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另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
公司的态度再次发生变化,引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
10亿一台仍供不应求!目前,全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机,台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂,这些技术掌握在由42个国......
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001:比光刻机精度更高,可提高生产效率;IT之家 2 月 21 日消息,在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域,制造工艺日趋复杂,半导体元器件制造厂商为了制造出高精度......
下降)。 欧洲(3.5%)和美洲(0.3%)的销售额同比增长,但日本(-2.9%)、亚太/所有其他地区(-11.3%)和中国(-12.6%)的销售额下降。 据中国海关总署数据,2022年我国光刻机......
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性,ASML 认为在可预见的未来,其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子(SMEE)或华为的竞争。 根据数据显示,ASML先进的标准型EUV光刻机......
芯片等工艺水平并不高,这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片,也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片,不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
的市场需求仍将超出公司的产能,目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来,公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机市场表现,其指出2023年第一季度,中国......
的市场需求仍将超出公司的产能,目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来,公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机......
国际和其他委外封测代工厂则是在10%左右。 虽然中国半导体产业已经取得了重大进步,但目前仍依赖于荷兰ASML和日本尼康和佳能的光刻机。有报道称,目前中国光刻......
最新,国产光刻胶通过验证!; 据“中国光谷”消息,光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现......
工程院院士吴汉明:本土可控的55nm芯片制造,比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息,日前,在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上,中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
前荷兰官员的态度来看,荷兰不会跟随美国的脚步,在对中国光刻机的出口方面,荷兰有自己的评估。 国内此前多数业内人士认为,阿斯麦基于自身的利益诉求,也不可能屈从于美国的压力而放弃中国市场的巨额利润。现在......
胶(QD-PR),其蓝光转换效率达到44.6%(绿色)和45.0%(红色),光刻精度达到1um,各项性能指标为行业领先水平。 中国光谷消息介绍称,2023年胶体量子点获得诺贝尔奖,因具......
头争霸的格局。值得注意的是2016年Q1的ASML销售额中,有35%销往中国,除了三星在西安的超大型3D 10纳米级NAND芯片厂扩产外 和intel在大连的芯片厂升级外,中国本土厂商也买到了ASML的光刻机......
发和量产上都需要企业的长期技术积累。此外在产品送样前,光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试,根据验证结果调整配方。 根据曝光波长的不同,光刻胶可以分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别,其中g线、i线一......
国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所,调研EUV光源等技术,高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
巨头ASML也不例外,因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子,自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大,独家垄断了EUV光刻机,占据......
莫大康的介绍,目前的EUV光刻机精度仍不足以满足2nm的需求。光刻技术的精度直接决定工艺的精度,对于2nm的先进工艺,高数值孔径的EUV技术还亟待开发,光源、掩模工具的优化以及EUV的良率和精度......
是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤,其成本占总生产成本30%以上,占据将近50%的生产周期。卡中国脖子的设备有很多,光刻机是国产化率成长最慢的一个。虽然如此,无论资本市场,还是自媒体,现在......
设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机......
年出货量较目前的三年平均水平提高一倍以上。据悉,目前尼康平均每年售出16台ArF光刻机(含二手翻新)。 客户方面,尼康将积极开拓新客户,尤其是日本本土与中国地区客户。 除此之外,为提升光刻机......
功率远比EUV光刻机低,一台EUV光刻机一年要用1000万度电,但这种NIL技术能耗减少90%,且制造成本比EUV光刻机低40%。 缺点是目前精度不够,远远达不到7nm、5nm的级别,大约还处于28......
需要比以往更先进的扫描仪校正和补偿功能。 据介绍,NSR-S636E是一款用于关键层的浸润式光刻机。尼康声称,它较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形,并实现了高重叠精度(MMO ≤ 2.1 nm)。NSR......
微电子装备集团 上海微电子装备集团消息显示,此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点,可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用,满足......
,作为全球领先的制造商,不用过多介绍。此次发布的Twinscan NXE:3800E光刻机,是ASML在EUV光刻技术领域的又一重要成果。这款新型光刻机采用了先进的Low-NA EUV技术,显著提升了芯片制造的精度......
像是车载市场的需求”,“OLED特性带来新产品形态,我们认为是很值得被期待的。而且我们从合作伙伴和客户的布局来看,他们的生产稼动率也呈现出成长态势。” 5.对中国未来的市场怎么看? “我在中国负责光刻机业务已经17、18年了......
胶市场体量虽小,却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看,光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小,产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高,为了......
中国光刻设备将打破国外垄断?; 版权声明:本文来源 《 中安在线》 《 中国电子报》,如果您认为不合适,请告知我们,谢谢! 中国芯片制造业高端装备一直以来依赖国外进口,尤其是高端光刻......
着芯片制造技术的提升,一些半导体设备,制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识,只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的,一方......
