消息称SK海力士将在1c DRAM生产中采用新型Inpria MOR光刻胶

发布时间:2024-05-30  

5 月 30 日消息,随着 DRAM 小型化的不断推进,SK 海力士、三星电子等公司正在致力于新材料的开发和应用。

据 TheElec,SK Hynix 计划在第 6 代(1c 工艺,约 10nm)DRAM 的生产中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶(MOR),这是 MOR 首次应用于 DRAM 量产工艺。

消息人士称,SK Hynix 量产的 1c DRAM 上有五个极紫外 (EUV) 层,其中一层将使用 MOR 绘制。他还补充说,“不仅 SK 海力士,三星电子也将追求这类无机 PR 材料。”

IT之家查询公开资料获悉,Inpria 是日本化学公司 JSR 的子公司,也是无机光刻胶领域的领导者;而 MOR 则被认为是目前用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶(CAR)的下一代产品。

此外,该公司自 2022 年以来就一直与 SK Hynix 合作进行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾表示,使用 Sn(基)氧化物光刻胶将有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本。

TheElec 报道还指出,三星电子也在考虑将 MOR 应用于 1c DRAM,目前三星电子在 1c DRAM 上应用了 6 至 7 个 EUV 层,而美光则只应用了 1 层。


文章来源于:电子工程世界    原文链接
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