资讯
国际光刻机大厂ASML上交亮眼财报！(2024-01-25)
工艺技术之后的制程节点。
去年12月，ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究先进半导体制程技术。 据消......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心(2023-12-13)
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心;光刻机大厂ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...;
近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研发......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
，如今中企也传来了好消息;并公布了一项EUV光刻机的专利;联想到ASML在过去的一年多时间里，对我们出货78台光刻机，让我们也明白了，ASML为何如此着急出货的原因!
实际上，在我国表示要研发光刻机......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？(2022-11-29)
制造工艺可达到0.768nm，打破了当前光刻机预期的1.8nm工艺极限，这对于ASML来说无疑是重大打击。
全球各个经济体研发无需光刻机的工艺，在于当下的光刻机实在太贵了，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，第二......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
量，预计这款设备将于今年晚时推出原型，明年正式供货。值得注意的是，ASML于今年12月中旬与三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研......
中企被限制后，多个芯片巨头开始蠢蠢欲动(2022-12-22)
巨头ASML也不例外，因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子，自然国产光刻机研发也会受到影响。
ASML目前在光刻机领域优势很大，独家垄断了EUV光刻机，占据......
中国半导体该如何崛起？材料/设备/软件国产化才是重点！(2020-06-19)
们的7nm生产线使用了ASML的EUV光刻机。这似乎陷入了一个死循环，无论是购买ASML EUV光刻机，还是找代工厂生产芯片，华为的7nm芯片都无法绕开美国技术。
在盛传台积电被迫放弃华为7nm订单......
ASML完成第100台EUV光刻机出货(2021-01-06)
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
7......
台积电制程遥遥领先 2nm未量产已招大客户抢单(2024-11-20)
是世界上最昂贵的芯片制造设备，每台的价格约为3.5亿美元(约合25亿元/台)。
按照消息人士的说法，将在本季度在其位于中国台湾新竹总部附近的研发中心安装新的High NA EUV光刻机。
......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
先进芯片的生产良率。
蔡司还计划到2026年投资480亿韩元在韩国建设研发中心，加强同三星等韩企的战略合作。
资料显示，蔡司是光学与光电解决方案开发商，也是光刻机大厂ASML EUV光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
状况。
只是，对于ASML在第2代EUV光刻机可能遭遇研发瓶颈，因此将延后问世的情况，如今有来了神队友的救援。外媒报道指出，日本最大半导体镀膜极蚀刻设备公司东京电子（东京......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？(2024-06-07)
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性，ASML 认为在可预见的未来，其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子（SMEE）或华为的竞争。
根据数据显示，ASML先进的标准型EUV光刻机......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址： ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机......
浅析中美芯片博弈——美国加码对华为禁令，ASML DUV光刻机对华出口或有变(2023-02-10)
浅析中美芯片博弈——美国加码对华为禁令，ASML DUV光刻机对华出口或有变;本文引用地址：2019年，无论从那个角度来说，都是最好的一年。在那一年的智能手机消费市场中，手机品牌竞争激烈，纷纷......
台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们(2024-06-06)
台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们;
6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。
报道中提到，ASML首席......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
DRAM厂商目前基本上都是通过不断缩小电路面积提高继承度来进行竞争的。
芯片制造商们不断挖掘DUV光刻机的潜力，克服DUV光刻机的性能和EUV存在差距，把存在于理论的多重曝光用在了现实。
而在华为......
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元(2022-05-23)
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元;据路透社报道，半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新旗舰光刻机，有望2023年上半年完成原型机，最早2025......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答(2023-02-21)
光刻机——High NA EUV光刻机。
按照ASML所说，在历经六年的研发......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答(2023-02-17)
NXT:870和第一台TWINSCAN NXT:2100i。目前，ASML还在继续研究开发下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机。
按照ASML所说，在历经六年的研发后，他们......
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术(2024-07-29)
先进世代，届时会全面导入 High NA EUV 技术，进一步改进制程技术的成本与效能。
报道还提到，台积电已完成量产用 ASML High NA EUV 光刻机的首阶段采购。
而在研发用机台方面，ASML......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
日
导读
近日见到一文“7nm大战在即买不到EUV光刻机的大陆厂商怎么办？”。
受“瓦圣纳条约“的限止，今天中国即便有钱想买EUV光刻机也不可能，此话是事实，不是......
华为禁令起效，手机经销商却疯狂“恰”烂钱(2020-09-15)
购了ASML的EUV光刻机，这也使得这两家代工厂也受美国的管制。
当前，我国的科研机构和企业正针对光刻机积极研发和投入，代表企业/机构有上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等。其中，上海......
