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用于舰载超压传感器。 这不是俄罗斯首次对外公布有关光刻机的消息， 2022年10月，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布朝光刻机领域展开工作，该研究所希望能开发俄罗斯首台本土光刻机，用以生产7纳米......
是俄罗斯首次对外公布有关的消息， 2022年10月，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布朝领域展开工作，该研究所希望能开发俄罗斯首台本土光刻机，用以生产7纳米拓扑芯片。对此，业界认为，这需要数年时间才能实现。......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。 据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中国......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。 报道中提到，尽管......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！ ▲首台设备搬入 造芯：预计......
技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》电子专用装备目录下，集成电路设备方面包括：氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
350nm，俄罗斯光刻机制造完成;5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm......
中国半导体厂商再引入ASML光刻机！;近日，上海鼎泰匠芯科技有限公司（以下简称“鼎泰匠芯”）洁净室交付，首台ASML光刻机设备搬入。 鼎泰......
出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的3纳米半导体芯片制程技术后，三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机，目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术，2025年进入2纳米制程技术，并在2027年进入1.4......
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
装置，另一个是硅的等离子体化学刻蚀设备。 具体来说，无光罩纳米光刻设备成本在500万卢布（约合36.6万人民币）以内，相当于中国一辆质量良好的车，而外国类似平台成本则高出十倍，要花......
于下半年开始试产，2025年二季度小量生产。 英特尔方面，去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔，助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
正式投入使用前的一项重要准备工作，代表光刻机的光源已经正常工作了。此后，英特尔又对外分享视频，展示了首台High-NA EUV 光刻机交付过程，相关组件通过空运从荷兰运到美国，相比......
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。 此外，为助......
ASML持续布局中国，又一台光刻机进入中国工厂;据重庆两江新区消息，12月27日，锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台ASML光刻机入厂。 锐石创芯是一家专注于高性能的4G/5G射频......
报会议上，ASML表示，将维持55台EUV光刻机的产能预期。有供应链消息传出，三星今年将预定18台EUV光刻机，而台积电则最少预定22台。 此外，有业内人士认为，三星和台积电今年量产3纳米......
光集团重点区域布局的一环，也是看好大湾区区位优势，投资具有战略性、引领性、前瞻性...详情请点击 5 又一台光刻机进入中国工厂 据重庆两江新区消息，12月27日，锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台......
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。 吴金......
是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本30%以上，占据将近50%的生产周期。卡中国脖子的设备有很多，光刻机是国产化率成长最慢的一个。虽然如此，无论资本市场，还是自媒体，现在......
年的高数值孔径EUV（High-NA EUV）设备订单，此前英特尔已完成ASML首台High NA EUV光刻机设备组装，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下......
.https://www.researching.cn/ ArticlePdf / m00018/2020/49/9/20201035.pdf [12] 中国光学：Nanophotonics | 纳米光刻......
基板及封装的设计提供了统一的格式和规则要求，为相关方设计数据的交换和处理、信息和结果的共享提供了统一遵循的原则...详情请点击 6 俄罗斯首台光刻机制造完成 5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机......
上海微电子推出新一代先进封装光刻机，首台将于年内交付;据上海微电子装备集团消息，9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 图片来源：上海......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货; 综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今日在韩国首......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
必须在真空环境中传输，机械精确度要达到皮秒级，光学透镜平整度达到皮米级。 中国开展了光刻机自主研发，2000年开始，我国团队参观ASML，遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机，ASML态度......
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂;4月16日，由广东微技术工业研究院（简称“广东工研院”）组织的“曝光时刻--3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示，光源还可以继续用193纳米，但换个介质试试，不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质，光源通过水会产生折射，使193纳米光源实际效果可能比157......
很吸引眼球的传闻。 然而，实际上我们从1988年首台机器运到中国，到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。 ......
ASML产品路线图曝光，EUV光刻机出货已超200台; 【导读】资深半导体行业分析师Scotten Jones日前综合SEMICON West等渠道信息，综述了ASML高端......
前不久英特尔宣布完成了ASML High-NA EUV光刻机设备组装。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。据了解，ASML......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前......
制造商，也是唯一一家EUV光刻机制造商。据悉，ASML，计划在2023年底前发表首台商用High-NA （NA=0.55） EUV光刻机，并在2025年量产出货，其数值孔径NA将从0.33......
三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机;8 月 16 日消息，首尔经济日报昨日（8 月 15 日）报道，三星将于 2024 年第 4 季度至 2025......
日，英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备（High NA EUV）组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV光刻设备，开始多项校准，2027......
上半年的高数值孔径EUV（High-NA EUV）设备订单由英特尔全部包揽。并在前不久英特尔宣布完成了ASML High-NA EUV光刻机设备组装。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机......
14nm及以下的芯片制造设备。美媒传出消息，称正在向荷兰方面施压，要求ASML停止向中国芯片企业出售用于成熟芯片制程的DUV等主流需求光刻机。不过，这次ASML反应不一样了，直接表示了拒绝态度。 全球......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......

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