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晶合集成光刻掩模版下线;7月22日，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相。晶合集成表示，这标志着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后，可提供资料、光刻掩模版、晶圆......
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺;Dai Nippon Printing Co., Ltd.（简称DNP，东京证券交易所：7912）开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模......
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺;Dai Nippon Printing Co., Ltd.（简称DNP，东京证券交易所：7912）开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模......
安徽首片光刻掩模版亮相，国内多个相关项目新进展;7月22日，安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相。据悉，该掩膜版由晶合集成生产，意味着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后，可提供资料、光刻掩模......
程协同优化系统。 据官方介绍，AeroHPO系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化（ILT）”技术，同时依托于公有云平台，可为客户提供28nm及以下技术节点的制程建模、基于ILT......
软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。 宇微光学成立于2020年10月，致力于光刻掩模优化设计技术与软件(OPC软件)的自主开发，旨在......
来自东方晶源官网) 东方晶源自2014年成立之初即预见性地提出GPU加速的全芯片反向光刻掩模优化技术,从根本上异于其他公司的技术路线。历经九年自主研发,已经形成PanGen 计算光刻......
项技术工艺来说，光刻工艺环节是最为复杂的，成本最为高昂的。因为光刻模板、透镜、光源共同决定了“印”在光刻胶上晶体管的尺寸大小。 将涂好光刻胶的晶圆放入步进重复曝光机的曝光装置中进行掩模图形的“复制”。掩模......
时代 目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板制造的高成本，同时......
屏展现了其在半导体领域精密制造中的巨大潜力。 开启半导体无掩膜光刻时代 目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板......
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask......
资料显示，掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是半导体产业链的关键环节，是连接芯片设计和制造的纽带。目前中高端半导体掩模国产化率偏低，行业人士表示，迪思高端掩模......
圆厂每天可生产3-5倍的光掩模（芯片设计的模板），耗电量比当前配置少9倍。一个光掩模过去需要两周时间，现在一夜之间就能加工完成。从长远来看，cuLitho将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和人工智能光刻......
光学曝光复杂的系统或电子束曝光复杂的电磁聚焦系统）、较高的产能（可大面积制造）、较低的成本（国际权威机构评估同制作水平的纳米压印比传统光学投影光刻至少低一个数量级）、较低的功耗、压印模板可重复使用等优势。 发展至今，相对......
印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图案，经过脱模就能够得到一颗芯片。 虽然纳米压印光刻不需要掩模，但它需要一种比掩模还难造的"模板"，就是我们上面比喻中的橡皮泥。想象一下，平时在家做蛋糕时，脱模......
上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。 佳能介绍称，传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，新产品则通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点。由于......
体基板放置在晶圆载物台上，从上方用UV光（紫外线）照射，穿过掩模板的紫外线会透过投影光学系统，在半导体基板上形成掩模板上的电子电路图的图像。被叫做晶圆的半导体基板上涂有光刻胶（光刻......
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实现大批量生产全球首屈一指的光掩模......
业可能需要在未来十年内投资 10 亿至 20 亿美元购买新设备。一些设备供应商正在为成熟节点构建新的掩膜工具，但价格更高。 掩模用作芯片设计的主模板（templates）。在流程中，IC......
的功耗 [15]、压印模板可重复使用等优势。 佳能的研究显示，其设备在每小时 80 片晶圆的吞吐量和 80 片晶圆的掩模寿命下，纳米压印光刻相对 ArF 光刻工艺可降低 28% 的成本，随着......
国产厂商引入首台光刻机设备！;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
器。使用 cuLitho 的晶圆厂每天可以生产 3-5 倍多的掩模 (Mask，也叫光罩，即芯片设计的模板) ，但仅需要当前配置电力的 1/9。 当然，cuLitho 加速库虽然也可以与 Ampere......
技术可供 Attolab 的合作伙伴使用。 为了支持下一代光刻，imec 正在探索以下技术。 一方面，光掩膜的开发正在进行几项新的发展。如为了满足降低 EUV 曝光剂量的要求，具有低 n 吸收剂的掩模......
元件尺寸以及优化器件电路设计。 △Source：英伟达官网 其中，元件尺寸缩小在很大程度上是由光刻工艺和技术的发展推动的。光刻阶段，晶圆会被放入光刻机中，被暴露在深紫外光（DUV）下，光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻......
