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设备方面,CCP刻蚀机付运298腔,同比增长40%;ICP刻蚀机付运134腔,同比增长235%,取得突破性进展。 而在业务进展方面,近日,中微半导体在回答投资者提问时表示,公司的ICP刻蚀......
国产新突破,北方华创ICP刻蚀机1000腔顺利交付;近期,国产刻蚀机取得新的突破。北方华创近日宣布,公司ICP刻蚀机1000腔已经顺利交付。 北方华创自2001年成立后便开始组建团队研发刻蚀......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运;3月21日,中微公司宣布,公司电感耦合等离子体(ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付;中微公司官微消息显示,6月9日,中微公司在上海总部举办电感耦合等离子体(ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反......
中微公司:正进行高产出的ICP刻蚀设备的研发;6月1日,中微公司发布2021年5月投资者调研报告。中微公司称,公司主要盈利模式为从事半导体设备的研发、生产和销售,通过向下游集成电路、LED芯片、先进......
设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装,芯片介质刻蚀设备占据了中芯国际 50%以上的新增采购额。 同时,中微公司是国内唯一兼具CCP与ICP两种刻蚀技术的企业。公司2021......
机产品。 6月15日,中微公司推出首台用于8英寸晶圆加工的CCP刻蚀设备,丰富了现有的刻蚀设备产品线。 公司ICP刻蚀设备已经逐步趋于成熟,Primo nanova®产品在10家客......
以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的ICP刻蚀设备研发。 在用于制造LED外延片的MOCVD设备技术上,中微公司表示,其用于Mini......
全球的微观加工高端设备公司。公司基于在半导体装备产业多年耕耘积累的专业技术,涉足半导体芯片前端制造、先进封装、LED生产、MEMS制造以及其他微观制程的高端设备领域。产品包括CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设备、深硅刻蚀......
半导体 资料显示,中微半导体从事半导体设备的研发、生产和销售,主要产品包括CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设、MOCVD设备等。据中微半导体此前公布的年报显示,2020年,中微......
厂商泛林集团占据超过一半的采购量。中微公司中标了50台CCP 等离子体刻蚀机;屹唐半导体中标了13台ICP 等离子体刻蚀机;北方华创则中标了24台ICP 等离子体刻蚀机。此外,北方华创还中标了2台清......
业收入增长了58.5%,其中,新产品电感性等离子体ICP刻蚀机销售台数比2019年增长了100%。 封面图片来源:拍信网......
%,毛利率达到46.05%。其中,CCP刻蚀设备上半年收入8.86亿元,同比增长13.98%;ICP刻蚀设备上半年收入4.13亿元,同比增长414.08%。 此外,2022年上半年MOCVD设备......
单片机软件IAP策略;在开发阶段,通常采用ICP或者ISP的方式更新单片机软件,例如在stm32系列MCU上不仅可以更新程序,而且还能够调试实时观测内存数据、外设状态和全局变量以及单步运行、设置......
英寸的电感型等离子体 ICP 刻蚀机;此外,中微还开发了 8 英寸和 12 英寸 TSV 硅通孔刻蚀设备,不仅占有约50%的国内市场,而且已进入台湾、新加坡、日本和欧洲市场,尤其在 MEMS 领域......
元,上述四家厂商排名第七到第十。 中微公司:刻蚀全覆盖,沉积、量检测加强布局 中微公司重点发展刻蚀(CCP与ICP)、物理气相沉积和化学气相沉积三大类设备,从近五年财报数据看,中微公司从2019......
售额和利润的1.5倍和5.3倍; • 截至2021年底,公司已申请2012项专利,其中发明专利1741项; 广告 • 2021年共生产付运ICP刻蚀设备134腔,产量同比增长235......
制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类,包括十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀......
中微公司正在持续研发多款半导体设备,据中微公司披露,目前针对逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的多款设备已经在客户产线上展开验证,多款ICP刻蚀设备在先进逻辑芯片、先进DRAM和3D NAND产线......
等均已在国际一线客户的集成电路加工制造及先进封装中得到批量应用。其中 ,CCP等离子体刻蚀设备产品持续保持竞争优势,在部分关键客户市场占有率已进入前三位甚至前两位; ICP刻蚀设备也在客户端取得突破性进展,2021年付......
