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另辟蹊径？俄罗斯拟自研“比ASML便宜”的EUV光刻机;综合CNews、Tom′s Hardware报道，俄罗斯科学院微结构物理研究所（IPM RAS）宣布了一项名为“高性能X射线光刻......
持AI使用的大型半导体的生产。 据悉，3D技术是通过堆叠多个半导体芯片使其紧密连接来提高性能的方式。在放置芯片的板状零部件上，以很高的密度形成以电气方式连接各个芯片的多层微细布线，佳能就正在开发用于形成这种布线的新型光刻机......
，作为全球领先的制造商，不用过多介绍。此次发布的Twinscan NXE：3800E光刻机，是ASML在EUV光刻技术领域的又一重要成果。这款新型光刻机采用了先进的Low-NA EUV技术，显著......
胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息，近日，华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域，入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。 6月2日，北京......
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻......
年下半年购买了ASML1900 Gi型光刻机及配套设备，于2021年下半年购入了尼康KrF S207光刻机及配套设备，目前该公司拥有成系列的光刻机五台。 加速光刻胶产业链布局 除了主营业务光刻......
NA（超级NA）光刻机，以继续推动摩尔定律的发展。这种新型光刻机将进一步提高孔径数值，预计将超过0.7nm。ASML CTO Martin van den Brink在《2023年度报告》中提......
此基础上开发了ArF版本，以支持波长更短的新型光刻机。 封面图片来源：拍信网......
再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。 3月12日，上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示，近日，公司......
晶瑞股份之后，这家公司与ASML签署了批量购买协议;近日，国内半导体企业与ASML的合作接连传来好消息。继近日晶瑞股份成功ASML XT 1900 Gi型光刻机之后，国内......
电镜、台阶仪等设备购置，其中ASML1900Gi型光刻机设备正在积极调试中。同时公司正在积极开展对上游材料树脂单体及配方的研究。晶瑞电材补充，此前，公司已经购得用于负胶、g线、i线、ArF等4台光刻机......
半导体领域。  除了历史悠久，经验丰富之外，公司在光刻胶方面有一个很大优势，就在于自己拥有5台光刻机，这一点与程彤新材旗下子公司北京科华类似。公司2020年购买了阿斯麦1900 Gi型光刻机，2021年下......
（0.35μm）光刻机是哪种类型光刻机，此前俄媒曾提到过基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，而从目前来看350nm（0.35μm）的波段达到i线（365nm）。 各个工艺节点和光刻......
%。 此外，晶瑞股份在年报中表示，其于2020年下半年购买了ASML1900Gi型光刻机设备，正式启动ArF高端光刻胶研发工作，以研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻......
消息显示，年产1200吨集成电路关键电子材料项目计划投资1.4亿元，建设内容为光刻胶中间体1000吨/年，光刻胶1200吨/年。 晶瑞电材当时指出，公司ASML1900型光刻机设备已安装到位，KrF光刻......
足国内微电子产业14nm制程的需求，成功填补国内空白、正在推进进口替代。 在光刻胶方面，目前晶瑞KrF已经进入了客户验证阶段，并且在今年1月采购了一台ASML XT 1900Gi光刻机用于研发ArF光刻......
于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州......
型光刻机设备已安装到位，KrF光刻胶已完成中试，ArF光刻胶研发进行中，未来几年公司产品升级有望带来公司光刻胶业务持续增长。眉山生产基地扩产光刻胶及其生产原料，是在充分考虑市场、客户......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%;据尼康官方消息显示，尼康宣布将于2024年1月起发布ArF浸没式扫描仪NSR-S636E，作为关键层的曝光系统，该系......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
型光刻机一台，并于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。据悉，该光刻机可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。 封面图片来源：拍信网......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
ASML光刻机设备、购置ArF光刻机配套设备、建设研发大楼。 此外，晶瑞电材8月1日宣布，曾在知名光刻胶企业任职近10年的陈韦帆加入公司光刻胶事业部担任总经理职务。 彤程新材方面，其通过进一步收购股权实现对光刻......
设备投资降低至仅有EUV设备的40%。 佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路。 “价格将比ASML的EUV光刻机......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
胶涂布之前的晶圆预湿润等等，同时这类光刻胶的增长预计将会减少水溶液显影剂和边胶清洗的使用。 晶圆厂扩建和日韩贸易纠纷的引起的出口限制也促进了一些小型光刻......
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证; 4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光......
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证：为EUV光刻胶开发做技术储备;4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
小伙儿在家自造芯片和光刻机！; 万万没想 到，造芯这件事，竟然还能如此“亲民”： 在22岁的年纪，一个......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......
上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间，上海新阳半导体发布公告，称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司......
售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！; 芯片规则实施之后，台积电与中企的合作被中断，而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML，自然也成为了美国的主要针对对象，在签......

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