国内厂商奋起直追！EUV光罩市场将迎来新变局; 【导读】光罩，也称为光掩模版，在IC制造过程中，其作用是将设计好的电路进行显影，将图形投影在晶圆上，利用光刻技术进行蚀刻。光罩......
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。 据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
法大幅改进了半导体制造工艺。 半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展 计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载，每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模......
兼首席执行官 Sassine Ghazi 表示：“二十多年来，Synopsys Proteus 光掩模合成软件产品一直是经过生产验证的首选加速计算光刻技术，而计算光刻是半导体制造中要求最严苛的工作负载。发展......
光掩模基板生产线，该半导体级先进制程光掩模基板生产线的落地，将使光掩模板产业链中关键产品实现国产化，打破国外垄断。 据了解，去年8月，上海传芯半导体有限公司与临港新片区管委会、临港......
先进 EUV(极紫外光刻)掩模所需的多光束掩模写入工具已成为半导体制造生态系统日益重要的组成部分。此次台积电投资将使 IMS 通过加速创新和实现更深入的跨行业合作，来抓住多光束掩模写入工具的重要市场机会。到......
公司将加强其在全球半导体材料供应链中的地位，并促进美国芯片制造业的增长。 Extreme ULE玻璃，作为一种钛硅酸盐玻璃材料，以其接近零膨胀的特性而闻名，长期被用于EUV光掩模和光刻镜的生产。这种......
法大幅改进了半导体制造工艺。半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载，每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模是芯片生产中的关键步骤，一个典型的光掩模......
利用等离子体束对靶材进行物理碰击，使靶材粒子脱落并沉积在晶圆上的工艺。 图1：各类晶圆级及相关步骤 光刻工艺：在掩模晶圆上绘制电路图案 光刻对应的英文是Photolithography，由“-litho（石刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模......
的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上再现。 早在去年十月，佳能便发布了全球首台商业化纳米压印光刻......
说应该缓一缓，关注更加主流的技术？封装厂需要根据几个方面来进行权衡。在一个关键的设备方面，他们需要仔细考虑光刻技术这个选择。对于封装，主流的光刻工具是掩模对准器（mask aligner）和 stepper......
设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将......
推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。 所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光将图案转移到光刻......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。 光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻胶。如之前介绍的那样，当光线照射到光刻胶上时，会产......
半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，只需一个印记，就可以在适当的位置形成复杂的 2D 或 3D 电路图案，因此只需要不断改进掩模，甚至能生产 2nm 芯片。 ......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学;2023春季GTC上，NVIDIA与TSMC（台积电）、ASML 和Synopsys（新思科技）联合宣布，完成全新的 AI 加速计算光刻......
现比单个图案化步骤更紧密的特征尺寸。整个周期可以是几十个不同的工艺步骤，包括硬掩模的沉积、底层、中间层、SARC、CMP、清洁、剥离、旋涂、烘烤、显影、曝光、蚀刻以及其间的各种计量/检查步骤。 关键在于，从单一的光刻......
可以形成最小线宽为 14nm 的图案(相当于现在 5nm 节点工艺)，而且通过进一步改进掩模，还将有可能支持 10nm 的最小线宽(相当于 2nm 节点工艺)。 大家知道，ASML 的(EUV)是通过特定光线照射在涂有光刻......
在做一种“纳米压印”光刻技术——达成光刻的方法和“光学曝光完全不一样”，“类似于盖章，没有复杂的光学元器件”，不是通过图案mask（掩模板）后微缩曝光，而是一种“等比例”的技术，“reticle上面......
降低了功耗。 新EUV光刻技术的核心投影仪能将光掩模图像转移到硅片上，它由两个反射镜组成，就像天文望远镜一样。团队称，这种配置简单得令人难以想象，因为传统投影仪至少需要6个反射镜。但这......
%。 供货周期拉长 掩模版，又称光罩、光掩膜等，在IC制造过程中，其作用是将设计好的电路进行显影，将图形投影在晶圆上，利用光刻技术进行蚀刻，是半导体光刻......
台积电、新思科技将英伟达计算光刻平台投入生产;当地时间3月18日，（NVIDIA）宣布（TSMC）、（Synopsys）已将其投入生产，以加速下一代先进半导体芯片的制造，突破物理极限。本文......

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