资讯
晶合集成光刻掩模版下线(2024-07-23)
晶合集成光刻掩模版下线;7月22日，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相。晶合集成表示，这标志着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后，可提供资料、光刻掩模版、晶圆......
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺(2024-03-29 09:05)
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺;Dai Nippon Printing Co., Ltd.（简称DNP，东京证券交易所：7912）开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模......
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺(2024-03-28)
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺;Dai Nippon Printing Co., Ltd.（简称DNP，东京证券交易所：7912）开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模......
安徽首片光刻掩模版亮相，国内多个相关项目新进展(2024-07-23)
安徽首片光刻掩模版亮相，国内多个相关项目新进展;7月22日，安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相。据悉，该掩膜版由晶合集成生产，意味着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后，可提供资料、光刻掩模......
东方晶源发布首款计算光刻云平台 已在华为云、腾讯云等完成测试(2022-07-18)
程协同优化系统。
据官方介绍，AeroHPO系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化（ILT）”技术，同时依托于公有云平台，可为客户提供28nm及以下技术节点的制程建模、基于ILT......
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-29)
软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。
宇微光学成立于2020年10月，致力于光刻掩模优化设计技术与软件(OPC软件)的自主开发，旨在......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？(2023-04-06)
来自东方晶源官网)
东方晶源自2014年成立之初即预见性地提出GPU加速的全芯片反向光刻掩模优化技术,从根本上异于其他公司的技术路线。历经九年自主研发,已经形成PanGen 计算光刻......
沙子做的芯片凭啥卖那么贵？(2016-11-25)
项技术工艺来说，光刻工艺环节是最为复杂的，成本最为高昂的。因为光刻模板、透镜、光源共同决定了“印”在光刻胶上晶体管的尺寸大小。
将涂好光刻胶的晶圆放入步进重复曝光机的曝光装置中进行掩模图形的“复制”。掩模......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
时代
目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板制造的高成本，同时......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
屏展现了其在半导体领域精密制造中的巨大潜力。
开启半导体无掩膜光刻时代
目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板......
Toppan Photomask与EV Group达成合作(2022-09-20)
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实现大批量生产全球首屈一指的光掩模供应商......
国内厂商奋起直追！EUV光罩市场将迎来新变局(2023-02-09)
罩制造的材料是光罩基板，目前全球范围内，先进的前道光罩基板供应商仅有日本豪雅和信越以及韩国的S&ST，相比12寸大硅片，光罩基板的技术要求更高，垄断程度也更高。所以......
三星缩短与台积电差距，光掩模“功不可没”，国产能不能替代？(2023-04-23)
业可能需要在未来十年内投资 10 亿至 20 亿美元购买新设备。一些设备供应商正在为成熟节点构建新的掩膜工具，但价格更高。
掩模用作芯片设计的主模板（templates）。在流程中，IC......
光罩产业国产化趋势势不可挡，本土光罩厂正在兴起(2023-03-24)
是后话了。
晶圆制造的原材料是硅片，而光罩制造的材料是光罩基板，目前全球范围内，先进的前道光罩基板供应商仅有日本豪雅和信越以及韩国的S&ST，相比12寸大硅片，光罩基板的技术要求更高，垄断......
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展(2021-06-11)
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask......
我国多条12英寸芯片生产线迎来最新进展！(2024-08-23)
资料显示，掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是半导体产业链的关键环节，是连接芯片设计和制造的纽带。目前中高端半导体掩模国产化率偏低，行业人士表示，迪思高端掩模......
佳能发售面向小尺寸基板的半导体曝光设备“FPA-3030i6”(2024-09-24)
体基板放置在晶圆载物台上，从上方用UV光（紫外线）照射，穿过掩模板的紫外线会透过投影光学系统，在半导体基板上形成掩模板上的电子电路图的图像。被叫做晶圆的半导体基板上涂有光刻胶（光刻......
热搜 | 台积电用上英伟达计算光刻平台生产(2024-10-10)
圆厂每天可生产3-5倍的光掩模（芯片设计的模板），耗电量比当前配置少9倍。一个光掩模过去需要两周时间，现在一夜之间就能加工完成。从长远来看，cuLitho将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和人工智能光刻......
下一代光刻机，万事俱备了吗？(2023-03-06)
同时，我们正在与更广泛的图案化设备和材料供应商生态系统合作，以便能够访问 High NA 实验室并准备 EUV 抗蚀剂材料、底层、干法蚀刻、光掩模、分辨率增强技术 (RET) 和计量技术。”
在imec......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-16)
光学曝光复杂的系统或电子束曝光复杂的电磁聚焦系统）、较高的产能（可大面积制造）、较低的成本（国际权威机构评估同制作水平的纳米压印比传统光学投影光刻至少低一个数量级）、较低的功耗、压印模板可重复使用等优势。
发展至今，相对......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图案，经过脱模就能够得到一颗芯片。
虽然纳米压印光刻不需要掩模，但它需要一种比掩模还难造的"模板"，就是我们上面比喻中的橡皮泥。想象一下，平时在家做蛋糕时，脱模......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-14)
上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
佳能介绍称，传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，新产品则通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点。由于......
