通过压印形成图案。在上只压印1次，就可以在特定的位置形成复杂的2D或3D电路图。 当下......
北京经开区：要确立在全国集成电路全产业链的领导地位;7月8日，在北京亦庄创新发布会上，《“十四五”时期北京经济技术开发区发展建设和二〇三五年远景目标规划》（以下简称“《规划》”）对外发布。根据《规划......
总投资15亿元，瑞红集成电路用高端光刻胶总部项目签约;据吴中发布消息，1月11日，吴中经济技术开发区举办招商项目集中签约仪式，总投资63亿元的6个项目顺利落户。 其中，瑞红集成电路用高端光刻......
ASML光刻机已进场，格科微披露12英寸CIS集成电路项目进展;3月15日，格科微有限公司（以下简称“格科微”）对公司募投项目、技术研发等业务进展进行了公告。 图像传感器方面，截止目前，格科......
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂;4月16日，由广东微技术工业研究院（简称“广东工研院”）组织的“曝光时刻--3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂仪式在增城区广东越海集成......
NXE:3800E 随着先进制程的演进，对晶体管尺寸的要求逐渐严苛。而在曝光层中用 EUV 光刻取代传统 DUV，可实现更高光刻精度，进一步提升晶体管密度，在单位面积中容纳更多的集成电路。 在此......
亿颗，同步带动第二季营收呈现小幅成长...详情请点击 3 大基金三期发布 据企查查及国家企业信用信息公示系统显示，国家集成电路产业投资基金三期股份有限公司（以下简称“大基金三期”）于5月......
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）;半导体光刻胶缺货 在价格方面，受下游需求不断增加，芯片价格上涨的影响，光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍，仅在今年1-2月，江苏昆山口岸进口的集成电路......
将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。 受让芯刻微32%股份，加码光刻胶业务 近年来，上海新阳正在重点布局第三大核心技术-光刻技术，并且已经立项开发集成电路制造用ArF（干法）、ArF（浸没式）、KrF（含厚膜）、I线等高端光刻......
微电子注册成立于2002年3月7日，主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power......
工序涂胶显影设备成功打破国外厂商垄断并填补国内空白，其中，在集成电路前道晶圆加工环节，作为国产化设备已逐步得到验证，实现小批量替代；在集成电路制造后道先进封装、化合物、MEMS、LED 芯片制造等环节，作为......
是晶圆制造当中最关键的核心装备，相当于晶圆制造的照相机，通过曝光的方式将图像投射到硅片上。光刻作为集成电路制造的关键工艺，利用光化学反应原理把实现制备在掩模版上的图形转印到晶圆表面，后续......
是两种不同的技术路线。两者的目标相同，简单描述就是将设计好的集成电路图“复制粘贴”到硅片上。而实现方法却大有不同，形象地比喻类似“照相”与“盖印章”。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路......
广州：鼓励发展大硅片、光刻胶等高端半导体制造材料;近期，广州市黄埔区工业和信息化局、广州开发区经济和信息化局印发《广州开发区 广州市黄埔区促进集成电路产业发展办法》（以下简称《发展......

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