资讯
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）(2020-08-18)
1）。由于干法刻蚀可以实现各向异性刻蚀，符合现阶段半导体制造的高精准、高集成度的需求，因此在小尺寸的先进工艺中，基本采用干法刻蚀工艺。这使得干法刻蚀机在刻蚀市场中占据主流地位。
而按照被刻蚀......
至纯科技拟募资不超过11亿元 用于半导体清洗设备扩产升级等(2021-08-25)
亿元，项目建设地点为上海市。该项目基于公司现有半导体湿法清洗设备28nm的研发及生产的技术积累（包括湿法去胶、刻蚀、清洗、刷洗），将针对14nm及以下工艺节点的高阶单片湿法工艺模块、单片......
普乐科技首批高效BC电池片顺利出货(2024-08-30 14:18)
，及后来的热扩散和湿法刻蚀工艺，到目前的钝化接触和激光开槽工艺，和最新的全钝化和铜电极工艺，量产转换效率越来越高，生产成本越来越低。这也意味着，国内......
电科装备45所湿法设备进入国内主流8英寸芯片产线(2022-07-26)
化程度高，系统集成度高，覆盖了8英寸BCD芯片工艺中的湿化学工艺制程，实现了全自动湿法去胶、湿法腐蚀、湿法金属刻蚀、RCA清洗、Marangoni干燥等工艺。
官方资料显示，45所是国内最大的半导体湿法......
泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率(2023-07-04)
的塌边会影响晶圆键合的质量。
3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。
当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
中科院微电子所在先进工艺仿真方向取得重要进展(2024-11-08 14:06:34)
原子解吸附和扩散的模拟算法，建立了基于蒙特卡洛方法的连续两步干法刻蚀工艺轮廓仿真模型，实现了针对Si/SiGe六叠层结构的横向选择性刻蚀工艺轮廓仿真，并完......
已获批量订单，这家设备企业首批半导体全自动湿法设备成功交付(2021-07-26)
环节相关。近年来为顺应产品发展路径，捷佳伟创开始向半导体设备领域延伸。
2019年，捷佳伟创全资子公司常州捷佳创精密机械有限公司成立了半导体湿法工艺研究室，集合国际团队重点加强对集成电路湿法......
传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制(2023-08-28)
设备，涵盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、热处理、清洗和检验等。DIGITIMES Research分析师Eric Chen表示，对光刻和薄膜沉积设备的限制更有可能实施，从而影响中国先进的半导体制造。
在光......
通潮精密半导体核心零部件项目签约(2024-09-19)
产业关键设备部件的研发及生产，产品主要应用于泛半导体薄膜工艺、刻蚀工艺等关键工艺环节，也是国内首家将面板领域CVD设备、干法刻蚀设备电极部件国产化的企业。
此外，据统计，2023年合......
泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率(2023-07-04)
中成为污染源。晶圆的塌边会影响晶圆键合的质量。
•3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。
当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
晶洲装备二期洁净车间项目竣工，即将投产(2024-05-07)
方米，月产泛半导体装备可达百台以上，进一步提升了晶洲泛半导体装备的研发及制造能力。
据晶洲装备表示，以显示制程的湿法刻蚀机为例，晶洲曾获江苏省首台(套)重大装备认证的G6湿法刻蚀机宽4米、高4.5米......
盛美上海湿法设备3000腔交付(2022-11-17)
盛美上海湿法设备3000腔交付;2022年11月16日，盛美上海宣布湿法设备3000腔交付，其半导体湿法设备2000腔于去年10月18日交付。
目前中国大陆能提供半导体清洗设备的企业，主要......
泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率(2023-06-29 10:41)
中成为污染源。晶圆的塌边会影响晶圆键合的质量。• 3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
下一代高性能晶体管——纳米线能否继任FinFET(2016-11-23)
前的截图可以看到，IMEC将纳米线做成近似圆形。这里IMEC可能使用了非常独特的方法，可能是氧化，或者用了湿法刻蚀，或者是前面的ALE工艺能直接达到这种效果。需要在如此小尺度上做这么多工作，这一步工艺非常困难。不过......