半导体材料供应商盘点及市场竞争格局分析（附表格）(2021-08-12)
胶做了视频报道。来自华天科技公司的采购经理受访时称，以往都是光刻胶供应商找上门，现在是厂家去找供应商，直接在供应商办公室办公。之前企业采购光刻胶的量每次都在100多公斤，近期（2021年3月......
一文读懂Fan-out面临的未来挑战(2017-07-11)
。现在也有一些供应商在开发新的光刻工具，包括激光烧蚀以及使用多个光束的直接成像或无掩模光刻系统。另一种值得关注的技术是适应性图案（adaptive patterning）。
一种 IC......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
的功耗 [15]、压印模板可重复使用等优势。
佳能的研究显示，其设备在每小时 80 片晶圆的吞吐量和 80 片晶圆的掩模寿命下，纳米压印光刻相对 ArF 光刻工艺可降低 28% 的成本，随着......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
在做一种“纳米压印”光刻技术——达成光刻的方法和“光学曝光完全不一样”，“类似于盖章，没有复杂的光学元器件”，不是通过图案mask（掩模板）后微缩曝光，而是一种“等比例”的技术，“reticle上面......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML(2023-12-27)
社长御手洗富士夫近日表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，只需......
康宁将获美国芯片法案3200万美元补贴(2024-11-11)
Extreme ULE玻璃等关键材料的生产。这些特种玻璃对于高端芯片制造至关重要，因为它们是生产光掩模的核心原料，而光掩模在芯片制造中扮演着至关重要的角色。通过提高这些材料的生产量，康宁公司将加强其在全球半导体材料供应......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
库集成至台积电的制造流程中，并结合Synopsys的EDA软件，ASML也计划将GPU支持整合到所有的计算光刻软件产品中。在几大芯片供应链巨头共同合作下，可推动半导体行业向更先进芯片制程进军，加速芯片上市时间，提高......
半导体掩模版逆周期增长背后：供货周期拉长4-7倍 厂商酝酿新一轮涨价(2022-12-06)
体公司对于掩膜板的需求也不断增加。
随着掩模版需求持续增长，加之高端设备的交付延迟，导致掩膜板产能供应紧张加剧，其交货周期也大幅度拉升。同时，厂商正在酝酿新一轮涨价，业界预计明年掩模版价格将上涨10%~25......
摩尔定律还能继续，有技术为证！(2017-04-24)
技术。使用各种多重曝光工艺，芯片制造商能够分开掩模和图案。这种方法可以将今天的193nm波长的光刻技术扩展到16nm / 14nm，10nm甚至7nm。
但是在7nm或5nm处，图案复杂性和掩模......
业界再添二起并购案 事关三井化学、旭化成、瑞萨等(2022-06-10)
薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（业务）。
公开资料显示，光掩模，也叫半导体光罩，是半导体光刻工艺中的高精密工具，主要......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
只有这样才能得到所需要的曝光图案。
当下，台积电和EDA供应商新思正在将全新的NVIDIA cuLitho计算光刻技术软件库整合到最新一代NVIDIA Hopper架构GPU的软件、制造工艺和系统中。光刻......
国产厂商引入首台光刻机设备！(2024-07-17)
国产厂商引入首台光刻机设备！;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
计算光刻速度提高40倍，台积电预计6月将英伟达AI加速技术导入2nm试产(2023-03-22)
器。使用 cuLitho 的晶圆厂每天可以生产 3-5 倍多的掩模 (Mask，也叫光罩，即芯片设计的模板) ，但仅需要当前配置电力的 1/9。
当然，cuLitho 加速库虽然也可以与 Ampere......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
数量是远超三星的；Intel则因为入局最晚，现在是最被动的。
另外既然三星作为DRAM供应商需求EUV光刻机，那么SK海力士、美光自然就不会例外。美光宣布1 delta与1 gamma节点要应用EUV......
挑战 ASML，应用材料公司重新定义了光刻和图案化市场(2023-03-13)
。本文将讨论该决定的利弊。
引入新的图形成形步骤对其他工艺步骤的影响，包括光刻、光刻胶、涂布机/显影剂、CVD、PVD、蚀刻、CMP、外延生长、离子注入、计量和检测。图案塑形对行业供应商......
国际大厂光刻胶涨价！国产替代刻不容缓(2023-12-13)
过程可能需要花费1至3年。这就导致光刻胶企业与客户之间有很强的黏性，不愿导入新的供应商，主要在于过程繁琐、耗时较长。
在技术和客户双重壁垒下，光刻胶企业就具有了极大话语权。对于此次光刻胶涨价，韩国......
供应短缺，用于芯片生产的光罩护膜价格涨价(2022-12-14)
供应短缺，用于芯片生产的光罩护膜价格涨价;
【导读】随着中国不断涌现无晶圆厂芯片设计初创企业，导致用于晶圆制造Arf和Krf光刻工艺的光罩护膜(pellicle)供不应求，价格......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
TSMC 和 Synopsys 将NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
法大幅改进了半导体制造工艺。
半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展
计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载，每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
兼首席执行官 Sassine Ghazi 表示：“二十多年来，Synopsys Proteus 光掩模合成软件产品一直是经过生产验证的首选加速计算光刻技术，而计算光刻是半导体制造中要求最严苛的工作负载。发展......
