资讯
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！(2024-03-08)
）技术实现了目前最先进的半导体工艺，使该设备的前景成为行业争论的话题。
佳能半导体设备业务部长Iwamoto Kazunori在解释纳米压印技术时表示，纳米......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！(2023-11-08)
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！;
上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术实现了目前最先进的......
“中国芯片标准”发布第6天，国产4纳米芯片传来好消息，这太快了(2022-12-22)
我们提到了已经具备了4纳米的先进封装技术，而在先进封装光刻机上，上海微电子已经做到了自研自产，所以在小芯片这个全新的赛道上，我们已经做到了全部的国产化，而且属于全球的领先水平。
不得不说，这一切太快了，标准......
日本与荷兰签署半导体合作备忘录，助力采购ASML EUV光刻机(2023-06-27)
例，表示“希望加强半导体领域的政府间合作”。
EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，荷兰对这类尖端设备进行出口管制，限制对华出口。根据日媒报道，日本......
韩国总统尹锡悦会见荷兰光刻机巨头ASML CEO温宁克，共讨半导体合作(2023-07-31)
元之间。
EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，目前各方都在争取机会，以通过高新技术帮助本土芯片制造。此前，据日经中文网消息，日本......
欧洲IMEC 也参与，日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
与比利时微电子研究中心(IMEC)签署了技术合作备忘录，计划向其派遣员工等。
2022年12月，与IBM公司合作制造目前最先进的芯片。
2022年12月13日，Rapidus宣布，已与IBM公司......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
全球唯一量产EUV光刻机的厂商，包括台积电、三星、英特尔的先进制程都要依赖EUV光刻机来生产。现阶段，每台光刻机的单价将近1.5亿美元。不过，ASML的EUV光刻机目前出货的是使用光源波长在13.5nm......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
备无法出口到中国。
尖端制程严重依赖EUV光刻机
总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商，同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备，每台......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
（Nano-Imprint Lithography，NIL）技术可实现最小线宽14nm的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。此外，随着掩模技术的进一步改进，NIL有望......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机仍将落后于最先进的......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移(2023-10-16 11:09)
官方介绍称，其NIL技术可实现最小线宽14nm的图形化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。随着掩模技术的进一步改进，纳米压印光刻有望实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。此外，新产......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
该设备成本或超过3亿欧元。
在第一台High-NA EUV刚发往英特尔后，ASML就透露正在探索更先进的Hyper-NA EUV。随着晶体管尺寸变得越来越小，ASML的光刻系统也变得越来越复杂，面临......
ASML摊牌了：可远程瘫痪台积电光刻机(2024-05-22)
机器，包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。
ASML不装了
为了让中国不能获取先进光刻机和芯片，美国绞尽了脑汁。而这一次，他们又把目光锁定在台积电厂房内的光刻机和产线。
据外......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
他第三次担任佳能总裁，上一次退出日常运营是在 2016 年。御手洗富士夫还说，最终的定价还没有敲定。
总部位于荷兰费尔德霍芬的阿斯麦是极紫外光刻机的唯一供应商。极紫外光刻机是世界上最先进的芯片制造机器，每台......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗;自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开 ASML（阿斯麦）的 DUV（深紫外）和 EUV（极紫......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移(2023-10-16)
其半导体制造设备阵容，以满足从最先进的半导体设备到现有设备的广泛需求。
佳能官方介绍称，其NIL技术可实现最小线宽14nm的图形化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。随着......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机(2023-10-16)
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机;
最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C
的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的......
ASML最先进的光刻机，花落谁家？(2024-05-11)
ASML最先进的光刻机，花落谁家？;4月上旬，全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E，该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径，旨在......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
，ASML也将其电源功率提升到200瓦特。
后记
上面EUV光刻机的介绍，是让大家知道，目前最先进的是极紫外光光刻机，光源是极紫外光，而关于中科院的中紫外光的波长是多少，半导......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA 仅有两台，如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址：当地时间6月3日......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC
的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-16)
品采用了新开发的环境控制技术，可抑制设备内细颗粒的污染。表示，的 NIL 技术可实现最小线宽 14 nm 的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的 5 纳米节点。此外，随着掩模技术的进一步改进，NIL......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm(2023-03-10)
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。
ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
技术中心建设首个基于美国《芯片与科学法案》的旗舰研发站点。
该站点名为“EUV加速器”，将重点推进最先进的EUV光刻技术的研发工作，并将获得8.25亿美元美国联邦资金支持。同时，该加速器将汇集整个生态系统的NSTC成员......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA EUV光刻机仅有两台，如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。
当地......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
三星3nm芯片将于Q2开始量产，压力给到台积电、英特尔？(2022-04-30)
也成为欧洲最先进的芯片制造工厂。
据ASML发言人称，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍，同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机。
极紫......