下一代高性能晶体管——纳米线能否继任FinFET(2016-11-23)
前的截图可以看到，IMEC将纳米线做成近似圆形。这里IMEC可能使用了非常独特的方法，可能是氧化，或者用了湿法刻蚀，或者是前面的ALE工艺能直接达到这种效果。需要在如此小尺度上做这么多工作，这一步工艺非常困难。不过......
总投资10亿元，基侑电子半导体刻蚀设备生产项目正式签约(2023-06-21)
，是一家以生产半导体湿法蚀刻清洗相关设备的企业。
封面图片来源：拍信网......
盛美半导体推出的300mm晶圆单片SPM设备已交货(2021-09-26)
官微
官微显示，300mm晶圆单片SPM设备可广泛应用于先进逻辑、DRAM，3D-NAND等集成电路制造中的湿法清洗和刻蚀工艺，尤其针对处理高剂量离子注入后的光刻胶（PR）去除工艺，以及金属刻蚀......
至纯科技：联合中标2.76亿元长江存储公司国家存储器基地项目气体系统包(2022-08-05)
包含设计、安装和调试等服务。
公开资料显示，至纯科技成立于2000年，于2017年1月上市，公司的主营业务包括高纯工艺系统、半导体湿法清洗设备、光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售，广泛应用于半导体......
泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率(2023-06-30)
中成为污染源。晶圆的塌边会影响晶圆键合的质量。
·3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。
当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
盛美半导体用于晶圆级封装的湿法去胶设备获IDM大厂重复订单(2021-11-08)
的产品可完全覆盖WLP生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备，以及先进电镀设备。用于WLP的设备已获得国内本土厂商的广泛认可，这两份订单进一步反映了盛美半导体......
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科(2022-06-14)
整体解决方案。
芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，其产品可广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED、3D......
年产40台设备，这个半导体湿法设备制造项目将落地合肥(2021-08-12)
年产40台设备，这个半导体湿法设备制造项目将落地合肥;8月10日，合肥经济技术开发区管理委员会网站发布关于对合肥至汇半导体应用技术有限公司半导体湿法设备制造项目（一期）环境......
芯源微高端晶圆处理设备产业化项目封顶，年底前投入使用(2021-05-08)
发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，可根据用户的工艺要求量身定制。产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED......
国产替代正当时，半导体清洗设备龙头快速发展(2022-08-10)
来，我国半导体清洗技术及设备不断精进，盛美上海、至纯科技、北方华创等企业成果比肩国际领先企业。
壹
聚焦湿法清洗设备
公开资料显示，根据清洗介质不同，半导体清洗技术分为湿法清洗和干法清洗两种工艺......
为刻蚀终点探测进行原位测量 使用SEMulator3D®工艺步骤进行刻蚀终点探测(2024-01-18)
中十分重要。半导体行业需要可以在刻蚀工艺中为工艺监测和控制提供关键信息的测量设备。目前，为了提升良率，晶圆刻蚀工艺使用独立测量设备和原位（内置）传感器测量。相比独立测量，原位测量可对刻蚀相关工艺......
国内首条12英寸先进传感器研发中试线成功通线(2021-06-30)
先进传感器中试线成功通线。
该中试线以国产设备为主，具备晶圆键合、晶圆减薄、干湿法刻蚀、物理和化学气相沉积、原子层沉积、化学机械研磨、湿法清洗、自动化量测等先进传感器和晶圆级3D集成技术的核心工艺能力，同时......
为刻蚀终点探测进行原位测量(2024-01-18)
为刻蚀终点探测进行原位测量;介绍 本文引用地址：半导体行业一直专注于使用先进的刻蚀设备和技术来实现图形的微缩与先进技术的开发。随着半导体器件尺寸缩减、工艺复杂程度提升，制造工艺中刻蚀工艺......
中微半导体中标华虹半导体12台刻蚀设备(2022-04-02)
来源：全国招标投标公共服务平台公告截图
资料显示，本次中标的12台刻蚀机，分别是3台钝化层刻蚀、7台氧化膜刻蚀、2台SiN刻蚀，均为等离子体刻蚀工艺。
近日，中微半导体发布2021年年......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
整体解决方案。
芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED......
