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和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中，你将了解到：纳米压印光刻能绕开光刻机吗，纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势，纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能的纳米压印光刻......
丨佳能官网 总结来说，EUV光刻机之所以成为现在的王者，是因为它本身可以投入大规模生产，而且成本和良率极佳。虽然我们有其它光刻路径能走，但唯一比较接近希望的也只有纳米压印光刻。科学还在不断向前发展，纳米......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
本的尖端芯片。 根据报道，佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造，而不是更加复杂的微处理器。 佳能表示，其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的DUV和EUV工具，而是......
的出口，其中似乎并未新增对于限制基于纳米压印技术的光刻机的出口。 但是事实上，芯智讯查阅日本的出口管制清单，当中就有限制“可实现45nm以下线宽的压印光刻装置”。 佳能CEO三井......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML;12 月 27 日消息，佳能今年 10 月宣布 FPA-1200NZ2C，这是一款纳米压印光刻（NIL）半导体设备。 佳能......
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实......
真正达到极限难以向前时，纳米压印技术或将是一条值得期待的路线，而那时，芯片制造或许也会迎来全新的范式，一切都会被颠覆。 关键是，佳能的5nm纳米压印光刻机优势还很明显，不仅价格是ASML传统EUV的......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。 KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。 佳能......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
官方介绍称，其NIL技术可实现最小线宽14nm的图形化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。随着掩模技术的进一步改进，纳米压印光刻有望实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。此外，新产......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
都有所规划，并且已经持续数十年，它就是国际器件与系统路线图（IRDS）。 根据路线图规划，极紫外光刻（EUV）、导向自组装（DSA）和纳米压印光刻（NIL）是下一代纳米制程节点的技术候选方案。不过，纳米压印光刻......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
无锡建设半导体刻蚀设备研发制造基地。 根据报道，此次吉佳蓝与无锡高新区、市产业集团签约合作在锡落户中国总部项目，将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一......
资。本轮融资由领航新界资本和软银中国资本（SBCVC）共同领投，昆山高新创业投资有限公司跟投。作为嵌入式纳米印刷技术发明者，昇印光电以微电铸、纳米压印、嵌入式印刷作为模块化微加工技术，可实现1.4m......
以低成本制成尖端微细电路的新一代设备。 目前，佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备，在学术界，日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术，据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片，成本将比现有EUV光刻机......
掩模技术的进一步改进，纳米压印光刻有望实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。此外，新产品采用新开发的环境控制技术，可抑制设备内细颗粒污染，使精细复杂电路的形成成为可能，有助于制造尖端半导体器件。 ......
纳米压印光刻机能绕过制裁吗；台积电获美国豁免；高通又裁了丨一周速览;非常长的“七天”终于去了，电子界又发生翻天覆地的变化，我们集合了本周值得关注的信息，一文看完一周大事。如果您对"一周速览"栏目......
目将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一步增强无锡集成电路产业核心竞争力。 据悉，吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业，主要......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？; 在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到......
了增强实现应用。 基于超构透镜阵列的近眼集成成像显示示意图 基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实概念图 尽管用于高通量超构表面制造的纳米压印光刻技术和实时渲染算法可以推动用于未来虚拟现实和增强现实应用的集成成像......
制造技术之一，很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。目前，纳米压印技术在国际半导体技术蓝图（ITRS）中被列为下一代 32nm、22nm 和 16nm 节点光刻......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 随着......
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米压印......
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL) 的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能......
端的SPAD传感器、光子计数CT、利用深度学习的图像处理技术、下一代商业打印技术和纳米压印光刻，因此该公司取得了诸多技术专利。 美国作为庞大的市场，且拥有众多的高科技公司，对于......
将推出的A16节点技术需求，他强调是否采用ASML的新技术将基于经济效益和技术平衡考量。 可以说，对ASML来说，不仅要面临最先进光刻机的出货压力，还要面临竞争对手，诸如佳能纳米压印光刻的压力。而如果ASML......
应用于制造绘制半导体电路图案的"光掩膜"板，用于下一代图案转印的纳米压印光刻技术的 "模板"，以及为传感器MEMS提供代工服务等。通过运用在过去业务中积累的玻璃和硅基板加工以及处理技术和微缩布线技术，此次......
，压在晶圆上面就是多少纳米”；同时，“纳米压印的图案每一层都一次压印成形，不像传统光刻会用到SADP/SAQP（多重曝光）等复杂工艺”。 其特点在于制造成本更低，而且耗电量也远低于EUV光刻机......
华为哈勃新入股一家纳米压印设备厂商;企查查资料显示，7月30日，深圳哈勃科技投资合伙企业（有限合伙）（以下简称“深圳哈勃”）新增对外投资青岛天仁微纳科技有限责任公司（以下简称“天仁微纳”），持股......
技术或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极......
NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电拥有145项，三星电子为70项专利；但在DSA光刻......
始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影的量产技术。当前铠侠已掌握15纳米的制程量产技术，目前正在进行15纳米......
，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入；纳米压印光刻领域，公司......
加工（（非）柱面微透镜、2-20 微米尺寸的凹槽、中心对齐精度小于 3 微米的双面微透镜结构等特殊微纳结构，并可制备特定角度的微棱镜形成集成式一体化微透镜。 SMO自主研发的纳米压印......
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印......
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印......
：Coherent高意公司 光学元件的创新是显著降低工业激光器拥有成本(Cost of Ownership)并加快其在现有和新应用中采用的关键因素。Coherent高意利用其专有的纳米压印......
制造技术赋能百业——纳米压印技术平台的价值》。他介绍了纳米压印技术的产业化历程，突出其技术优势和应用拓展情况。同时，罗博士重点探讨了纳米压印技术平台的价值，以及新维度公司在该模式的布局情况。他指出，纳米压印......
电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印（NIL）与测量设备，以及光刻胶涂布机、清洗......
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
资5亿元。 海门开发区微平台消息称，半影光学（南京）有限公司主要致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务，该公司生产的光掩模产品在技术上突破了传统纳米压印......

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