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm(2023-03-10)
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm;
ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
商务部部长会见ASML全球总裁，都说了啥？(2023-03-29)
荷兰政府的这项法令，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（下称DUV）。ASML方面强调，荷兰政府新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻......
中国芯片“B计划”曝光！(2023-02-03)
材料应用的极限，二是不需要光刻机。
首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
和ArF等尖端产品，这种策略非常有效。这是因为，在半导体制造中，无论多么尖端，都不能仅靠EUV制造，而是统一使用ArF浸润式、ArF干式、KrF和i-line。
近期日本佳能宣布，成功交付佳能最先进的纳米压印光刻......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机(2023-12-26)
的5nm制程的先进半导体制造设备市场，则由ASML的EUV光刻机所垄断，单台价格约1.5亿美元。
对于接下来更为先进的及以下制程的芯片，ASML也推出了成本更为高昂的High-NA EUV光刻机，单台......
台积电年底前获首套High-NAEUV，生产领先2nm两代制程(2024-11-05)
AI芯片制造方面，英特尔努力重新取得优势。消息人士还表示，另一对手三星2025年第一季将安装第一套High NA EUV光刻机。
取得ASML最先进的光刻机并不意味着代表企业就能顺利的进入“埃米......
28nm芯片新动向，扩产之后，对整个市场的影响会有多大？(2022-11-28)
工艺的研发上。
台积电是全球芯片行业掌握技术最先进的厂商，拥有绝对领先的市场份额，需求最大的客户订单几乎都在台积电手里，因为目前只有台积电7nm及以下先进工艺是最成熟的。
不过......
ASML今年下定了几个决心(2022-11-29)
。而且在不断的研制新技术。
目前最先进的芯片是4nm制程，虽然三星、台积电都官宣今年量产3nm芯片，但3nm芯片仍没有出现。但是，将芯片制程缩小到3nm已经很难了，三星采用了更先进的GAA工艺，虽然......
美光日本广岛厂将于2025年生产1γ DRAM、HBM芯片(2023-12-15)
位于日本广岛的工厂将于2025年生产最先进的存储芯片“1γ（Gamma）DRAM”。他表示，美光将成为第一家将EUV光刻机引入日本的半导体企业。预计1γ DRAM将使用EUV光刻机......
ASML被禁止向中国运送其部分关键的芯片制造工具(2024-01-03)
芯片制造过程的关键部分。它销售的一种机器被称为极紫外（）光刻机，用于制造最先进的芯片，如苹果iPhone。
多年来，ASML一直被禁止向中国出口这台机器。到目前为止，它还没有向中国运送一台机器。
它销......
ASML确认！荷兰管制新规将影响这几种型号光刻机出口(2023-07-02)
ASML确认！荷兰管制新规将影响这几种型号光刻机出口;
当地时间6月30日，荷兰政府正式颁布了有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例。正如其在今年3月发布的消息中所述，这些新的出口管制条例主要针对先进的......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-01)
全球2nm晶圆厂建设加速！;AI强势推动之下，先进制程芯片重要性日益凸显。当前3nm工艺为业内最先进的制程技术，与此同时台积电、三星、英特尔、Rapidus等厂商积极推动2nm晶圆厂建设，台积......
2312亿，事关多个芯片工厂建设(2022-03-17)
分辨率将允许芯片缩小1.7倍，同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机。
结语
总体而言，自英特尔公布其战略规划以来，许多措施接连落地，其在IDM和......
ASML：半导体制造工艺演进三个方向(2022-12-29)
工艺进展遇到了越来越多的困难，对此ASML自然感受很深，极紫外光刻机（EUV）研发过程耗时日久，开发费用极为昂贵，若非三星、英特尔与台积电等三巨头坚信先进......
