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(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-20)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
(2023.3.20)半导体周要闻－莫大康(2023-03-22)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
装置，截止2022年10月，RAS科学家已经创建了第一个设备演示样品。通过该设备，可以在基板上获得分辨率高达 7 nm 的单个图像。
当时的报道还指出，IPF RAS计划在六年内打造出国产7纳米光刻机......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清(2023-09-20)
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。
对此，9月18日中......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。
不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元(2021-01-21)
将在2025年量产。预计到2021年，EUV全年销售额将达到55亿欧元。
DUV突破：预订量创历史新高
ASML向《科创板日报》记者透露，2020年DUV（深紫外光）光刻机......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1]
在本文中，你将了解到：纳米压印光刻能绕开光刻机吗，纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势，纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。
付斌 | 作者
李拓......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
日本入局，全球2纳米制程争夺战升级！(2022-06-16)
媒报道，他将与光刻机巨头ASML进行接洽，争取EUV光刻机优先供货。据悉，3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示，ASML在2021年出货的48台EUV设备中，三星......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
集成电路产业规模达2500亿，上海：14nm先进工艺实现规模量产(2022-09-15)
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
三星3nm芯片将于Q2开始量产，压力给到台积电、英特尔？(2022-04-30)
家则回应称，2nm制程目前按照计划开发，预计2024年进入风险试产阶段，将于2025年量产。
英特尔：2024年底之前接管行业的制程领导地位
对比三星和台积电，英特尔在3nm节点上暂无明显成果。但是......
可怕的台积电，一口气买下5台EUV光刻机(2017-01-22)
英特尔因征才启示意外透露该公司可能于2021年才进行7纳米量产，也就是说，若台积电5纳米顺利在2020年量产，这将使台积电一举超越劲敌英特尔，并将......
欧洲IMEC 也参与，日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
各半导体厂家依然会继续“争抢”光刻机。据说，由于很难采购到光刻机，三星电子领导人在2020年秋季奔赴ASML谈判后，于2021年成功引进了15台。
近日，一家由日本开发银行、伊藤......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址：该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。
开发人员介绍，传统光刻......
晶圆代工，永不言弃(2024-09-19)
作业。这项技术对于2纳米以下节点制程的开发至关重要，台积电计划从A14节点制程开始采用High-NA EUV光刻机，并规划在2027年开始量产。
三星3纳米芯片已经宣布量产......
谁是下一个晶圆代工“最强王者”？(2024-05-06)
PowerRail）与纳米片晶体管，2026年量产。超级电轨将供电网络移到晶圆背面，晶圆正面释出更多讯号网络空间，提升逻辑密度和效能，适用复杂讯号布线及密集供电网络的高效能运算（HPC）产品。
相较......
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）(2021-03-23)
化工掌握着EUV光刻胶的供应，富士胶片和住友化学也计划将在2021年量产EUV光刻胶。
表1 盘点13家光刻胶供应商产品进度
2019年，日本宣布对韩国进行出口限制，其中就包括了光刻胶材料，引发......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心(2023-12-13)
（NA=0.55） EUV光刻机，并在2025年量产出货。这使得自2025年开始，客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化，切换到数值孔径为0.55 High-NAEUV单一图案化，降低......
美光积极准备EUV技术，争取与三星及SK海力士竞争(2020-12-24)
器生产导入EUV技术，且还预计2021年发表第4代10纳米级的DRAM存储器生产增加EUV技术。至于SK海力士则将在2021年量产第4代10纳米级DRAM存储器导入EUV技术，目前SK海力士也分批导入EUV......
李在镕访欧：收购恩智浦？抢购EUV？(2022-06-08)
报会议上，ASML表示，将维持55台EUV光刻机的产能预期。有供应链消息传出，三星今年将预定18台EUV光刻机，而台积电则最少预定22台。
此外，有业内人士认为，三星和台积电今年量产3纳米......
