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直接集成在上面。” 随着 ChatGPT 的兴起,带动了人工智能产业的蓬勃发展,AI 的背后就需要强大的硬件算力支持,也就是芯片。 该技术不需要光刻机就可以使芯片轻松突破 1nm 工艺,也能大幅降低半导体芯片......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效,我们一直走在制程微缩的道路上,但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽,越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此,光刻机......
突破了纳米材料应用的极限,二是不需要光刻机。 首先,传统的芯片是基于硅打造的,目前量产的最先进的硅基芯片是5nm,而即使未来能够做到1nm,那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位,如果要追求更小、更精......
CEO Peter Wennink曾表示:“未来两年芯片设备将出现短缺,今年我们将比去年出货更多的光刻机,明年比今年多。但如果需求曲线显示这还不够,确实需要将产能提高50%以上,但这需要......
ASML摊牌了:可远程瘫痪台积电光刻机;“阿斯麦和台积电有能力瘫痪制造芯片的机器。”昨日,外媒一篇报道中,阿斯麦(ASML)向荷兰官员保证,可以远程瘫痪(remotely disable)相应......
芯片制造工艺黑科技再现,那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足?; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后,近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的,并且......
可以用单次曝光 EUV 步骤代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时,进一步提升效率和降低曝光成本。 目前,EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右,但是......
入量产阶段。 目前,这些先进的光刻机不会立即投入运作,因为在将其整合到大量生产之前,需要进行严格的测试、微调和制程优化。至于,在这些光刻机全面投入运作时,台积电预计将发展到其A10......
果硬件产品需求疲软有望引发连锁反应,波及芯片制造商。预计明年ASML EUV光刻机设备订单数将显著下调30%。 郭明錤表示,最新调查指出,ASML可能显著下调2024年EUV光刻机......
封装过程中,比如SiP封装的substrate里面走线的RDL层;3D封装中我们经常听到的TSV硅通孔。这些部分也需要微米、亚微米级别的线宽,自然就需要光刻机参与。 还有像是FPA-3030i5a面向......
品也被认为是瓶颈之一。 行业人士表示,HBM芯片产能也是未来一大难题,需采用EUV光刻机制造的芯片层数逐渐增加。以目前HBM市占率第一的SK海力士为例,该公......
2025年2纳米晶圆厂全力加速建设;ChatGPT之后,DeepSeek横空出世,助力AI大模型持续升温。AI驱动之下,先进制程芯片需求持续高涨。当前3纳米芯片已经实现量产,为满足未来市场对更先进制程芯片......
那是技术问题,说高级一点,那是人类芯片进步的阶梯,这种说法够拽了吧。但口罩可是人命问题,没口罩你敢出门吗?敢去工厂里见一见那上亿美金的光刻机吗? 这时你问问荷兰的ASML,造口......
ASML最先进的光刻机,花落谁家?;4月上旬,全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E,该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径,旨在满足未来几年对于尖端技术芯片......
未来几个月来自中国公司的销售额会继续增加,中国客户会继续用购买半导体设备,比如DUV光刻机来制造成熟工艺的芯片,并投入电动车、智能手机和个人电脑等产品中使用,完成......
ASML:有望继续向中国出货非EUV光刻机;近期,全球半导体龙头设备企业阿斯麦(ASML)、泛林(LAM)公布了其最新一季度财报,阿斯麦方面,最新一季度销售额和利润均超出市场预期,其新......
2纳米晶圆成本比3纳米高50%,每片达3万美元;采用先进制程技术生产芯片需要越来越复杂的半导体制造设备,且每个新制程节点成本都在攀升,幅度相当大。日经亚洲评论报道,分析认为2纳米比3纳米......
会乖乖跟着美国的屁股。因此,我们一定要做好最坏的打算,一旦DUV光刻机真的断供,从短期上看可能对于我们的芯片制造的影响不会很大,因为去年,我们已经大量进口了一部分DUV光刻机,叠加上如今的全球芯片产业寒冬,全球芯片需......
基本构件的电子开关——晶体管,这就是 "离子化",也被称为 "离子注入"。在该层被离子化后,剩余的用于保护不被刻蚀区域的光刻胶将被移除。 封装 在一块晶圆上制造出芯片需要经过上千道工序,从设计到生产需要......
抛光、清洗、检测、外延等;第二个阶段是芯片制造、封测,即从整块晶圆到单颗芯片的过程。 这两个阶段涉及多种设备,如单晶炉、氧化炉、PVD/CVD、光刻机、涂胶显影机、检测设备、清洗设备、干法刻蚀机、湿制......
厂成本构成主要涉及土地与设施建设、设备购置、技术研发和知识产权、运营和维护等,土地和设施建设在其中占比较大,因为晶圆厂需要足够多的土地用于建设厂房,以及电力、供水、通信等基础设施建设。 设备购置领域,光刻机......
作业。这项技术对于2纳米以下节点制程的开发至关重要,台积电计划从A14节点制程开始采用High-NA EUV光刻机,并规划在2027年开始量产。  三星3纳米芯片......
MLCC价格走势预测;三星选定中国供应商?;“芯”闻摘要 坂本幸雄任职昇维旭首席战略官 MLCC各类应用价格走势预测 半导体巨头们加码2纳米 三星选定中国供应商进行验证? 下半年电源管理芯片需......
系统的掩膜板。这些数据中心是芯片制造商每年投资近2000亿美元的资本支出的一部分。”黄仁勋表示,cuLitho能够将计算光刻的速度提高到原来的40倍。举例来说,英伟达H100 GPU的制造需要89块掩......