独立式光学线宽测量设备(OCD)与国内唯一12英寸全自动电子束晶圆缺陷复查设备(Review SEM)。 中微公司在前道刻蚀设备方面也有了新突破。其近期透露,截至2020年底,公司ICP(电感)设备......
广州增芯科技首台生产设备搬入;12月28日,广州增芯科技有限公司举行首台生产设备搬入仪式。本次搬入设备是由中微半导体设备(上海)有限公司制造的Primo D-RIE®刻蚀设备反应台,也是增芯12英寸......
半导体产业高质量发展。 北方华创 北方华创是我国设备龙头企业,也是目前唯一的平台级半导体设备厂商(设备类型覆盖ICP刻蚀ICP+CCP)、沉积设备(PVD+CVD+ALD)、清洗、氧化、退火、MFC(气体......
心设备进行研发,延伸半导体产业链高端装备产品布局,坚持“强链补链”推动半导体产业高质量发展。 北方华创 北方华创是我国设备龙头企业,也是目前唯一的平台级半导体设备厂商(设备类型覆盖ICP刻蚀ICP......
CCP刻蚀设备已批量应用于国内外一线客户从65nm到5nm集成电路制造产线、64层及128层3DNAND产线,并已取得5nm及以下逻辑电路产线的重复订单;ICP刻蚀设备逐步成熟,已成......
程产线,于2029年量产MRAM。 何为MRAM? 理论上讲,MRAM,全称是Magnetoresistive Random Access Memory,是一种非易失性(Non......
刻蚀终点探测进行原位测量 使用SEMulator3D®工艺步骤进行刻蚀终点探测;介绍  半导体行业一直专注于使用先进的刻蚀设备和技术来实现图形的微缩与先进技术的开发。随着......
刻蚀终点探测进行原位测量; 介绍 行业一直专注于使用先进的刻蚀设备和技术来实现图形的微缩与先进技术的开发。随着半导体器件尺寸缩减、工艺复杂程度提升,制造工艺中刻蚀......
刻蚀终点探测进行原位测量;介绍 本文引用地址:半导体行业一直专注于使用先进的刻蚀设备和技术来实现图形的微缩与先进技术的开发。随着半导体器件尺寸缩减、工艺复杂程度提升,制造工艺中刻蚀......
行业云平台推动中国企业进行本地I&O服务战略变革;作者: Gartner研究总监 李晶Gartner研究报告2023重要战略技术趋势:行业云平台介绍了行业云平台(ICP)推动......
行业云平台推动中国企业进行本地I&O服务战略变革;Gartner研究报告2023重要战略技术趋势:行业云平台介绍了行业云平台(ICP)推动实现行业相关业务成果的方式:将软件即服务(SaaS)、平台......
者纷纷在现有的通用(公有/私有/混合)云产品基础上,开始寻找更适合特定垂直行业领域需求的产品。行业云平台(ICP)即是其中一种选择。此类平台针对某个垂直领域的需求,结合软件即服务(SaaS)、平台即服务(PaaS)和基......
⾏业云平台推动中国企业进⾏本地I&O服务战略变⾰;作者:Gartner研究总监李晶 Gartner研究报告2023重要战略技术趋势:行业云平台介绍了行业云平台(ICP)推动......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超?(附厂商盘点);刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺,有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化(CMP)等。其中......
是探索巨大潜在解空间、加速工艺发展的同时减少硅实验成本的重要工具。本文将说明我们在高深宽比通孔钨填充工艺中,利用虚拟DOE实现了对空隙的有效控制和消除。示例中,我们使用原位沉积-刻蚀-沉积 (DED) 法进......
中国研发团队在SOT-MRAM取得重要进展;当前,全世界主要半导体研发机构和企业都在SOT-MRAM刻蚀工艺上开展了大量工作,然而,SOT-MRAM的刻蚀......
神工股份拟定增不超3亿元于集成电路刻蚀设备用硅材料扩产项目等;4月23日,神工股份披露预案,公司拟定增募集资金不超过3亿元,用于集成电路刻蚀设备用硅材料扩产项目、补充流动资金。 根据预案,本项目主要以刻蚀......
