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能对当前的一份交叉授权协议进行延期。 尼康和ASML的现状对比 尼康现在之所以还算一家半导体设备供应商，那是因为尼康的屏幕面板光刻机业务还在正常运营（尽管面板光刻机是个小众市场，技术要求比芯片光刻机低很多，微米......
回顾步进式光刻机概念的诞生：一个关于直觉的传奇故事;......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
体器件项目。 据披露，该项目位于杭州市钱塘新区，总投资约10亿元，拟引进包括光刻机、干刻机、镀膜机等高精尖生产和检测设备，重点开展CIS集成电路晶圆上的整套光路层、环境光芯片光路层、射频芯片和功率器件芯片......
，全球仅有少数几家厂商具备制造芯片光刻机的能力，而主要用于生产7纳米及更先进制程芯片的极紫外光刻机（EUV）目前仅有ASML能够生产，作为欧洲最大的科技公司，ASML目前的市值已高达2552亿美......
胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻......
一亿多欧元一台的设备供不应求，这家荷兰公司二季度表现亮眼; 来源：内容来自ASML ，谢谢。 全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 今日公布 2017 第二......
泛产业链的社会资源利用效率就越发低下；而且产业上下游互相拖后腿，匠人精神往往造成产品线在上游对本土特定供应商过度依赖，在下游对特定采购商过度依赖，说的直白点，某些工匠换个产品设备线或商业规则就不会做了。 例如：荷兰芯片光刻机......
和中国客户 荷兰政府尚未确定对中国芯片技术出口新限制的关键方面，例如ASML能否为该公司已经销往中国销售的光刻机提供服务。 “这些细节仍有待解决，”荷兰贸易部长 Liesje......
多个芯片概念股涨停！涉及第三代半导体等领域;2月23日上午，媒体报道当日芯片板块强势拉升，芯源微、北方华创、安集科技、江丰电子等多个半导体概念股涨停，涉及半导体设备、第三......
了第一台High NA EUV极紫外光刻机。这台机器将被用于制造2nm工艺以下的芯片，并有望进一步推动摩尔定律的发展。 据了解，这种High NA EUV极紫外光刻机具有更高的孔径数值（NA），能够......
EUV光刻机系统的单台造价将在25亿元(单台造价在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元)。 这个价格什么概念，资料显示重型航母(排水量60000吨以上)航母造价是35......
今风向转的太快，荷兰最终也没有顶住美国的压力，荷兰最终还是选择了断供DUV光刻机。 12月8日，凤凰财经就有消息称，受到美国压力，荷兰最大芯片商限制对华出口。 而后......
荷兰不会点名中国或ASML，但相关措施旨在限制部分型号光刻机对中国的出口。荷兰和日本今年1月原则上同意加入美国限制对中国出口先进芯片制造商设备的行动，荷兰贸易部长Schreinemacher已在3月表......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片......
限制 DUV，ASML 出口新规或将于近日实施！; 业内消息，荷兰政府的半导体新规预计最快会在下周开始实施，届时 的 DUV 光刻机将被限制出口。 2023 年 3 月，荷兰......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
迫于美国限制禁令的压力限制了与半导体有关的先进技术，荷兰政府的该项法令导致 ASML 不得不申请出口许可才能被允许出口自己的先进光刻机系统。 DUV 和 EUV 都被用于半导体芯片制造中的光刻技术，分别代表“深紫外光”(Deep......
是在破坏全球产业链。”问题是，EUV光刻技术突破意味着什么？ASML为何反应激烈？       在讨论光刻机之前，我们应了解芯片的关键性。没有芯片，将无法实现所谓“梦想”。芯片......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止其顶级芯片......
，但是在领域，很可能是未来的主流产品类型。特别是对于我国来说，在先进制程的芯片制造领域频频被西方世界“卡脖子”的情况下，芯片很有可能是绕过光刻机，实现换道超车的“出路”之一。本文......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
的效果。 第一条路是电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻。 这条路的优点是精细，分辨率高，比EUV光刻机还要高，美国公司Zyvex Labs生产出了这样的光刻机，实现0.768nm芯片的光刻，但缺......
的出货量还会进一步提升。 当然，EUV这样的光刻机主要用于先进工艺，所以全球有需求也有能力购买EUV光刻机的芯片制造商也不多，ASML CEO日前在采访中提到他们在全球有5家EUV光刻机客户。 虽然......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机作为芯片......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造芯片......
还表示各项数据优于三星 。 三星、台积电都在使用EUV光刻机生产制造3nm芯片，但实际上已经有点力不从心了：三星采用了全新的GAA工艺，性能和功耗提升明显，但良品率成了最大的问题；台积电采用传统工艺，良品......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址：在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，近日发布的第三代EUV......
年投入使用，2026年到2030年主力出货。 消息显示，新一代High-NA EUV光刻机机型约双层巴士大小，重量超过200吨。该设备精密度更高、所使用的零部件更多，可用于生产下一代芯片，芯片......
谈及光刻机禁运，中国驻荷兰大使：不会简单地咽下这口气;中国驻荷兰大使谈践日前在接受《荷兰金融报》（Het Financieele Dagblad）说，荷兰政府扩大对华出口先进芯片......
3倍，光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺，英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日，据路透社消息，全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其......
制造商出售最先进的EUV光刻机，但其DUV光刻机仍可以继续向大陆客户销售。虽然DUV不是最先进芯片制造设备，但对制造各种电子设备多数芯片来说至关重要。 对于荷兰政府将在夏天之前对其芯片出口实施新的限制一事，外交......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们......
下一代光刻机，万事俱备了吗？;极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产；动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣，这要归功于 ASML......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的，并且......
对华出口限制可能打破世界半导体产业链平衡，引发“芯片荒”，导致全球科技企业遭受影响。光刻机作为半导体生产的核心设备，限制其供应将给全球芯片产业带来巨大冲击。这一限制不仅影响到中国的半导体产业，也对......
，因为其物镜的NA都为0.33。而所谓第2代即是NA提升至0.55的系列产品。至于，因为效能的提升，势必也将使得第2代EUV光刻机的造价大幅上扬，届时所生产出来的芯片价格也将水涨船高情况下，相关......
在新北市林口工一产业园区内新建厂区，扩大产能。 说起芯片产业，就不得不提起ASML。作为全球最大的光刻机厂商，无论是用于14nm及以上的DUV光刻机，还是用于10nm及以下的EUV光刻机，ASML都是......
荷兰芯片出口管制新规生效，光刻机巨头ASML发声;9月1日早上，荷兰光刻机巨头ASML在一份声明中称，该公司已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻......
MEMS滤波器芯片生产基地和封装测试生产基地，极大提高两江新区及重庆在集成电路设计和制造领域整体实力。 除了锐石创芯，今年搬入ASML光刻机的中国厂还有鼎泰匠芯、格科微等。今年年初，格科微12英寸......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
可以用单次曝光 EUV 步骤代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本。 目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机在硅晶圆上制造出半导体芯片......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机在硅晶圆上制造出半导体芯片......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。 消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
大幅扩充人员规模 光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备，具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一，尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片，则只有ASML一家......

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