逼近极限!ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址:在科技日新月异的今天,芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业,近日发布的第三代EUV......
器件、化合物半导体等行业需要的芯片,这些芯片主要应用于航空航天、移动通讯、新能源汽车、消费电子、AI人工智能等。 ABM Inc.公司介绍 ABM Inc.是一家在光刻机领域具有显著影响力的公司,专注于半导体前道制造和先进封装的光刻机......
年,荷兰政府在6月30日于官方公告中宣布,将要求该国生产先进芯片制造设备的公司在出口一些先进的DUV光刻机时需要申请许可证,措施将于9月1日正式生效。 荷兰......
解,ASML做出这样的决定,主要出于以下几点原因: 首先,国内市场是最大的芯片消费市场,目前很多国内厂商开始自研自产芯片,进口芯片出现了明显的下滑趋势。越来越多的芯片在国内生产制造,自然就需要用到更多的光刻机......
易制造。 据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容,需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统,这可能需要......
推测他们所使用的设备应该就是ASML最新一代的0.33NA EUV。光刻机设备与芯片制程工艺相匹配,目前EUV光刻机暂时能满足量产3nm的需要,但是3nm以下工艺却难以胜任。这也是ASML加速研发新的光刻机的原因之一。 据近......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机在硅晶圆上制造出半导体芯片......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机在硅晶圆上制造出半导体芯片......
霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!;作者:电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示,美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压,阻止其顶级芯片......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具?;近期,俄罗斯国际新闻通讯社报道,俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩模芯片......
,市场需求也需考量。采用High-NA EUV光刻机制造的芯片成本巨增,虽然每片晶圆切割的芯片更多,但需要销售更多的芯片才能弥补投入,单靠手机AP芯片市场难以支撑,AI芯片......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道,随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机,对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加,他们也需要......
还表示各项数据优于三星 。 三星、台积电都在使用EUV光刻机生产制造3nm芯片,但实际上已经有点力不从心了:三星采用了全新的GAA工艺,性能和功耗提升明显,但良品率成了最大的问题;台积电采用传统工艺,良品......
胶国产替代话题日渐受到关注。 国内主要光刻胶生产商包括南大光电、彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞电材、容大感光等。在这些厂商不断努力布局之下,光刻胶国产替代进程不断加快。 1、南大光电 南大光电建有ArF......
每一步骤都是在前一步的基础上进行的,最终成品率是每一步成功率的乘积。若整个流程包含超过两千个步骤,即使每一步都能达到99%的成功率,最终生产出来的成品率也只有0。 因此在芯片制造技术中,好的设备很关键,尤其是需要高精度的光刻机......
大幅扩充人员规模 光刻机是芯片制造流程中,光刻工艺的核心设备,具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一,尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片,则只有ASML一家......
,因为其物镜的NA都为0.33。而所谓第2代即是NA提升至0.55的系列产品。至于,因为效能的提升,势必也将使得第2代EUV光刻机的造价大幅上扬,届时所生产出来的芯片价格也将水涨船高情况下,相关......
,CNews称,莫斯科电子技术学院 (MIET)承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目,该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币)。 研发光刻机计划达到EUV级别,但技......
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备......
胶的晶圆上来转移电路图案,佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制,掩模上的精细电路图案可以在晶圆上如实再现。 佳能表示,相较于传统光刻机需要......
对华出口限制可能打破世界半导体产业链平衡,引发“芯片荒”,导致全球科技企业遭受影响。光刻机作为半导体生产的核心设备,限制其供应将给全球芯片产业带来巨大冲击。这一限制不仅影响到中国的半导体产业,也对......
本次官方禁令范围内。 1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机,支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm,理论上可以支持7nm工艺。 大多数晶圆厂使用1980Di,主要生产14nm及以上工艺芯片,很少......
设备来形成布线的传统方法,而是使用激光在基板上蚀刻布线。由于不再需要光刻过程,并且消除了对Chiplet(小芯片封装)中介层的需求,基板制造初期投资将减少一半以上。 信越......
”到晶圆上,是芯片制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤,其成本占总生产成本的30%以上。以ASML顶级的EUV光刻机为例,它需要功率极高又稳定的光源,这就......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备!;尽管半导体产业仍处调整周期中,但部分应用市场需求强劲,正吸引半导体厂商积极扩产,而在芯片制造过程中,制造设备不可或缺。近期,为满足市场需要,全球光刻机大厂ASML又有......
可能会禁运的是浸没式193nm光刻机,目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。 而浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,也被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此,如果一旦浸没式光刻机......

相关企业

;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;上海富申;;需要光电产品
;旺德利电子;;专注于视频监控芯片及解决方案,满足高速增长的数字视频监控市场对视频编解码和图像信号处理的芯片需求。
;深圳国晖光电科技有限公司;;国晖光电科技有限公司销售光电及光源产品的专业公司。主要光电产品有:鼎元LED芯片(主要有红外线850/940芯片、绿色,蓝色芯片)。主要光源产品有:大功率led全系
. 专业芯片(IC)克隆、翻新和解密、加密、洗脚、整脚 2. 专业激光刻字、打标(镭射)加工业务 3. 专业芯片洗字及打磨 4. 激光设备的生产和销售(包括激光切割机、打标雕刻机、激光
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
;上海来威数码科技有限公司;;本公司是闭路电视监控传输设备中光端机的生产厂家,如果贵公司需要光端机的话,期待着与贵公司合作,谢谢!