莫大康：重启专项加速国产化进程(2021-06-02)
集中体现西方近百年来的工业结晶。近期在求是缘举办的光刻机座谈会上，傅新教授谈到在光刻机研发中，可能是中国缺乏高精度加工的设备及部分材料等。由此表明要全盘国产化是十分艰难的。只有选择性的进行突破，长自己的志气，才有希望。因此......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
约州立大学奥尔巴尼纳米技术综合体兴建下一代High-NA（高数值孔径）EUV半导体研发中心，并且还将利用州政府的资金购买ASML的High-NA EUV光刻机，以支持世界上最复杂、最强大的半导体研发。
据悉，“EUV加速......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！(2023-11-22)
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界称，台积电此举可确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。
三星在已量产第二代3nm......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA EUV光刻机仅有两台，如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。
当地......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机(2023-08-03)
形成积极的反馈循环。
2022 年 11 月 15 日，国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」，代表着极紫外（EUV）光刻机核心技术的重大进步。
「但技术的演进需要多年的持续研发，我们......
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付(2023-09-07)
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付;据路透社报导，全球光刻机大厂ASML CEO Peter Wennink表示，尽管有些供应商遇到了一些阻碍，但今......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求(2022-08-23)
作为芯片制造的重要环节，近期更是备受业界重视。
全球光刻机市场，ASML、尼康、佳能三家公司占据绝大部分市场份额，面对日益高涨的市场需求，三家光刻机龙头企业均给出了积极回应。
ASML
EUV出货......
3倍，光刻机巨头扩产(2022-03-30)
的企业或许正是英特尔。
此外，业界消息显示，台积电此前已经向ASML采购High－NA研发型EUV光刻机EXE：5000，在英特尔采购TWINSCAN EXE：5200后，台积......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA 仅有两台，如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址：当地时间6月3日......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商(2022-01-26)
Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机，其中分为两种，Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发，产能输出是185WPH，每小时生产185片晶圆，2023年上......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货(2022-11-28)
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货;
综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂首席执行官温宁克(Peter
Wennink)于今......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶(2023-06-27)
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。
相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
工艺应用结合的产物，将促进光刻工艺的革命性改进，符合国际光刻设备研究发展趋势，也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。
EUV光刻机，摩尔定律的拯救者
关于EUV技术可以溯源到20......
ASML二季度卖了整整100台光刻机！第二台High NA EUV顺利组装中(2024-07-18)
ASML二季度卖了整整100台光刻机！第二台High NA EUV顺利组装中;
7月17日消息，(阿斯麦)今天公布了2024年第二季度财报，形势喜人：净销售额62.43亿欧元，环比增长18.0......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址：在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，近日发布的第三代EUV......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机(2024-06-17)
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机;ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机(2024-08-16)
High-NA 光刻机，主要用于研发目的，开发用于逻辑和 DRAM 的下一代制造技术。
三星计划围绕高 High-NA EUV 技术开发一个强大的生态系统：除了收购高 NA EUV 光刻设备外，三星......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
电计划首先导入High-NA EUV光刻机用于研发，以开发客户推动创新所需的相关基础设施和图案解决方案，之后......
ASML公布Hyper NA EUV光刻机：死胡同不远了(2024-06-17)
-10nm。
Low/High/Hyper三种光刻机会共同使用单一的EUV平台，大量的模块都会彼此通用，从而大大降低研发、制造、部署成本。
不过，High NA光刻机......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机(2024-06-18)
将继续缩减到14-10nm。
Low/High/Hyper三种光刻机会共同使用单一的EUV平台，大量的模块都会彼此通用，从而大大降低研发、制造、部署成本。
不过，High NA光刻机......
EUV将成主流，哪些公司将受伤？(2017-04-05)
EUV有望在未来几年成为主流。
随着半导体制程工艺演变，工艺推进的成本也越来越高，如今能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机......
郭明錤：苹果高通3nm需求低于预期，ASML EUV订单恐下调30%(2023-10-05)
明年ASML EUV光刻机设备订单数将显著下调30%。
天风证券分析师郭明錤9月27日指出，到2024年苹......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。
这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机：死胡同不远了(2024-06-17)
一定比例的提升。
比如说工艺，实际的晶体管金属间距大约为16-12nm，之后将继续缩减到14-10nm。
Low/High/Hyper三种光刻机会共同使用单一的EUV平台，大量的模块都会彼此通用，从而大大降低研发......
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