资讯
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？(2023-04-11)
胶以正性为主。按应用领域，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶。而下文将主要围绕半导体光刻胶展开描述。
数十年里，半导体行业的迅猛发展离不开光刻工艺的进步，而光刻工艺必然也离不开光刻......
国产厂商引入首台光刻机设备！(2024-07-17)
节点研发的重点设备。
光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件，类似于相机“底片”，光线经过掩膜版后，可在晶圆表面曝光形成电路图形。目前，我国高精度半导体光......
泰晶科技车规级产品和光刻工艺技术今年获新进展(2022-03-21)
增加456.81%到586.3%。对于业绩提升，泰晶科技表示主要原因是，2021年公司充分发挥半导体光刻工艺技术优势，进一步提高高端晶片的自主化及微型小尺寸、高基频、高稳晶振的规模化生产，持续优化产品、客户......
经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产(2022-12-15)
与掩膜版完全对应的几何图形。
光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40-50%，是半导体制造中最核心的工艺。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，
根据......
上海新阳、容大感光等企业光刻胶最新动态披露(2024-03-18)
上海新阳、容大感光等企业光刻胶最新动态披露;光刻胶是半导体制作的关键材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。其能够利用光化学反应，经过曝光、显影等光刻工艺，将所......
集邦咨询：2023 年半导体光刻胶市场收入下降 6-9%，明年有望复苏(2023-12-27)
集邦咨询：2023 年半导体光刻胶市场收入下降 6-9%，明年有望复苏;12 月 27 日消息，集邦咨询近日发布《2023 年全球光刻胶市场分析》，预估 2023 年半导体光刻......
半导体大厂取消增加光刻胶供应商计划，国内厂商发展现状如何？(2022-09-23)
与市场双重壁垒下，国内光刻胶厂商发展处境如何？
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光刻胶：半导体光刻工艺核心材料
光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在半导体制造环节，光刻胶是光刻工艺......
国产光刻胶，破冰前行(2024-12-10)
中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立的太紫微公司推出了T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列；光刻胶厂商阜阳欣奕华冲刺IPO，已开启上市辅导备案；威迈芯材半导体高端光刻......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！(2024-07-04)
机研发与生产。ABM Inc.成立于2003年，总部位于中国香港，拥有超过20年的半导体光刻设备行业经验。
业务领域：ABM Inc.主要提供半导体前道制造的光刻机和先进封装的光刻......
容大感光拥6.70亿元巨资，深耕光刻胶领域(2022-03-09)
干膜、特种油墨、显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品等系列感光电子化学品。
容大感光公告指出，感光干膜作为PCB光刻工艺中的关键材料，公司自2018年起即组建研发团队负责该领域的技术攻关；2021年9......
安徽首片光刻掩模版亮相，国内多个相关项目新进展(2024-07-23)
/年的产能支持。
掩模版制造是半导体产业链的关键环节，而掩模版则是连通芯片设计和制造的纽带，其作用在于承载设计图形，通过光线透射将设计图形转移到光刻胶上，是光刻工艺中不可或缺的部件。
国内......
国际大厂光刻胶涨价！国产替代刻不容缓(2023-12-13)
因产品而异，约为10%-20%。
光刻胶是半导体制作的关键材料，能够利用光化学反应，经过曝光、 显影等光刻工艺， 将所需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。半导体光刻胶品种众多，包括EUV光刻胶、ArF......
业界再添二起并购案 事关三井化学、旭化成、瑞萨等(2022-06-10)
受委托制造光掩模薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（业务）。
公开资料显示，光掩模，也叫半导体光罩，是半导体光刻工艺中的高精密工具，主要......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品
通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产
佳能将于2023年1......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
最新，国产光刻胶通过验证！(2024-10-16)
配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。
该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局;有一种材料，占半导体市场不到1%的规模，却决定了芯片能否生产，该材料的供应商集中在日美两国，尤其是头部企业在日本最为聚集，这种材料就是光刻......
普乐科技首批高效BC电池片顺利出货(2024-08-30 14:18)
除了分布式屋顶电站、地面电站外，在建筑一体化光伏（BIPV）、电动汽车车顶、柔性轻质便携式太阳能充电板等高毛利应用场景中具有广泛的适用性。
随着国产装备、材料和钝化接触电池技术的成熟，BC电池量产工艺也由最早的半导体光刻工艺......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了(2024-05-26)
片制造的全流程中，整个过程涉及几十道光刻工艺，每一道光刻工艺之后紧接着是众多复杂的半导体IC平面加工工艺。这些工艺中的每一道又细分成多道工序，而每一道工序又由多个步骤组成，每一步骤都至关重要，不容......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米压印半导体......
上海集成电路研发中心与阿斯麦签署合作备忘录将于上海建立培训中心(2017-06-22)
界领先的芯片制造设备厂商阿斯麦（ASML）于今天签署合作备忘录（MoU），本周宣布将在上海合作共建一个半导体光刻人才培训中心。基于此合作备忘录，双方将进一步探索其他的合作内容与模式。
双方......
