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得堡彼得大帝理工大学(SPbPU )的专家表示，已经开发了两套用于生产微电子纳米结构的装置，解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题已成为可能。 据悉，第一台用于无掩模纳米光刻的设备用于在基板上获得图像，而不......
使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。引用大学代表的话写道——该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和硅等离子体化学蚀刻的设备。 第一种安装用于在基板上获得图像，而不使用特殊的掩模。据开......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。 该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。 此外，为助......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于在微电子......
上海微电子推出新一代先进封装光刻机，首台将于年内交付;据上海微电子装备集团消息，9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 图片来源：上海微电子......
，国产光刻机技术上与之差距太大，根本无法在高端市场上参与竞争，严重制约了我国微电子信息工业的发展。根据媒体报道，近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当，每年已经超过2000亿美......
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
在2024年对2纳米制程开始风险性试产，2025年开始量产。 2纳米不是芯片生产的终点，2022年5月，IMEC（微电子研究中心）对外公布了1纳米以下至2埃米（A2）的半......
各半导体厂家依然会继续“争抢”光刻机。据说，由于很难采购到光刻机，三星电子领导人在2020年秋季奔赴ASML谈判后，于2021年成功引进了15台。 近日，一家由日本开发银行、伊藤......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
日开始搬入安装主设备。3月24日，格科半导体ASML先进ArF光刻机成功搬入，其也是整套生产线中的最关键设备。 据了解，格科半导体成立于2020年3月，注册资本30亿人民币，设立......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中国电子......
微芯片密度提高近3倍。 据悉，0.55NA光刻机比现售的0.33NA EUV光刻机大出30%，售价约是0.33NA EUV的2倍。目前，为克服技术挑战，ASML正与全球最大的微电子研发机构IMEC......
ASML宣布与比利时微电子研究中心合作 加速推进新一代光刻机;比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布，双方将在开发先进高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻......
威力科创TokyoElectron）宣布，将于镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产，以维持原本2023年问世的期程。另外，除了东京电子之外，比利时微电子研究中心（IMEC）也是......
所建立了校企联盟，与复旦大学、加拿大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发......
外），但它又贵又难造，除了全力研发，国产有没有其它的路可以走？本文引用地址：事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL......
三星：3纳米制程代工市场2026年将达242亿美元规模;据外媒报道，三星电子研究人员日前在该国举行的EUV光刻机生态体系会议上表示，到2026年，全球3纳米工艺节点代工市场将达到242亿美......
三星：3纳米制程代工市场2026年将达242亿美元规模; 【导读】据外媒报道，三星电子研究人员日前在该国举行的EUV光刻机生态体系会议上表示，到2026年，全球3纳米......
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示，光源还可以继续用193纳米，但换个介质试试，不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质，光源通过水会产生折射，使193纳米光源实际效果可能比157......
微装首台WLP2000晶圆级封装直写光刻机成功发运昆山龙头封测工厂。同月，另一台WLP2000直写光刻机发往成都Micro-LED前沿研制单位交付。 芯碁微装表示，本次发行后，公司将利用部分募集资金投资建设直写光刻......
“北京科协”介绍，北京集成电路学会发起单位包括清华大学、北京大学、中国科学院微电子研究所、北京超弦存储器研究院、北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司等，会长将由清华大学教授、北京......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
1998年获工学博士学位。 2002年，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电子装备有限公司（SMEE），承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务，为总......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要原因可能就是上海微电子......
EUV(极紫外线光刻)，用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发......
的成长经历远不如前两家波澜壮阔，但它们对于研发的投入绝无打折。2018财年东京电子研发费用约1200亿日元（约合80亿人民币）。 足以见得，在半导体设备行业中，相比于全平台式布局，深耕......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。 吴金......
，为了进一步扩大业务范围，佳能开始了半导体光刻机的研发，并于1970年成功发售日本首台半导体光刻机PPC-1，正式进入半导体光刻机领域。 佳能于1975年发售的FPA-141F光刻机......
率和精度都是实现更先进工艺技术突破的重要因素。 日前，比利时微电子研究中心(IMEC)首席执行官兼总裁Luc Van den hove表示，该中心正在与ASML公司合作，开发更加先进的光刻机，并已取得进展。 近年......
成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三;成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三 12月8日，英诺赛科（珠海）科技有限公司为ASML光刻机成功......
EUV没有直接联系的工序数也会增加。 国内设备厂芯源微日前表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌，以及上海微电子（SMEE）的光刻机......
，2纳米的精细可想而知。 未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。 今天是《半导体行业观察》为您......
是半导体芯片的核心生产部件，是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备，被称为人类工业皇冠上的“明珠”。 全球光刻机行业的大佬有荷兰的ASML、日本佳能和尼康等，在国产化的浪潮下，如上海微电子......
、良率和稳定性接近世界先进水平。国家主导的项目也取得了重大进展，自主研制的首台EUV光刻机成功通过验收。这一系列的突破为我国光刻机行业的发展提供了有力支撑。 ASML公司对华出口限制的影响 ASML公司......
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子......
体分立器件制造；半导体分立器件销售等。 此外，渭滨区委常委、副区长王亚勤表示，今年，全区以落实“三个年”活动为契机，加快西部传感器产业园招商步伐，计划招纳微电子、智能传感器及物联网创新型、研发型企业30......
ASML合作IMEC：共同加速推进新一代光刻机; 比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 () 共同宣布，双方将在开发先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机......
得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。 据介绍，其中一种工具的成本为 500 万卢布(当前......

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