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飞凯材料：半导体光刻胶已形成少量销售，正在做KrF相关的开发工作;4月12日，飞凯材料公布投资者关系活动记录表。飞凯材料的光刻胶主要有显示面板光刻胶和半导体光刻胶，其主要产品多应用于半导体封装、面板......
，13.5nm）光刻，电子束光刻等六个阶段，随着光刻技术发展，各曝光波长的光刻胶组分（成膜树脂、感光剂和添加剂等）也随之变化。 光刻技术及光刻材料的发展 根据反应机理和显影原理，可以将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶......
12月通过了客户的使用认证，这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。 同时，上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术，本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机的......
现将进一步提高分辨率并减小特征尺寸，同时降低焦深。这当然会导致薄膜（film）厚度缩小，这需要实施新的光刻胶和underlayers，以优化蚀刻过程中的 EUV 吸收和图案转移。 此外，imec认为......
足国内微电子产业14nm制程的需求，成功填补国内空白、正在推进进口替代。 在光刻胶方面，目前晶瑞KrF已经进入了客户验证阶段，并且在今年1月采购了一台ASML XT 1900Gi光刻机用于研发ArF光刻胶......
将甚至远超台积电。 此外，Patel还认为光刻胶和光刻机关键零部件目前并无出口限制，这也是一个重大的漏洞，如果目标是遏制中国在前沿节点上的能力，也必须阻止这些工具的流通，关键供应商很容易被上海微电子等本土光刻机......
时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。 光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻胶。如之前介绍的那样，当光线照射到光刻胶上时，会产......
光电股份有限公司等下游重点企业建立长期、稳定合作关系。 下游市场发展驱动，国产光刻胶或将迎来新机遇 当前，光刻胶根据应用领域不同，主要可分为PCB光刻胶、显示用光刻胶和半导体光刻胶。近年来，5G......
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。 作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显......
光刻胶国产化的6道坎;材料是半导体大厦的地基，不过，目前中国的这一地基对国外依存度还很高。   2019年，日韩发生冲突，日本封锁了三种关键的半导体材料，分别是氟化氢、聚酰亚胺和光刻胶。这三......
满足集成电路发展的需求，光刻胶通过缩短曝光波长、提高极限分辨率，来满足不断精进的光刻技术需求。 不同的光刻胶产品适用于不同的光刻机，从光刻机的发展历程来看，以光源的来区别大致有g线-i线-KrF-ArF......
还与IC制造工艺紧密结合，因此厂商要想研发光刻胶，首先就需要有一台光刻机。光刻机的价值之高想必大家都有所耳闻。在2021数博会上，中国工程院院士吴汉明公开表示，一台高端EUV光刻机价值1亿美元。根据......
项目；同年5月，南大光电ArF光刻胶产品在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。 2、彤程新材 通过战略收购北京科华微电子和北旭电子，彤程新材实现了在集成电路光刻胶及平面显示光刻胶领域的关......
科华”）宣布开展一项合作计划，为中国集成电路芯片制造商提供高性能光刻材料。凭借双方公司的优势，此项合作旨在满足行业对先进光刻胶和其他光刻材料的需求。 根据国际半导体产业协会(SEMI)发布......
公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次光刻机的顺利入驻可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响。 晶瑞股份在接受经济观察网咨询有关光刻胶......
经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产; 12 月 4 日消息，据 ETNews 消息，电子首次引入东进世美肯半导体的进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系......
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA 仅有两台，如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址：当地时间6月3日......
光电表示公司已安装完成一条193nm光刻胶生产线，用于产品检测的光刻机也已完成安装，产线和光刻机均处于调试阶段。 封面图片来源：拍信网......
验证工作还在进展中，KrF光刻胶已有订单客户超3家。 ArF光刻胶主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。如南大光电11月消......
20吨为集成电路企业所需的原材料光刻胶，21吨为相关配套设备。这批光刻胶和设备到港后将运往上海多家集成电路企业。 当前，物流和产业链两大关键问题好转，困扰......
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻胶......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。 3月12日，上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示，近日，公司......
上海新阳、容大感光等企业光刻胶最新动态披露;光刻胶是半导体制作的关键材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。其能够利用光化学反应，经过曝光、显影等光刻工艺，将所......