谁是下一个晶圆代工“最强王者”？(2024-05-06)
2026年量产，Intel 14A-E要到2027年。
而近日，英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备（High NA EUV）组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-02)
Holdings也和IBM合作研发2纳米用光罩、目标2026年量产，供应对象据悉也为Rapidus。此外，包括东京应化工业（TOK）、JSR、信越化学等厂商也有望向Rapidus展开供货。
1nm芯片......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-01)
。光罩使用于在硅晶圆上形成电路的微影制程，
除DNP外，日厂TOPPAN Holdings也和IBM合作研发2纳米用光罩、目标2026年量产，供应对象据悉也为Rapidus。此外，包括......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。
上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局;有一种材料，占半导体市场不到1%的规模，却决定了芯片能否生产，该材料的供应商集中在日美两国，尤其是头部企业在日本最为聚集，这种材料就是光刻......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
制造商，也是唯一一家EUV光刻机制造商。据悉，ASML，计划在2023年底前发表首台商用High-NA （NA=0.55） EUV光刻机，并在2025年量产出货，其数值孔径NA将从0.33......
年产1100吨光刻材料，这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外，为助......
28nm芯片新动向，扩产之后，对整个市场的影响会有多大？(2022-11-28)
工艺的扩产开始了。因为南部的高雄台积电计划设立的是生产7纳米及28纳米制程的晶圆，其中以28nm为主，2022年开始，2024年量产。
可能有网友会不解，台积电扩主28nm有什么奇怪的?大家不都在扩产么?但只......
一亿多欧元一台的设备供不应求，这家荷兰公司二季度表现亮眼(2017-07-20)
，2纳米的精细可想而知。
未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。
今天是《半导体行业观察》为您......
安徽首片光刻掩模版亮相，国内多个相关项目新进展(2024-07-23)
掩模版、晶圆代工全方位服务的综合性企业。
目前，晶合集成可提供28-150纳米的光刻掩模版服务，将于今年四季度正式量产，服务范围包括光刻掩模版设计、制造、测试及认证等，计划为晶合客户提供4万片......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
(2023.12.25)半导体周要闻－莫大康(2023-12-26)
，但是如果要继续推进到2nm甚至更小的尺寸，就需要更高数值孔径（NA）的High-NA光刻机。
据悉，用于2纳米芯片的光刻机型号为High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200，将采......
豪赌先进制程，三星快台积电一步？(2022-06-29)
豪赌先进制程，三星快台积电一步？;6月28日消息，《韩国日报》报道三星将于6月30日开始量产3纳米芯片。
2021年三星在年度晶圆代工论坛（SFF）上，介绍了其基于GAA 晶体管结构的3纳米......
3倍，光刻机巨头扩产(2022-03-30)
现交付。
结合2021年7月底，英特尔曾宣布将在2024年量产20A工艺（即2nm工艺），并透露其将率先获得业界第一台High－NA EUV光刻机。由此表明率先拿下首批第二代High－NA光刻机......
英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位？(2023-12-28)
。
2nm可谓是台积电的一个重大节点，将采用纳米片晶体管（Nanosheet），取代FinFET，意味着台积电工艺正式进入GAA时代。针对2nm制程所用设备，台积电还将延续使用EUV光刻机。值得......
华为禁令起效，手机经销商却疯狂“恰”烂钱(2020-09-15)
显影机、离子注入机、检测设备等，国产化水平还很低，特别是在光刻机方面。
目前，全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能把持。ASML占据了全球80%以上的市场，也是唯一能量产EUV光刻机......
传俄罗斯2028年量产7nm光刻设备(2022-10-24)
传俄罗斯2028年量产7nm光刻设备;据外媒Tomshardware报导，一家俄罗斯研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，预计该设备可以被用于7纳米制程芯片的生产上。整个计划预计在2028......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
危言耸听。但是也不必担心，因为只有工艺制程达到7纳米及以下时才会使用EUV光刻机。
对于这样的现状，首先心态要放正确。西方继续压制中国半导体业的进步，这个政策在相当长时间内还会持续下去。然而......
俄罗斯或在2028年量产7nm光刻设备(2022-10-24)
俄罗斯或在2028年量产7nm光刻设备;国际电子商情讯，据外媒Tomshardware报道称，俄罗斯一家研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，可以被用于7纳米制程芯片的生产上。
俄罗......
2023年最新国产半导体设备厂商名录(2023-02-21)
微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL)
的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
SK海力士龙仁园区有望在下半年开建(2021-01-21)
安装EUV光刻机，以量产10nm 1a DRAM。该报道指出，EUV光刻机的安装时程需要3-6个月，因此SK海力士最快可以在今年上半年量产第一批产品。
封面图片来源：SK Hynix......
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