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光掩模基板生产线,该半导体级先进制程光掩模基板生产线的落地,将使光掩模板产业链中关键产品实现国产化,打破国外垄断。 据了解,去年8月,上海传芯半导体有限公司与临港新片区管委会、临港......
都是心知肚明的。因此他们都已经开始尝试向产业中游进行拓局。 菲利华在合肥投资建立子公司光微光电,涉足TFT-LCD及半导体光掩模板精加工项目,但暂未涉及涂胶和镀铬领域;清溢......
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作,通过结合各自优势,提供纳米压印光刻技术开发工具包,并实现大批量生产全球首屈一指的光掩模......
圆厂每天可生产3-5倍的光掩模(芯片设计的模板),耗电量比当前配置少9倍。一个光掩模过去需要两周时间,现在一夜之间就能加工完成。从长远来看,cuLitho将实现更好的设计规则、更高的密度、更高......
国产厂商引入首台光刻机设备!;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息,近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
韩媒:光掩模严重短缺,明年或涨价25%; 【导读】11月8日,据韩媒Korea IT News报道,韩国国内半导体制造所必需的光掩模供应出现短缺,明年价格或将上涨高达25%并延......
华润微子公司光掩模企业,迪思微电子获6.2亿元融资;近日,无锡迪思微电子有限公司完成6.2亿元股权融资,由兴橙资本、宝鼎投资领投,国调基金等多家机构共同参与本次投资。 据悉,迪思微电子本轮融资资金将全部用于高阶光掩模......
的生产能力。 第二期的产能拓展计划总产能可达到相当于每月8英寸8-9万片, 12英寸4-5万片,掩模板4500片产能为市场提供高品质的芯片,实现芯片国产化,打造有中国特色的IDM。 封面图片来源:拍信网......
厂房32279平方米,将建设40纳米先进光掩模产线,助力企业进一步提高掩模制程能力,达产后年营收预计可达5亿元。项目落成后,无锡迪思微电子将成为国内最大的开放式掩模工厂之一。 资料显示,无锡......
总投资5亿元,微纳光学器件及半导体光掩模生产项目签约;据海门开发区微平台消息,4月21日,半影光学(南京)有限公司与江苏南通海门开发区签订投资协议,规划建设微纳光学器件及半导体光掩模生产项目,总投......
国内厂商奋起直追!EUV光罩市场将迎来新变局; 【导读】光罩,也称为光掩模版,在IC制造过程中,其作用是将设计好的电路进行显影,将图形投影在晶圆上,利用光刻技术进行蚀刻。光罩......
,无锡迪思是华润微电子旗下子公司,是国内最早从事光掩模制造的专业企业之一。自2021年以来,无锡迪思顺利实施两轮融资,在无锡高新区投资约20亿元,建设高端掩模项目。该于2022年11月开工,历经18个月......
Extreme ULE玻璃等关键材料的生产。这些特种玻璃对于高端芯片制造至关重要,因为它们是生产光掩模的核心原料,而光掩模在芯片制造中扮演着至关重要的角色。通过提高这些材料的生产量,康宁......
投资约13亿元,华润微电子迪思高端掩模项目奠基;据无锡高新区在线消息,11月22日,华润微电子迪思高端掩模项目奠基仪式在无锡高新区举行。此次奠基的迪思高端掩模项目,投资约13亿元,将建设40纳米先进光掩模......
法大幅改进了半导体制造工艺。 半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展 计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载,每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模......
光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载,每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模是芯片生产中的关键步骤,一个典型的光掩模组可能需要耗费 3000 万小时或以上的 CPU 计算时间,因此......
法大幅改进了半导体制造工艺。半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载,每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模是芯片生产中的关键步骤,一个典型的光掩模......
超20亿!豪雅光掩模版项目签约落户重庆;据重庆两江新区消息显示,1月11日下午,2023两江新区全球招商大会在两江新区礼嘉智慧馆举行。此次签约项目中,制造业项目20个,金额超249亿元,在智......
)尺寸增大两倍以上,实现 120x120mm 的超大封装,功耗可以达到千瓦级别。本文引用地址: 根据台积电官方描述, 封装技术继任者所创建的硅中介层,其尺寸是光掩模(Photomask,也称......
技术的下个版本,可以让系统级封装(SiP)尺寸增大两倍以上,实现 120x120mm 的超大封装,功耗可以达到千瓦级别。 根据台积电官方描述,CoWoS 封装技术继任者所创建的硅中介层,其尺寸是光掩模......
120x120mm 的超大封装,功耗可以达到千瓦级别。 根据台积电官方描述,CoWoS 封装技术继任者所创建的硅中介层,其尺寸是光掩模(Photomask,也称 Reticle,大约为 858......
/月。全部达产后将实现年销售额10亿元,目标成为国内首个高端集成电路掩摸领域上市公司。 资料显示,无锡迪思微电子有限公司是华润微电子旗下子公司,是国内最早从事光掩模制造的专业企业,拥有国内领先的光掩模......