半导体设备，烽烟四起(2024-11-29)
设备企业涉及北方华创、中微公司、华海清科、盛美上海、精测电子等等。从各家的产品布局来看，北方华创在半导体设备方面实现了平台化布局，具体产品包括刻蚀机、PVD、CVD、ALD、清洗机等多款高端半导体工艺装备。截至2024......
中国研发团队在SOT-MRAM取得重要进展(2023-03-08)
中国研发团队在SOT-MRAM取得重要进展;当前，全世界主要半导体研发机构和企业都在SOT-MRAM刻蚀工艺上开展了大量工作，然而，SOT-MRAM的刻蚀工艺......
使用新一代高度可调的低介电薄膜来解决串扰、隔离等制造挑战(2023-08-04)
降低硅氧键的密度。即使对于在不同温度下沉积的薄膜，相比于薄膜中的碳密度或碳总量，交联碳的量才是影响刻蚀选择性的主要因素。此外，这些SiCO薄膜在稀氢氟酸和热磷酸等典型湿法化学物质中的湿法刻蚀速率为零，因此可提供近乎无限的湿法刻蚀......
为刻蚀终点探测进行原位测量(2024-01-22)
为刻蚀终点探测进行原位测量;
介绍
行业一直专注于使用先进的刻蚀设备和技术来实现图形的微缩与先进技术的开发。随着半导体器件尺寸缩减、工艺复杂程度提升，制造工艺中刻蚀工艺......
总投资5000万元 思恩半导体项目云签约落户江苏常熟(2022-04-08)
总投资5000万元 思恩半导体项目云签约落户江苏常熟;据常熟经开区发布消息，近日，思恩半导体湿法制程设备和微电子自动化设备项目云签约落户经开区。
消息显示，思恩半导体项目（思恩半导体科技（苏州......
应用材料公司携精彩主题演讲和成果展示亮相SEMICON China 2023(2023-06-25)
材料公司还将在当天在“CMP和CMP后清洗(CMP
and Post CMP Cleaning)”及“干法、湿法刻蚀和清洗(Dry & Wet Etch and
Cleaning)”等分......
盛美上海推出新型化合物半导体系列设备加强湿法工艺产品线(2022-01-27)
) 和碳化硅 (SiC) 等工艺。化合物半导体湿法工艺产品线包括涂胶设备、显影设备、光阻去胶设备、湿法蚀刻设备、清洗设备和金属电镀设备，并自动兼容平边或缺口晶圆。
盛美上海董事长王晖表示，随着......
Ema推出电容式接近传感器(2023-01-28)
腐蚀机。清洗设备必须保证优质的清洗效果，无交叉感染的风险，准确地供给化学药液，可广泛应用于不同种晶圆的清洗工艺。
半导体清洗设备: 半导体湿法......
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产(2023-09-19 11:30)
全球主要国家和地区。其中，在半导体工艺装备领域，北方华创的主要产品包括刻蚀、薄膜、清洗、热处理、晶体生长等核心工艺装备，广泛应用于逻辑器件、存储器件、先进封装、第三代半导体、半导体照明、微机电系统、新型显示、新能......
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产(2023-09-18)
服务体系覆盖欧、美、亚等全球主要国家和地区。
其中，在半导体工艺装备领域，北方华创的主要产品包括刻蚀、薄膜、清洗、热处理、晶体生长等核心工艺装备，广泛应用于逻辑器件、存储器件、先进封装、第三代半导体、半导体......
盛美半导体湿法设备2000腔顺利交付！(2021-10-20)
盛美半导体湿法设备2000腔顺利交付！;“盛美半导体设备”官方公众号消息，10月18日盛美半导体湿法设备2000腔顺利交付！累计出货超过300台设备。
资料显示，盛美是国内集成电路湿法......
签约、开工、加码、投运...国内一大批半导体项目迎最新进展！(2022-12-12)
研发生产中心项目，7亿元用于启东半导体装备产业化基地二期项目，剩余5.4亿元用于补充流动资金或偿还债务。
单片湿法工艺模块、核心零部件研发及产业化项目基于公司现有28nm半导体湿法......
国际首次，中国芯片再突破！(2024-04-19)
增加到100纳米，并可朝着单片集成发展。
报道称，研究团队通过迭代电子束曝光和干法刻蚀工艺，攻克高质量氮化镓晶体薄膜生长、波导侧壁与表面散射损耗等技术难题，在国......