EUV扫描仪专用解决方案，涉及光源、光学元件、镜头变形、拼接、降低景深、边缘位置误差和叠加精度。与此同时，IMEC与其扩展的供应商网络紧密合作，准备了图案化生态系统，包括开发先进的光刻胶和......
第一品牌。 官网资料显示，徐州博康信息化学品有限公司成立于2010年，属博康集团旗下材料版块企业，是集研发、生产、经营中高端光刻胶、光刻胶单体和光刻胶树脂为主的国家高新技术企业，是中国目前唯一规模化生产中高端光刻胶......
过部分重要客户测试，KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中，计划2022年形成批量供货。 自2020年启动集成电路制造用高端光刻胶研发项目以来，晶瑞电材不断完善半导体设备。在原有3台光刻机的基础上，晶瑞电材于2020......
主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。 如晶瑞电材ArF高端光刻胶研发工作已启动，为适应行业现状带来的发展机遇，已在......
因产品而异，约为10%-20%。 光刻胶是半导体制作的关键材料，能够利用光化学反应，经过曝光、 显影等光刻工艺， 将所需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。半导体光刻胶品种众多，包括EUV光刻胶、ArF......
元。 除了半导体设备，中国大陆对半导体材料的需求量也在明显增加。 以光刻胶为例，这种精密材料约占晶圆材料制造成本的 13%，按照配套使用的光刻机类型，半导体光刻胶可划分为 g/I 线胶、KrF 胶、ArF......
已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻胶......
光刻胶则使用波长为13.5nm的紫外光，主要用于7nm或更小逻辑制程节点的关键制造工序中，其用到的设备EUV光刻机，目前只有荷兰ASML能制造。目前EUV光刻胶仍处于应用早期，未来有望成长为光刻胶......
基板等应用领域。该设备配备先进的设备前端模块（EFEM），能够支持12英寸晶圆的全自动作业流程，显著提高了生产效率和工艺一致性。MLF系列产品结构紧凑，景深大、速度快，对干膜和光刻胶......
于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州......
公布的“2018年全球半导体材料市场构成”数据可知，硅片约占了整个半导体材料的38%，其次是电子特气和光掩膜版分别各占13%，再次是光刻胶及配套材料约占12%，CMP抛光材料占了7%，湿电子化学品占了5......
”)自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，就安排购买了ASML-1400光刻机等核心设 备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的 回复》中披......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
，可执行晶圆级封装光刻工艺的关键步骤，如光刻胶和Polyimide涂布、软烤；可利用创新性方法和精准的涂胶控制，实现精确的阻挡边缘清除效果。 涂胶......
下降1.36%。 八亿时空表示，为提升公司的整体发展水平，也为公司未来各项业务的发展奠定基础，目前白衣时刻密集开展了四个项目的建设，分别为：北京年产100吨显示用液晶材料二期工程、上海光刻胶和......
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用;近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻胶......
购买ASML光刻机，晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目;8月11日，晶瑞电子材料股份有限公司（以下简称“晶瑞电材”）发布公告称，公司......
认购交割后江苏先科充分稀释基础上70.7868%股权，对应新增注册资本7.27亿元，超出部分10.18亿元计入江苏先科资本公积。 图片来源：雅克科技公告截图 根据公告，本次交易的增资款主要用于江苏先科的光刻胶和......
干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化，力争于2023年前实现上述产品的产业化，填补国内空白。2021年6月，上海新阳宣布，该公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶......
层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻......
，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻胶......
厂生产六种用于芯片制造的材料，如光刻胶和化学机械抛光浆料。它还将在美国扩大其它半导体材料的产能。此外，该公司还计划将6.37亿美元资金中的一部分用于研发。 封面图片来源：拍信网......
在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。 光刻设备是用于微细结构加工的核心设备，在微电子、生物、医学和光学等领域得到全面应用。由于光刻工艺的限制，原有光刻设备大多是针对光刻胶曝光进行技术研发。而针......
京科华微电子材料有限公司为中美合资企业，成立于2004年。据官网介绍，其产品覆盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂，具有高端光刻胶产品研发、生产能力。 其高档光刻胶生产基地包括百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶......
成为JSR的全资子公司。需要指出的是，这家公司拥有下一代无机光刻胶技术，这是决定半导体"尺寸"的关键材料。早前，看重Inpria不仅仅是JSR，还包括东京应化、三星、英特尔和应用材料公司的基金部门等，尽管......

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