同时,我们正在与更广泛的图案化设备和材料供应商生态系统合作,以便能够访问 High NA 实验室并准备 EUV 抗蚀剂材料、底层、干法蚀刻、光掩模、分辨率增强技术 (RET) 和计量技术。” 在imec......
和12英寸集成电路生产线,光掩膜版生产线,芯片测试厂。2021年8月,青岛芯恩正式宣布8英寸厂投片成功,光罩厂也于同期完成了产品交付。 02 光罩市场集中度高 光罩也称为光掩模版,主要......
网、新能源、智能终端等领域的应用。 无锡华润迪思高端掩模项目 华润微电子有限公司是国内最早从事半导体光掩模制造的专业企业,拥有国内领先的光掩模制造设备及工艺技术。企业......
项目是临港新片区的重点项目。2021年3月31日,上海传芯半导体掩模基版研发及产业化项目启动仪式举行。启动仪式上,传芯半导体董事长黄昶程表示,未来,传芯......
收购价格将根据最终协议进行调整后确定,即三井化学将根据与旭化成商定的74亿日元(约人民币3.83亿元)薄膜业务价格为基础进行调整。 此次转让包括旭化成在日本、韩国、北美和中国制造、开发和销售光掩模薄膜业务,以及受委托制造光掩模......
由华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授于1995年首次提出纳米压印概念。直到2003年,NIL作为一项微纳加工技术,被纳入国际半导体技术蓝图(ITRS)。该技术将设计并制作在模板......
的计算集群,这样可以加快生产时间,同时降低成本、空间和功耗。 据了解,在 cuLitho 加快流程速度的基础上,这一全新生成式AI工作流程将速度又提升了2倍。以这种方式应用生成式AI可以创建出近乎完美的反向光掩模......
光刻每年消耗数百亿CPU工作,这项投入占了芯片制造总投入的相当大的比重。 按照NVIDIA给出的数据,使用cuLitho的晶圆厂每天的光掩模产量可增加3~5倍,而耗电量可以比当前配置降低9倍。原本需要两周时间才能完成的光掩模现在可以在一夜之间完成。 ......
直在供应满足半导体市场需求的掩膜。在此次最新的进展中,为了满足进一步微型化的需求,我们开发出了能够支持3纳米工艺的EUV光刻用光掩模。[摘要]DNP于2016年推出的MBMW能够发射约26万束电子束,即使图案形状复杂,也能......
推出cuLitho软件加速库,可以将计算光刻的用时提速40倍。 所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术,掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件,上面有芯片加工所需的图案,按照......
元。 光罩又称光掩模版、掩膜版,由石英玻璃作为衬底,在上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已......
降低了功耗。 新EUV光刻技术的核心投影仪能将光掩模图像转移到硅片上,它由两个反射镜组成,就像天文望远镜一样。团队称,这种配置简单得令人难以想象,因为传统投影仪至少需要6个反射镜。但这......
展半导体集成电路及分立器件用电子化学品领域,珠海将重点发展8英寸、12英寸硅片,碳化硅、氮化镓、磷化铟等新一代化合物半导体衬底材料及外延片;前瞻布局氧化镓、锑化镓、锑化铟等第四代半导体材料;匀胶铬版光掩模......
当天开始接受订单。本文引用地址: 纳米压印半导体制造设备「FPA-1200NZ2C」 传统的投影曝光设备(例如 ArF 和 EUV)通过用穿过图案掩模的光照射晶圆上的抗蚀剂来形成电路图案,但使用 NIL 时,电路被印刷在掩模......
能量通过10面反射镜最终到达晶圆,这意味着需要非常高的EUV光输出。相比之下,将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面,就能有超过10%的能量可以穿透到晶圆,显著降低了功耗。新EUV光刻技术的核心投影仪能将光掩模......
2024年10月30日电子元器件概念股消息:共有37只个股实现连涨; 根据南方财富网概念查询工具数据统计,截止2024年10月30日收盘,电子元器件概念股共有37只个股实现连涨。其中......
存储在电子计算机存储器里的电路设计程序,为芯片的各层制造一组“光掩模”,这种掩模是正方形的玻璃。用照相处理的办法或电子流平板印刷技术将每一层的电路图形印在每一块玻璃掩模式上,因而玻璃仅有部分透光。 当上......
开盘跌幅8.73%,深成指下跌9.13%,创业板指下跌8.23%。逾3000个股开盘跌停。 相关板块方面,电子和半导体产业链的概念股受到冲击,半导体及元件板块指数超跌10%,相关个股开盘全部跌停;另外......
等,使得代码更加安全。 • C++引入了模板概念,实现了将类型参数化的泛型编程,提升了代码复用性;同时,基于模板类或模板函数的STL(标准模板库)使得开发更便捷。 • C++中还提供了很多开源库,比如......
