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月有报道称,第一台俄罗斯国产130nm光刻机原型可能在2026年之前问世。 再下一步,将是开发90nm光刻机。他说:"我们将继续逐步向90nm及以下迈进。因此,俄罗斯不会止步于此,同时......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向;众所周知,当前全球只有一家能够生产,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有能够生产,不会有第二家。本文引用地址:原因在于把的路堵住了,这条......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源,这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中,光刻机是必不可少的精密设备,是集......
使制程技术推进到5nm。 佳能表示,这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 的光刻机不同,其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上,而是更类似于印刷技术,直接......
安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。 〈关于半导体光刻机解说的网站〉 我们发布了“佳能光刻机网站”,通过图片和视频等易于理解的方式说明“光刻机”的原理和性能。此外,我们......
发布了“光刻机网站”,通过图片和视频等易于理解的方式说明“光刻机”的原理和性能。此外,我们还面向青少年专门开设了一个页面,帮助他们理解曝光的原理。   〈半导体光刻机的市场动向〉 近年来,随着......
一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)和存储器芯片制造商铠侠(Kioxia)合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机,就能使制程技术推进到5nm。 佳能表示,这套生产设备的工作原理......
370亿项目搬入光刻机;3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(以下简称“增芯项目”)迎来工厂最核心设备--光刻机搬入,标志......
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日,华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件,并已在相关企业实现成果转化和产业化,填补了国内空白。 光刻成像原理......
,CNews称,莫斯科电子技术学院 (MIET)承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目,该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币)。 研发光刻机计划达到EUV级别,但技术原理......
专家组都说了:‘该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
润式系统TWINSCAN XT:1900,使ASML超越当时的龙头尼康和,成为的全球霸主;2010年,交付了全球第一台光刻机,凭借其极高的技术壁垒,ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机......
细,显然量子芯片才是未来的方向。 其次,量子芯片的生产原理和硅基芯片不同,完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机,就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖,而靠我们一己之力去攻克光刻机......
佳能光刻机现在是什么水平?探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个,汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看,涉足的层级和业务都有区别。 像佳......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机,EDA,我们都研发成功了;众所周知,目前的硅基芯片已经快要发展到极限了,台积电、三星目前已经实现了3nm的量产,而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道,佳能表示,首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备,不过这将用于试运行。 报道称,这些新设备的工作原理......
霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!;作者:电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示,美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压,阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效,我们一直走在制程微缩的道路上,但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽,越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此,光刻机......
技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称“《目录》”)。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm......
另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1,今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显,消费电子市场芯片亟待"去库存",然而车用芯片等市场仍旧供不应求,上游半导体设备供应紧俏引发关注,其中光刻机......
ASML下代EUV光刻机年底问世:1nm工艺; 据报道,在工艺进入7nm节点之后,EUV光刻机是少不了的关键设备,目前只有能制造,单台售价10亿人民币,今年底还会迎来下一代EUV光刻机,价格......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温,EUV光刻机成为市场“香饽饽”,引发业界关注。 目前,英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备,并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口!国家迅速回应,外媒:荷兰将光刻机事情闹大了;近年来,行业发展迅猛,成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业,其对华出口的态度一直备受关注。然而,最近......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内,对EUV的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年......
国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所,调研EUV光源等技术,高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机(EUV)目前是先进半导体制程中,不论是DRAM或晶圆代工生产过程中,进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
,13.5nm)光刻,电子束光刻等六个阶段,随着光刻技术发展,各曝光波长的光刻胶组分(成膜树脂、感光剂和添加剂等)也随之变化。 光刻技术及光刻材料的发展 根据反应机理和显影原理,可以将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻......
上海新阳:ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日,上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示,公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入!中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展,美方不仅施压荷兰光刻机制造商,还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机,以及......
上海新阳半导体:公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间,上海新阳半导体发布公告,称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道,随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机,对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加,他们......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息,针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品,炬光科技回应称公司是ASML公司......
售价3.8亿美元!ASML正式宣布,外媒:光刻机市场“变天”了!; 芯片规则实施之后,台积电与中企的合作被中断,而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML,自然也成为了美国的主要针对对象,在签......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日,苏州晶瑞化学股份有限公司(以下简称“晶瑞股份”)发布公告称,经多方协商、积极运作,公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台,并于......
晶圆代工厂“头疼”?阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日,据朝鲜日报报道,阿斯麦(ASML)将针对1纳米以下制程,计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
3倍,光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺,英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日,据路透社消息,全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其......
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯,也在准备为下一代的极紫外光刻机,也就是高数值孔径的极紫外光刻机(high-NA EUV)研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示,东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
布林克(Martin van den Brink)近日称,这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术......
25亿一台!英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装:展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美......
尼康计划推出支持3D半导体的光刻机,目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道,尼康计划在2025财年(截至2026年3月)将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年(截至2022......
ASML新一代EUV光刻机,一台售价近27亿元;据路透社报道,半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元(约合人民币26.75亿元)的新旗舰光刻机,有望2023年上半年完成原型机,最早2025......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机:成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难,光刻机龙头ASML也是举步维艰,一点点改进。ASML宣布,将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机;ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心;最新消息显示,尽管全球经济将放缓,但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备(),用于......
EUV光刻机缺货问题要持续3年,瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模(photomask)短缺问题——据说也是近期才发现的,尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
29亿元!Intel晒史上最贵开箱:全球首台高NA光刻机已装机;近日,Intel发布了一条特殊的开箱视频,堪称史上最贵:他们从ASML拿到的全球第一台高NA EUV光刻机,已经......

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;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
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