5 月 30 日消息,随着 DRAM 小型化的不断推进,SK 海力士、三星电子等公司正在致力于新材料的开发和应用。
据 TheElec,SK Hynix 计划在第 6 代(1c 工艺,约 10nm)DRAM 的生产中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶(MOR),这是 MOR 首次应用于 DRAM 量产工艺。
消息人士称,SK Hynix 量产的 1c DRAM 上有五个极紫外 (EUV) 层,其中一层将使用 MOR 绘制。他还补充说,“不仅 SK 海力士,三星电子也将追求这类无机 PR 材料。”
IT之家查询公开资料获悉,Inpria 是日本化学公司 JSR 的子公司,也是无机光刻胶领域的领导者;而 MOR 则被认为是目前用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶(CAR)的下一代产品。
此外,该公司自 2022 年以来就一直与 SK Hynix 合作进行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾表示,使用 Sn(基)氧化物光刻胶将有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本。
TheElec 报道还指出,三星电子也在考虑将 MOR 应用于 1c DRAM,目前三星电子在 1c DRAM 上应用了 6 至 7 个 EUV 层,而美光则只应用了 1 层。
文章来源于:电子工程世界 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的,且明确注明来源,不希望被转载的媒体或个人可与我们联系,我们将立即进行删除处理。