世界首个！我国团队研制出氮化镓量子光源芯片(2024-04-19)
朝着单片集成发展。
研究团队通过迭代电子束曝光和干法刻蚀工艺，攻克了高质量氮化镓晶体薄膜生长、波导侧壁与表面散射损耗等技术难题，在国际上首次将氮化镓材料运用于量子光源芯片。
据电......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。
除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征金属膜层刻蚀......
应用材料公司携精彩主题演讲和成果展示亮相SEMICON China 2023(2023-06-25)
、湿法刻蚀和清洗（Dry & Wet Etch and Cleaning）”等分论坛展示相关主题的学术海报。
6月30日 功率及化合物半导体产业国际论坛——应用材料公司ICAPS产品......
上海交大无锡光子芯片研究院光子芯片中试线5月将全线贯通(2024-01-09)
迈入全新发展阶段。
2023年10月项目主体结构正式封顶，仅仅三个月时间便再度迎来首批设备正式入场的重大节点。本次入场的22台设备是薄膜泥酸理光子芯片中试线的关键组成部分，主要用于光刻干法刻蚀、薄膜沉积、湿法清洗以及切割工艺......
至纯科技拟在上海投建半导体电子化学品、电子特气研发及产业化项目(2023-05-19)
—设备—材料”提供三位一体服务，对标国际顶尖企业打造中国品牌。
资料显示，至纯科技成立于2000年，主要从事高纯工艺系统和半导体湿法清洗设备的研发、生产、销售及技术服务。其中，高纯工艺......
国际首次 中国成功研制出氮化镓量子光源芯片(2024-04-19)
灯泡」，让互联网使用者拥有进行量子信息交互的能力。
研究团队通过迭代电子束曝光和干法刻蚀工艺，攻克了高质量晶体薄膜生长、波导侧壁与表面散射损耗等技术难题，在国际上首次将材料运用于芯片。
目前，量子......
石英股份拟不超过32亿元投建“半导体石英材料系列项目（三期）”(2022-10-12)
石英制品。项目规划用地面积约245亩，最终以实际建设情况为准。项目建设周期为三年。
石英股份称，石英材料在半导体产业的应用主要是在晶圆生产中的扩散和刻蚀工艺，应用于刻蚀工艺......
相关企业
求，高品质为产品技术理念，力争打造成为中国本土半导体设备制造业航母。 产品包括：太阳能电池清洗设备, 半导体清洗设备,微电子工艺设备及清洗设备，太阳能电池片清洗刻蚀设备, 微电子半导体清洗刻蚀设备,LCD
清洗设备,微电子工艺设备及清洗设备，太阳能电池片清洗刻蚀设备, 微电子半导体清洗刻蚀设备,LCD液晶玻璃基板清洗刻蚀设备;LED晶片清洗腐蚀设备,硅片切片后清洗设备，划片后清洗设备,太阳
创新，服务顾客，追求卓越。 经营项目：半导体芯片、液晶基板及太阳能光伏硅片等清洗腐蚀设备及工艺调试。 产品类别：湿法清洗设备，电镀设备，塑料加工，贸易 半导体事业部：硅清洗腐蚀设备，立式/卧式石英管/石英
、半导体领域湿法制程设备： 微电子集成电路、半导体材料、半导体照明LED、有机发光二级管OLED、电力电子器件、分立器件、微机电系统MEMS 2、光伏太阳能领域湿法制程设备： 前道制程设备:全自
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子星型CD
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子
新为突破点，走设备研发和工艺研究相结合的道路，使设备能够满足和引领最新的工艺。公司的研发团队由张宝顺博士、王敏瑞博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。 主要
;深圳市山木电子设备有限公司设备部;;深圳市山木电子设备有限公司成立于1998年，在电子组装工业上SAM是增长最快的SMT周边设备，精密湿法清洗设备，半导体封装的生产商。SAM不断
所采用的材料全部系国际品牌厂商配套提供，使各产品质量可 靠，性能稳定，目前已畅销国内外，深得用户好评，特别在东北地区 浙江地区、江苏地区、上海地区等地客户云集。 ◆主营业务：半导体、LED／液晶/太阳能湿法清洗及配套设备。