者以及首席信息官(CIO)应利用行业云平台(ICP)推动业务创新。 这是因为在数字化转型主宰的今天,中国的企业正逐步在行业云平台中找到了强大的助力。这些行业云平台,一方面将软件即服务(SaaS)、平台......
痛苦就这么产生了。 基于解决上述的痛点,方便的ISP和ICP方式应运而生。 方式1:ISP(在系统编程) 所谓的ISP即在系统编程:In-SystemProgramming, 缩写为ISP......
国产替代加速,AMHS厂商大有可为!;在晶圆制造过程中,需要完成数千道工艺流程,在此期间,以光刻机、刻蚀机等为代表的半导体设备受到广泛关注。不过还有一些设备虽没有光刻机、刻蚀机一样被业界熟知,但也......
布局省内首条产线,山东有研刻蚀设备用硅材料项目通线量产;10月16日,山东有研刻蚀设备用硅材料项目通线量产,这是全省首条集成电路刻蚀设备用硅材料生产线,在填补省内技术空白同时,还将......
降低半导体金属线电阻的沉积和刻蚀技术;摘要:使用SEMulator3D®可视性沉积和刻蚀功能研究金属线制造工艺,实现电阻的大幅降低 封面图: 正文: 作者:泛林集团 Semiverse......
韩国吉佳蓝公司将在中国无锡,建设刻蚀设备研发制造基地;据无锡日报报道,7月25日,韩国吉佳蓝公司与无锡市签署合作协议,在无锡高新区落户中国总部项目,将在无锡建设半导体刻蚀......
泛林集团在芯片制造工艺的刻蚀技术和生产率上取得新突破;近日,泛林集团(Nasdaq: LRCX)发布了一项革新性的等离子刻蚀技术及系统解决方案,旨在为芯片制造商提供先进的功能和可扩展性,以满......
)产品。该产品可在室温条件下固化,从而提高良率并保护移动设备紧凑摄像头模组(CCM)的内部温度敏感结构。Loctite Ablestik ICP 2120是一款湿气固化导电胶,具备......
中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业秘密案,终审胜诉!;7月11日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布,公司在针对美国半导体设备大厂泛林集团(Lam Research......
)提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。 在 6 月 30 日上海市高级人民法院的终审判决中,法院命令泛林集团销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片;法院......
]。SEMulator3D®是一个虚拟的制造软件平台,可以在设定的半导体工艺流程内模拟工艺变量。利用SEMulator3D®设备中的实验设计 (DoE) 功能,我们展示了寄生电容与刻蚀深度和其他用于制作空气间隙的刻蚀......
中的实验设计 (DoE) 功能,我们展示了寄生电容与刻蚀深度和其他用于制作空气间隙的刻蚀工艺参数的相关性,以及它与空气间隙大小和体积的相关性。 图1显示了SEMulator3D® FinFET模型......
再度传来电子特气供应紧张的消息,业界预计电子特气紧缺状态可能将延续至2025-2026年。 资料显示,电子特气全称为电子特种气体,是电子气体的分支。在半导体领域,电子特气主要应用于晶圆制造的光刻、刻蚀、掺杂、外延......

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;北京豪威量科技有限公司;;北京豪威量科技有限公司是专注于ICP研发、生产、销售、服务于一体的高科技公司。公司前身是成立于1992年的北京丰益求实仪器有限公司,国内首台生产ICP光谱仪1995年诞
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平米,透过率>85%,140元一平米。刻蚀方法需用红、紫外线激光机,一次成型,最小线宽可刻蚀到50u,绿色环保。应用于电阻屏、太阳能电池板等。欢迎来电来函索取样品。杭州聚成光电科技有限公司―张女
星型CD/DVD激光刻录机,激光系统等 2、微结构电铸系统:包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机:EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀
/DVD激光刻录机,激光系统等 2、微结构电铸系统:包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机:EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备:等离子刻蚀
星型CD/DVD激光刻录机,激光系统等 2、微结构电铸系统:包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机:EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀
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