提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品(2023-02-21)
引进解决方案平台“Lithography Plus”（2022年9月上市），可以将有关半导体光刻设备和“MS-001”的运转情况的相关信息集中到“Lithography Plus”中。将“MS-001”在半导体器件的制造工艺......
提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品(2023-02-21)
转情况的相关信息集中到“Lithography Plus”中。将“MS-001”在半导体器件的制造工艺中所获取的测量数据和“Lithography Plus”所集中的信息进行对照监测，就可以检测出晶片表面对准信息的变化，并在半导体光刻......
半导体寒冬下，这一关键材料却陷供应紧缺，交期为往常4至7倍(2022-11-11)
重新转向短缺。
公开资料显示，在半导体制造流程中，需使用光蚀刻技术，在芯片上形成图形。而为了将图形复制在晶圆上，必须借助光掩膜的帮助——这一流程类似与冲洗相片时，利用底片将图像复制至相片上，因此光掩膜也被称为光刻工艺......
国内厂商奋起直追！EUV光罩市场将迎来新变局(2023-02-09)
是以石英玻璃为衬底，其上镀以金属铬层及感光胶层，当镀膜石英玻璃上的图像可以覆盖整个晶圆时，即称之为光罩。光罩是半导体光刻工艺......
三星大幅削减3D NAND生产中光刻胶用量 供应商受影响(2024-12-04)
三星大幅削减3D NAND生产中光刻胶用量 供应商受影响;
【导读】据报道，三星已在其最新 3D NAND 的光刻工艺中减少了厚光刻胶 (PR) 的使用，从而大幅节省了成本。然而，此举可能会影响其韩国供应商东进半导体......
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率(2023-02-23)
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率;IT之家 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体......
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）(2021-03-23)
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）;半导体光刻胶缺货
在价格方面，受下游需求不断增加，芯片价格上涨的影响，光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍，仅在今年1-2月，江苏......
三星首次引进本土生产光刻胶！(2022-12-06)
三星首次引进本土生产光刻胶！;据外媒消息，近日，三星电子将本土公司东进世美肯半导体开发的用于高科技工艺的极紫外 (EUV) 光刻胶引入其量产生产线，据悉，这是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试，此前......
光刻胶厂商徐州博康获数千万元投资，华为曾入股(2023-03-29)
胶单体产品技术，其中KrF光刻胶单体占全球份额超过20%。
在半导体光刻胶领域，徐州博康已研发高端ArF光刻胶26款，其中应用于通孔工艺的ArF湿法光刻胶，已经能够应用至40nm/28nm工艺......
国产光刻机最大的希望！上海微电子上市最新进展(2023-11-15)
高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于200/300毫米线的大规模工业生产。
SSB500系列步进投影光刻......
飞凯材料：半导体光刻胶已形成少量销售，正在做KrF相关的开发工作(2023-04-14)
飞凯材料：半导体光刻胶已形成少量销售，正在做KrF相关的开发工作;4月12日，飞凯材料公布投资者关系活动记录表。飞凯材料的光刻胶主要有显示面板光刻胶和半导体光刻胶，其主要产品多应用于半导体封装、面板......
DNP开发出用于3纳米EUV光刻的光掩膜工艺(2023-12-13)
，能够适应3纳米（10-9米）光刻工艺，以支持半导体制造的尖端工艺——极紫外(EUV)光刻。
能够支持3纳米EUV光刻的光掩膜（照片：美国商业资讯）
[背景]DNP不断满足半导体......
俄乌冲突或加剧半导体短缺问题(2022-03-18)
供应链已经紧张。虽然计划进行更大的投资和产能扩张，但增加供应的能力需要时间。
俄乌冲突为何会影响芯片制造业？
该地区供应对芯片制造至关重要的各种原材料。例如，乌克兰是惰性气体的主要来源，例如半导体光刻工艺......
上海/深圳有“芯”动作；Q4闪存价格反转下跌？MTS2025报名持续ing...(2024-10-21)
胶通过验证！
据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16)
技术相结合的超大型高密度布线封装的量产，进一步推动 3D 封装技术的发展。
曝光视场示例
据了解，新产品继承了半导体光刻机“FPA-5520iV”的多项基本性能。例如可以灵活应对再构成基板翘曲等在封装工艺......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16 14:34)
相结合的超大型高密度布线封装的量产，进一步推动 3D 封装技术的发展。
曝光视场示例
据了解，新产品继承了半导体光刻机“FPA-5520iV”的多项基本性能。例如可以灵活应对再构成基板翘曲等在封装工艺......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
说简直就是灾难，因为其后续尖端制造工艺都需要EUV光刻机。
台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。借助EUV光刻，所需......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！(2022-10-08)
将当前产能提高一倍，总投资额超过500亿日元（约3.45亿美元），工厂计划在2023年动工，2025年开始运营。
光刻是半导体电路形成不可或缺的核心技术，目前佳能在日本拥有2处半导体光刻......