义是理想形状上特征边缘的偏差。 在行业攻坚抗蚀剂的同时,光掩模制造商也正在开发 EUV 掩模。今天的光掩模由一个在玻璃基底上的不透明铬层组成。而 EUV 掩模则是一种反射技术,由基底上交替的硅层和钼层组成。 “我们......
gases)和光掩模(photomask)等领域在晶圆制造材料市场中成长表现最为稳健。另外,有机基板(organic substrate)领域则大幅带动了封装材料市场的成长。 分地区来看,中国......
质量与研究、医疗技术和消费市场四大领域。蔡司SMT提供半导体制造光学器件(尤其是光刻光学器件)、光掩模系统和过程控制解决方案,总部位于德国奥伯科亨,其他分支机构遍布德国、瑞士、以色列和美国。 此次......
量产所做的前期工作。 流片是半导体设计的最后一步,这意味着将设计图纸交付给半导体代工厂。因为还制作了光掩模,所以它们也被称为掩模流片(MTO......
供尖端半导体解决方案,这也是继2023年蔡司光掩模解决方案部门在中国台湾设立亚洲物流中心以及培训中心后,再次展现对于半导体产业的高度重视,以及深耕中国台湾市场的决心。 据悉,蔡司是目前唯一能够提供电子显微镜、光学......
版上绘制的电路图案进行缩小,并将其曝光在晶圆上。半导体曝光设备有三个相关单元:掩模工作台、由多个镜片组成的投影光学系统和晶圆载物台。 将带有电子电路图的掩模板(母版)放置在掩模工作台上、半导......
22日,华润微电子迪思高端掩模项目奠基仪式在无锡高新区举行。据介绍,无锡迪思微电子有限公司是华润微电子旗下的重点企业,长期聚焦光掩模制造领域。 据悉,掩膜......
美元。 图片来源:中芯国际年报 分业务来看,来自晶圆代工业务的营收为34.7亿美元,占总营收比重为88.9%;来自光掩模制造、测试及其他配套技术服务的营收总和为4.3亿美元,占总......
三星电子开发出透光率达 88% 的 EUV 薄膜;光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开的一层薄膜,然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模......

相关企业

;深圳市美精微光电股份有限公司;;欢迎垂询美精微光电:13902904268 深圳市美精微光电股份有限公司成立于1993年,是中国大陆专业提供各类高精度菲林光绘,铬版光刻(即光掩模/光罩)以及
主要致力于光电一体化设备制造和销售,产品有系列激光内雕机、系列激光打标机、激光玻璃雕刻机、激光掩模机以及系列气动标记机等。广泛应用于航天、汽车、机械、冶金、石油、电子、烟草、玻璃、工艺礼品等行业,深受用户欢迎,享有
电用品销售的高新技术企业。公司凭着业内良好的信用、优良的服务与多家企业建立了长期的合作关系。 公司主要经营LCD-TFT工厂使用光掩模制品(photomask)、10级净化产品、剥离胶带等产品 本公
;长沙韶光铬版有限公司;;光掩膜版
了深圳市政府颁发的高新技术项目认证,使公司的生产经营上了新的台阶,促进了中国掩模版行业的发展和生产格局的完善。 目前,公司产品已广泛应用于以下行业: 1、PCB、LCD掩模版、干版掩模版、包括BGA、HDI等; 2、TFT、彩色
了高端客户的要求,通过了深圳市政府颁发的高新技术项目认证,使公司的生产经营上了新的台阶,促进了中国掩模版行业的发展和生产格局的完善。 目前,公司产品已广泛应用于以下行业: 1、PCB、LCD掩模版、干版掩模
;长沙和恒光电科技有限公司;;长沙和恒光电科技有限公司位于湖南省长沙市芙蓉区隆平高科技园,交通便利,环境优美,是一家专业从事光罩/掩模板、视距盘、光栅及各类分化版的研发及生产的高科技企业。 公司
;临沂广昊模板厂;;临沂广昊模板制造公司,专业生产各种铁路、公路桥梁模板、各种异型模板、水利模板、隧道模板、水坝模板、节段拼装、预制拼装、桥梁模板支架、销售租赁建筑钢模板、圆柱模板、可调方柱模板
;双峰县中南压板厂;;中南压板厂是生产建筑模板、竹胶板、木模板、桥梁模板的专业厂家,主要产品有高强竹胶模板、松木模板、桥梁清水板、玻璃钢面竹胶板竹砖托板。工厂位于湘中重点林区双峰县,这里
;宁波市鄞州仁鑫电子模板厂;;宁波市鄞州仁鑫电子模板厂是SMT钢网、模板、检验罩板、红胶、锡膏、治具、蚀刻零件等产品专业生产加工的私营独资企业,公司总部设在长三角,宁波市鄞州仁鑫电子模板