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华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示;7月18日，中国招标投标公共服务平台官网公示，上海华虹宏力半导体制造有限公司（以下简称“华虹宏力”）中紫外步进式光刻机项目中标结果。标的物为中紫外步进式光刻机......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日，日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1......
回顾步进式光刻机概念的诞生：一个关于直觉的传奇故事;......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;IT之家 9 月 6 日消息，宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式“NSR-2205iL1......
还需要通过多个半导体芯片紧密相连的 2.5D 技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。 为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
，ASML用第一台步进式光刻机迈入中国市场，如今该公司在中国的总装机量已超过1000台。目前全球各地的晶圆制造厂都要依赖ASML的中高端光刻机。 数据显示，2021年，ASML在中......
容大感光：已购买i线投影步进式曝光机，用于i线光刻胶的研发与生产检测;4月11日，容大感光在投资者互动平台表示，公司的光刻胶产品主要包括PCB用光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶，其中半导体用光刻......
自主研发或成唯一出路。而对于荷兰来说，可能更加严重的打击还在后头。 近日，日本佳能宣布将于 2023 年 1 月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品—— i 线步进式光刻机 "FPA-5520iV LF2......
月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV      为了提高半导体芯片的性能，不仅在半导体制造的前道工艺中实现电路的微细化十分重要，在后......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
Devices等制造领域。 上海微电子旗下的产品主要有两大系列。 其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及......
，其技术发展路径从接触式、接近式、投影式、步进式和扫描式光刻机。无掩膜光刻机主要为激光直写光刻机，主要应用于FPD、PCB、PV等泛半导体领域。 高精度：ABM Inc.的光刻机......
兼CEO彼得·温宁克（Peter Wennink）表示，这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收，以及在第二季度开始浸润式设备快速发货带来的收入确认。“事实上，我们销售的浸没式光刻......
制造领域 佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机新产品----i线※1步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现0.5μm（微米※2）高解像力与50×50mm大视......
需要比以往更先进的扫描仪校正和补偿功能。 据介绍，NSR-S636E是一款用于关键层的浸润式光刻机。尼康声称，它较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形，并实现了高重叠精度（MMO ≤ 2.1 nm）。NSR......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
新产品----i线※1步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现0.5μm（微米※2）高解像力与50×50mm大视场曝光。  FPA-5550iX 新产品“FPA-5550iX......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm; ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
需在掩模保留区开孔。晶圆级封装通常采用掩模对准曝光机（Mask Aligner）4或步进式光刻机（Stepper）5作为光刻工艺设备。4掩模对准曝光机（Mask Aligner）：一种将掩模上的图案与晶圆进行对准，使光......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于......
家的i-line和KrF光刻机——面向各种类型的芯片，而且不仅是狭义的芯片制造，也包括一些现代化的封装技术。比如FPA-5520iV半导体i-line步进式光刻机也做晶圆级封装——主要针对一些多die......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
等浸入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机......
每小时曝光160片晶圆！ASML新款EUV光刻机创记录;今日晚间，ASML发布2021年第三季度财报，EUV光刻机的出货量和营收都刷新纪录。 财报显示，ASML2021年第三季度净销售额为52......
近两年不断加强研发，加速迭代其光刻设备。今年1月，尼康正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E，这种光刻机使用氟化氩激光器来生产芯片。 尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有......
计划在2023年推出光源使用化合物“氟化氩（ArF）”、并支持3DIC的“ArF浸润式光刻机”的新产品，可以适应3D堆叠结构器件如3D NAND芯片、图像传感器制造需求。并希望将到2025年将ArF光刻机......
胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻......
和日本还没有正式公开宣布对华半导体出口限制措施的计划，但随着两国最终确定法律安排，实际实施可能需要数月时间。 ▲相关报道截图 如果上述消息属实，那么预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机......
胶配套高纯显影液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
佳能发布半导体光刻机新品 FPA-5550iX，可用于全画幅 CMOS 制造等;IT之家 3 月 13 日消息，于今日发售了面向前道工序的半导体新产品 —— i 线步进式“FPA-5550iX......
ASML否认特供版DUV：没有面向中国推出特别版光刻机; 日前有报道称，将面向中国市场推出特别版DUV，不过此事已经辟谣，ASML表示一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机......
ASML回应荷兰半导体出口管制新规：涉及DUV光刻机; 据证券时报，3月9日上午，荷兰巨头阿斯麦(ASML)发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。 同时......
新的出口管制条例主要针对先进的芯片制造技术，包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 据悉，这些规定将于2023年9月1日正式生效。因此，光刻机巨头ASML可以在此日期之前开始提交出口许可证申请，而荷......
发展先进半导体所需的技术和设备，都会被加入到禁售清单中，其中就包括DUV浸润式光刻机。 DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米; 12月10日消息，宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”，生产效率、套刻......
荷兰芯片出口管制新规生效，光刻机巨头ASML发声;9月1日早上，荷兰光刻机巨头ASML在一份声明中称，该公司已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻......
胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。 南大光电进一步表示，2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为......
主要被用于45nm以下成熟制程的生产。 依据ASML在声明中所言，主要关注成熟制程的客户，使用不太先进的浸没式光刻工具也能够得到很好的服务。 TWINSCAN NXT: 2000i 是ASML生产的一款用于半导体制造的光刻机......
大公司文化的贡献，他的领导力、毅力和远见。我们向 Wim 的家人表示哀悼。” 特鲁斯特是飞利浦晶圆步进机的开发人员，也是在飞利浦管理团队会议上唯一一个表示对光刻机有研究兴趣的人。1984 年，飞利浦和 ASM......
传华为要自研光刻机？;近日有消息称，“华为太难了，拥有最强的国产芯片设计团队海思还不行，还要琢磨研究光刻相关技术...国内产业链在这些方面帮不上华为，华为只能自己来了！” 该爆料者还表示，希望......
NA EUV光刻机。此外，Christophe Fouque还确认，英特尔的第二套High NA EUV光刻机已经组装完成。 Christophe Fouquet表示，High NA EUV光刻机......
体现在以下几个方面： （1）深紫外光 (DUV)光刻 ASML推出最新浸润式光刻系统 TWINSCAN NXT:2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在 7 奈米和 5 奈米......
胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻......
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......

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