芯源微拟定增募资10亿元 用于半导体设备扩产升级(2021-06-15)
用于研发与生产前道ArF光刻工艺涂胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高端半导体专用设备。
高端晶圆处理设备产业化项目（二期）位于辽宁省沈阳市浑南区。本项目预 计建设期为30个月......
涉及半导体光刻胶等 八亿时空拟16.80亿元投建电子材料基地项目(2021-07-12)
测试中心、 中控室及配套附属设施用房等建筑（构筑物）面积约19.2万平方米，采用企业自主研发的先进工艺技术，实现液晶材料、OLED材料、聚酰亚胺（MPI等）浆料、平板显示用光刻胶、半导体光刻胶及半导体用光刻......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
胶批量测试的过程需要占用晶圆厂机台的产线时间，在产能紧张的时期测试时间将会被延长。测试的过程需要与光刻机、掩膜版及半导体制程中的许多工艺步骤配合，付出成本极高。通常面板光刻胶验证周期为 1-2 年，半导体光刻......
氖气价格“过山车”式飙升，三星吃不消考虑用回收氖气：明年满足 75% 光刻需求(2024-03-08)
是一种稀有的惰性气体，也是光刻工艺中不可或缺的原材料。它用于产生激光，将电路图案转移到基板上，同时也广泛应用于半导体以及显示器等其他行业。
......
【一周热点】上海/深圳有“芯”动作；Q4闪存价格反转下跌？MTS2025报名持续ing...(2024-10-20 15:35:41)
配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻......
光罩产业国产化趋势势不可挡，本土光罩厂正在兴起(2023-03-24)
产业链中关键一环的光罩厂的动向就不那么轰轰烈烈了。
光罩厂(mask shop)顾名思义，就是生产光罩的地方。和晶圆厂(wafer fab)相比，光罩厂的规模和产能都要小很多，但是作为光刻工艺......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
行业观察记者没有查询到相关的数据，而用这个光源能做什么工艺的光刻，本站也未有了解，希望有知情人士可以留言，谢谢！
今天是《半导体行业观察》为您分享的第1248期内容，欢迎......
半导体材料“卡脖子”问题待解，张汝京携30亿项目再出手(2022-08-22)
应用于平板显示、半导体、触控和电路板的制造过程，在IC制造过程中，其作用是将设计好的电路进行显影，将图形投影在晶圆上，利用光刻技术进行蚀刻，是半导体光刻工艺中所需的高精密工具。
当前，在5G、人工......
国产光刻胶通过量产验证：120nm分辨率 配方全自主设计(2024-10-15 17:54:40)
的T150 A光刻胶产品，通过半导体工艺量产验证。
T150 A光刻胶实现配方全自主设计，对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。
据介绍，相较......
国内晶圆厂两次包机抢运54吨滞留光刻胶(2021-11-05)
可溶部分可获得所需图像。
光刻工艺是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术，在半导体制造领域，随着集成电路线宽缩小、集成度大为提升，光刻工艺技术难度大幅提升，成为延续摩尔定律的关键技术之一。同时，器件......
徐州博康：半导体光刻胶获国内主流存储芯片厂客户订单(2022-04-12)
徐州博康：半导体光刻胶获国内主流存储芯片厂客户订单;据华懋科技官方消息，华懋科技旗下徐州博康近期收到某国内主流存储芯片厂商的半导体光刻胶采购订单，此前该产品型号全部依赖于海外进口。
据悉，该产......
相关企业
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
，我们相继开发了微型针孔镜头、半导体光刻机镜头、光刻激光照明系统、双探测器变焦镜头、GPI系列医用光学适配器、GPI医用摄像机、GLN系列激光夜视系统、GLN系列激光照明系统、透雾摄像机等产品。其中
;潮州市华光电子有限公司;;我公司是由潮州市无线电厂与港资合作经营的生产半导体光电器件的企业。主营：光敏三极管，红外发射管，发光二极管等。
;中微光电子（潍坊）有限公司;;中微光电子（潍坊）有限公司（以下简称：中微公司）是一个总部设在山东省潍坊市高新技术产业开发区的高度全球化的高科技跨国公司。公司的初创资本和产品技术主要来自于美国。中微公司是一个以半导体光
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子星型CD
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子
;重庆市北碚区磊鑫石刻工艺厂;;重庆磊鑫雕刻工艺公司----- 一直以来，我们本着创新、求实、协同、服务的企业理念，用心为您服务。让我们一起创造更加美好的明天！！！
;南昌金美电子科技有限责任公司;;南昌金美电子科技有限责任公司拥有雄厚的技术力量和开发能力,在半导体光电器件行业居于国内领先地位。通过ISO9000:2000版认证的半导体光