也需要为客户培训更多的维护及维修技术人员。 外媒最新的报道就显示,阿斯麦在韩国的极紫外光刻机培训中心,已经开通。 新开通的极紫外光刻机培训中心,在首尔以南约42公里的龙仁市,占地1445平方米,设有洁净室、办公空间等,旨在培训维护和修理高精度和复杂极紫外光刻机......
是目前EUV光刻机光学镜头全球唯一供应商,也是ASML“珠联璧合”的合作伙伴。此次蔡司在中国购地自建项目,将对中国光学镜头的发展产生推动作用。蔡司中国首席运营官谢磊介绍,此次蔡司在中国的工程项目,除了能够推进高端显微镜在中国......
瑞利判据公式,更高的数值孔径意味着更好的光刻分辨率。 范登布林克表示,未来的 Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程,规避通过 High NA 光刻机双重图案化实现同等精度......
自我优势强化,更提供学习机会提升员工的产业专业知识。 ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。全球......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机精度小于2.1纳米; 12月10日消息,宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”,生产效率、套刻精度......
霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!;作者:电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示,美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压,阻止......
最近的那一个。 光刻技术不完全盘点及优劣势对比,制表丨果壳硬科技参考资料丨《应用化学》[7]《纳米压印技术》[13],中国光学 [12] 纳米压印光刻不仅可以制造分辨率 5nm 以下的高分辨率图形,还拥......
全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...; 近日,ASML发布最新三季度财报后,股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间,尼康和佳能陆续发布的光刻机......
光刻技术在性能(每小时处理的晶圆数量)和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度,相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%,将来......
。 此外,该新型光刻机通过在原基础上改进透镜和镜台等光学零部件,来提高曝光精度;通过提高分辨率来增加布线密度,还支持1微米的线宽。 封面图片来源:拍信网......
”到晶圆上,是芯片制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤,其成本占总生产成本的30%以上。以ASML顶级的EUV光刻机为例,它需要功率极高又稳定的光源,这就对成像反射镜头的制作工艺和机械精度......
康指出,高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂,但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展,只能采取从低到高的策略,比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机,以及周边设备材料等,EUV......
的出货价格也会提升到1.45亿美元左右。 为了提升生产效率,ASML准备推出的第2代EUV光刻机型号将会是NXE:5000系列,其物镜的NA值将提升到0.55,进一步提高曝光的精度。然而,NA值0.55的第2代EUV......
赖将更甚。 另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻机TWINSCAN NXE:3600D,生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm,单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元......
首台ASML光刻机搬入!中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展,美方不仅施压荷兰光刻机制造商,还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机,以及......
。其中,封装光刻机对于光刻精度和控制精度的要求都比制造用光刻机要低。世界上只有少数厂家掌握尖端技术。 公开资料显示,英唐智控成立于2001年,是国......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了,新闻的热度与这天气一样,慢慢转凉。笔者......
显示等泛半导体领域以及 PCB 领域,凭借在光刻精度、对位精度、良品率、环保性、生产周期、生产成本、柔性化生产、自动化水平等方面的比较优势,在中、高端 PCB 制造领域内具有较为成熟的市场应用。此外,随着直写光刻......
仍需要大量的核心技术理论验证,该技术被率先应用在DUV光刻领域要更高,可以以此推动国产DUV光刻机在芯片制程精度上的迭代。 众所周知,在光刻机领域里,ASML公司是一家独大的,依靠......
就布置下了知识产权壁垒。在此情况下,国内企业需要拥有自己的专利库,并掌握核心技术。 吴汉明表示,集成电路产业链的环节繁多,目前,国内产业发展的短板在装备方面。比如,我国在光刻机......

相关企业

安川伺服电机及驱动、日本安川注塑机电脑控制、冷水机、自动化元器件,自动化电动直线滑台、十字双轨滑台、电磁阀、气动元件、尼康光刻机精密开关电源及风扇、花岗石平台、隔振光学平台、美国进口高压阀、东方
;东莞凤岗德新机械销售部;;专业:收购日本力丰、台湾大同、宇青、建德等手动、自动磨床的机身材料,通过高技术专业人员生产线式研刮,装配。使磨床恢复新机精度达到0.002mm。手动有614、618
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机,金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属印字机,金属打字机,高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
担激光机的维修和承接激光加工业务。本公司生产激光刻字机已有多年的历史,中国第一台激光刻字机是由本公司的总经理和总工程师在20世纪80年代初率先开发成功的。目前已形成灯泵浦的YAG激光刻字机、二极管泵浦的YAG激光刻字机、脉冲
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如:布料花边冲孔,布料激光裁剪,有机玻璃、压克力制品加工,导光板切割,皮革打孔。激光刻字,金属件刻字,塑胶件激光打标,激光焊接加工。
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品,章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