据重庆两江新区消息显示,1月11日下午,2023两江新区全球招商大会在两江新区礼嘉智慧馆举行。此次签约项目中,制造业项目20个,金额超249亿元,在智能网联新能源汽车、新一代电子信息技术等领域均有项目落地。
其中,豪雅光掩模版项目签约落户重庆两江新区。据悉,该项目总投资超20亿元,将建设平板显示器用光掩模版生产线,达产后预计年产能约2250张光罩产品,助推两江新区电子信息产业发展。
电子信息产业是两江新区的一大支柱产业,为提升电子信息产业发展能级,两江新区于去年发布《重庆两江新区促进电子信息产业高质量发展专项政策》,提出加快建设产业功能区、大力实施“链长制”,聚焦新型显示、集成电路、汽车电子、智能终端等重点领域,以真金白银助力电子信息产业发展。
封面图片来源:拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的,且明确注明来源,不希望被转载的媒体或个人可与我们联系,我们将立即进行删除处理。
相关文章
晶合集成光刻掩模版下线(2024-07-23)
晶合集成光刻掩模版下线;7月22日,由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相。晶合集成表示,这标志着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后,可提供资料、光刻掩模版、晶圆......
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺(2024-03-29 09:05)
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺;Dai Nippon Printing Co., Ltd.(简称DNP,东京证券交易所:7912)开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模......
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺(2024-03-28)
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺;Dai Nippon Printing Co., Ltd.(简称DNP,东京证券交易所:7912)开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模......
安徽首片光刻掩模版亮相,国内多个相关项目新进展(2024-07-23)
安徽首片光刻掩模版亮相,国内多个相关项目新进展;7月22日,安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相。据悉,该掩膜版由晶合集成生产,意味着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后,可提供资料、光刻掩模......
东方晶源发布首款计算光刻云平台 已在华为云、腾讯云等完成测试(2022-07-18)
程协同优化系统。
据官方介绍,AeroHPO系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化(ILT)”技术,同时依托于公有云平台,可为客户提供28nm及以下技术节点的制程建模、基于ILT......
光谷传来好消息,宇微光学成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-29)
软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。
宇微光学成立于2020年10月,致力于光刻掩模优化设计技术与软件(OPC软件)的自主开发,旨在......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则,我国计算光刻技术是否能“打”?(2023-04-06)
来自东方晶源官网)
东方晶源自2014年成立之初即预见性地提出GPU加速的全芯片反向光刻掩模优化技术,从根本上异于其他公司的技术路线。历经九年自主研发,已经形成PanGen 计算光刻......
沙子做的芯片凭啥卖那么贵?(2016-11-25)
项技术工艺来说,光刻工艺环节是最为复杂的,成本最为高昂的。因为光刻模板、透镜、光源共同决定了“印”在光刻胶上晶体管的尺寸大小。
将涂好光刻胶的晶圆放入步进重复曝光机的曝光装置中进行掩模图形的“复制”。掩模......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
时代
目前,这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法,已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板制造的高成本,同时......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
屏展现了其在半导体领域精密制造中的巨大潜力。
开启半导体无掩膜光刻时代
目前,这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法,已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板......