荷兰芯片出口管制新规生效，光刻机巨头ASML发声(2023-09-01)
说其他拥有关键供应商的国家也采取类似限制措施。在美国压力下，荷兰此前已经禁止ASML向中国出口所有最先进的EUV光刻机，接着DUV又成为目标。
对此，中国驻荷兰大使馆发言人表示，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方......
晶圆代工，永不言弃(2024-09-19)
作业。这项技术对于2纳米以下节点制程的开发至关重要，台积电计划从A14节点制程开始采用High-NA EUV光刻机，并规划在2027年开始量产。
三星3纳米......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-02)
全球2nm晶圆厂建设加速！;AI强势推动之下，芯片重要性日益凸显。当前3nm工艺为业内最先进的制程技术，与此同时、三星、英特尔、Rapidus等厂商积极推动2nm晶圆厂建设，、三星此前曾规划2nm......
传荷兰拟就限制中国技术出口与美国达成协议(2022-12-08)
半导体所需的设备和技术的最大供应商的荷兰、日本等国家，希望以此扩大对中国芯片管制的范围。
自2018年起，美国在荷兰政府向ASML颁发许可证，允许其向中国客户出售其最先进的设备时就采取了相关行动。由于美国反对，在接下来的几个月里，美国......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备;
10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？(2024-06-07)
EUV光刻机，这要看如何在经济与技术间取得最佳的平衡而定。
目前最为积极引入High NA EUV光刻机则是英特尔，其是第一家订购并完成交付安装的晶圆制造商，目前英特尔已经开始进行Intel 18A......
年产1100吨光刻材料，这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外，为助......
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线(2021-04-06)
开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于5纳米、5纳米以下器件中若干关键步骤的加工；同时，公司根据先进集成电路厂商的需求持续进行设备开发和工艺优化。
在3D NAND芯片......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
～14nm）以下，就有可能需要用到EUV光刻机。届时，存储器厂商订的EUV设备将有大的爆发。
据悉，三星电子目前已经尝试将EUV应用于1z DRAM的生产当中。2020年8月，三星......
相关企业
机面贴、激光笔/录音笔等数码产品所需要的视窗类镜面、DVD面板、数字镜面等。 本公司技术力量雄厚，生产工艺先进，拥有目前最先进的CNC北京雕刻机及其它完善的配套机械设备及专业的技术人员，产品质量可靠，价格
秤镜面贴、游戏机面贴、激光笔/录音笔等数码产品所需要的视窗类镜面、DVD面板、数字镜面等。 本公司技术力量雄厚，生产工艺先进，拥有目前最先进的CNC北京雕刻机
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
由公司自主研发的空气净化消毒系列产品,采用稀土纳米冷触媒技术和纳米银活性炭结合技术，把传统的空气净化设备的净化率由80％提高到99％，生成物是二氧化碳和水，是目前最先进和环保的空气净化技术，产品通过了CE、ROHS、FCC认证
;苏州雅韵模型设计制作有限公司;;公司拥有自己的制作基地，多年来，公司致力于建筑模型设计、制作、新型建筑模型材料的研发 公司积极引进新型模型材料及新技术，并引进目前最先进的激光机及电脑雕刻机
销售量也很大。公司开发了当今世界最先进的LM-FL光纤激光刻字机，它的特点是：寿命长(50,000-100,000小时)、免维护、空气冷却、体积小、重量轻和刻写特别精细。主要
;光胜光电科技（惠州）有限公司;;本公司专业制造各类中高档LED发光二极管。引进国际目前最先进的自动化生产设备和检测仪器：自动固晶机、自动焊线机、自动封装线、72档自
;上海懿朊工贸有限公司临沂分公司;;我公司是一家集科工贸一体的进出口公司。公司非晶中心工厂拥有国内目前最先进的制带设备，热处理设备，生产技术以及检测手段。拥有年近百吨非晶纳米晶带材生产能力，年产
电子、冶金机械、石油化工、能源交通、生物医药、环境保护等领域。公司引进了当前最先进的成套非晶/纳米晶磁芯、变压器铁芯、各种类型的磁粉芯、铁基非晶带材生产线，同时，公司拥有完备和先进的非晶带材、变压
仪器,野外作业,实是无电的好帮手.也是目前最先进、最实用、最可靠、最环保的逆变器之一。漂亮、美观、实用的外型设计，环保无噪音、无污染、输出电压稳定，令您携带方便.更为你解除无电之忧.