上海传芯：掩模基版研发及产业化项目启动 将建国内首条14nm光掩模基板生产线(2021-04-07)
光掩模基板生产线，该半导体级先进制程光掩模基板生产线的落地，将使光掩模板产业链中关键产品实现国产化，打破国外垄断。
据了解，去年8月，上海传芯半导体有限公司与临港新片区管委会、临港......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机(2023-10-16)
可以形成最小线宽为 14nm 的图案(相当于现在 5nm 节点工艺)，而且通过进一步改进掩模，还将有可能支持 10nm
的最小线宽(相当于 2nm 节点工艺)。
大家知道，ASML 的(EUV)是通过特定光线照射在涂有光刻......
三星显示计划OLED生产不再使用FMM(2023-10-26)
商业化的智能手机和智能手表中使用的所有OLED面板均在生产过程中采用FMM制造，而DNP是全球最大的FMM供应商。
FMM被制成棒状，并将多个单元焊接成大框架，以便......
继向贝恩资本出售近20%的股份后，英特尔将向台积电出售IMS约 10%的股份(2023-09-15)
先进 EUV(极紫外光刻)掩模所需的多光束掩模写入工具已成为半导体制造生态系统日益重要的组成部分。此次台积电投资将使 IMS 通过加速创新和实现更深入的跨行业合作，来抓住多光束掩模写入工具的重要市场机会。到......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
法大幅改进了半导体制造工艺。半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载，每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模是芯片生产中的关键步骤，一个典型的光掩模......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
元件、镜头变形、拼接、降低景深、边缘位置误差和叠加精度。与此同时，IMEC与其扩展的供应商网络紧密合作，准备了图案化生态系统，包括开发先进的光刻胶和底层材料、光掩模、计量和检测技术、（变形）成像策略、光学......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
因在美国得克萨斯州的工厂未能吸引大客户，推迟了接收ASML生产的光刻机。同时，三星也推迟了向其他一些供应商下订单，致使这些供应商不得不另觅客户。
三星在今年4月表示，其德州工厂将于2026年开始生产，而非原定的2024年......
“造芯”热潮下，关于半导体材料你知道多少？(2020-09-01)
过程最重要的耗材。2018年全球半导体光刻胶市场约20.3亿美元，主要供应商包括日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、信越、富士、旭化成、日立化成、美国罗门哈斯（并入杜邦）、及中......
相关企业
尺、4×8尺等产品覆盖整个模板系列。公司本着诚实正直、信守承诺、先卖信誉后卖产品、与客户双赢的经营。我公司以优质的产品，良好的信誉赢得了全国各地客户的信赖，使得我们的公司不断地在壮大，我公司现已成为潍坊板材基地最大的建筑模板供应商
;上海挂捷通;;专业快板供应商
;深圳市美精微光电股份有限公司;;欢迎垂询美精微光电：13902904268 深圳市美精微光电股份有限公司成立于1993年，是中国大陆专业提供各类高精度菲林光绘，铬版光刻（即光掩模/光罩）以及
;shenzhen domiworks design house;;个体设计室, 提供产品设计, 半成品电路板供应.
了深圳市政府颁发的高新技术项目认证，使公司的生产经营上了新的台阶，促进了中国掩模版行业的发展和生产格局的完善。 目前，公司产品已广泛应用于以下行业： 1、PCB、LCD掩模版、干版掩模版、包括BGA、HDI等； 2、TFT、彩色
了高端客户的要求，通过了深圳市政府颁发的高新技术项目认证，使公司的生产经营上了新的台阶，促进了中国掩模版行业的发展和生产格局的完善。 目前，公司产品已广泛应用于以下行业： 1、PCB、LCD掩模版、干版掩模
;成都浦科科技公司;;成都浦科科技有限责任公司成立于2004年，是全球范围内系统解决方案和TFT液晶平板供应商，我公司的电子产品远销欧洲、美国和中东一些国家。作为省内第一家解决方案提供商，我司
;上海企阳信息技术有限公司;;易迅数据-IDC专业供应商,以注册域名-虚拟主机-企业邮箱-服务器租用-服务器托管-VPS-网站模板-网站设计,为客户提供贴心服务。 企业邮箱，测试邮箱：test
;长沙和恒光电科技有限公司;;长沙和恒光电科技有限公司位于湖南省长沙市芙蓉区隆平高科技园，交通便利，环境优美，是一家专业从事光罩/掩模板、视距盘、光栅及各类分化版的研发及生产的高科技企业。 公司
;深圳市 神立光学薄膜有限公司;;深圳市神立光学薄膜有限公司是国内规模防划伤硬化板最大的PMMA/PC/PET防划伤防耐磨板供应商及国内最具实力的镜片，视窗前屏材料生产厂家 . 主要产品：纳米