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激光、奥普光电等。 奥普特:产品包括光源、光源控制器、镜头、相机、视觉控制系统等机器视觉核心部件。 3.2工业镜头 镜头相当于人眼的晶状体,是机器视觉采集和传递被摄物体信息过程的起点,所使......
先进芯片的生产良率。 蔡司还计划到2026年投资480亿韩元在韩国建设研发中心,加强同三星等韩企的战略合作。 资料显示,蔡司是光学与光电解决方案开发商,也是光刻机大厂ASML EUV光刻机......
)之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线,且已完成25吨光刻胶生产线建设,主要先进光刻设备,如ASML浸没式光刻机......
-NA EUV光刻机的价格约为3.84亿美元。尽管如此,台积电在EUV光刻机的技术领先地位,预计仍将吸引更多寻求先进芯片制造能力的高阶客户前来下单。这可能会进一步拉大台积电与其竞争对手之间的差距,尤其......
台积电、ASML谈2024年半导体市况;近期,晶圆代工龙头台积电与光刻机大厂ASML发布今年一季度财报,并对2024年半导体市况做出了展望。 台积电:半导......
产业高质量发展,规划建设了航天信息产业园、智能光谷产业园、无人机产业园、空天科技博览园、航空产业示范园等一批产业项目,培育了长光卫星、长光宇航、奥普光电、希达电子、博翔......
胶批量测试的过程需要占用晶圆厂机台的产线时间,在产能紧张的时期测试时间将会被延长。测试的过程需要与光刻机、掩膜版及半导体制程中的许多工艺步骤配合,付出成本极高。通常面板光刻胶验证周期为 1-2 年,半导体光刻......
露,该光刻机将于2020 年底前运抵国内。后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司(以下简称“合作方”)沟通协调设备运输与安装等细节,致使设备没能在规定时间内运达。 现经......
-1400光刻机等核心设备,并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露,该光刻机将于2020年底前运抵国内。 后由于公司与光刻机供应商、北方......
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破; 来源:内容来自 中科院网站 ,谢谢。 近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电......
工具] 检测半导体掩膜可将对比度提高 30% 以上”。 报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作,准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。 三星......
售价3.8亿美元!ASML正式宣布,外媒:光刻机市场“变天”了!; 芯片规则实施之后,台积电与中企的合作被中断,而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML,自然也成为了美国的主要针对对象,在签......
实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。   半导体制造领域,光刻机是昂贵且关键的设备,而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”,担负......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备!;尽管半导体产业仍处调整周期中,但部分应用市场需求强劲,正吸引半导体厂商积极扩产,而在芯片制造过程中,制造设备不可或缺。近期,为满足市场需要,全球光刻机大厂ASML又有......
成像与芯片设计差距,从而使光刻效果达到预期状态。 据光刻机龙头ASML介绍,计算光刻将算法模型与光刻机、测试晶圆的数据相结合,从而生成一个和最终曝光图案完全不同的掩模版设计,但这正是ASML想要达到的,因为......
中科院:上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask......
南大光电:已建成2条ArF光刻胶生产线,ASML光刻机已投入使用;近日,南大光电在业绩说明会上表示,公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目,目前已完成25吨光刻......
会重新选择申请专利的时间。1984年,正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征,即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”,真正意义上的浸入式光刻......
盛美上海:Track设备预计明年年中完成与光刻机对接工艺测试;12月21日,盛美上海披露最新的调研纪要,公司Track设备目前在客户端验证进展顺利,预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试;此外......
南大光电光刻胶项目延期;南大光电近日发表公告称,公司募投项目“光刻胶项目”受到多重因素影响,计划将建设完成期限由原计划2021年12月31日延长至2022年12月31日。公司......
、更节能芯片的需求增长,光学仪器成为关键支撑。EULITHA、瑞荧仪器、托托科技、蔚海光学、鉴知等公司将展示先进的光刻机、显微镜等光学仪器,突显其在光芯片制造与测试中的重要作用。这一深度融合预示着光电......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息,近日,华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域,入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。 6月2日,北京科益虹源光电......
星电子副会长李在镕开启了7日欧洲穿梭之旅,据韩媒报道,他将与光刻机巨头ASML进行接洽,争取EUV光刻机优先供货。据悉,3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示,ASML在2021年出......
,南大光电的营收为3.21亿元,净利润0.55亿元,同年晶瑞股份的营收为7.6亿元,净利润为0.31亿元,由此可见一斑。   并且由于需要加速追赶,国内光刻胶企业近年来相继斥资购买光刻机......
ASML公布最新财报 1月24日,光刻机大厂ASML公布2023年第四季度及全年财报。2023年第四季度ASML净销售额达到72亿欧元,毛利率51.4%,净利润达20亿欧元。新增订单金额为92亿欧......
工艺的核心材料,可以与光线发生反应,让芯片材料上出现所需的精密电路图案。 根据显影效果不同,光刻胶可分为正性和负性两种,正性光刻胶,暴露在紫外线下的区域会改变结构,变得......
全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...; 近日,ASML发布最新三季度财报后,股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间,尼康和佳能陆续发布的光刻机......
ASML公布最新财报 1月24日,光刻机大厂ASML公布2023年第四季度及全年财报。2023年第四季度ASML净销售额达到72亿欧元,毛利率51.4%,净利润达20亿欧元。新增订单金额为92亿欧......
国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所,调研EUV光源等技术,高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
体设备国产化势在必行 据悉,涂胶显影设备是光刻工艺主设备之一,也是芯片制程中必不可少的处理设备。它利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工,与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为......
元(约合人民币76亿元),打造一个类似于ASML的下一个全球半导体巨头。 业界周知,ASML是全球最大半导体光刻机供应商,其生产的EUV光刻机,是台积电、英特尔、三星发展先进制程必备的设备,同时......
中国顶尖辩手,正反观点都有颠覆你原本价值观的冲击力。笔者一直在想,如果奇葩说来一次“国产超分辨力光刻机到底牛不牛”的辩题,那到底会是怎样的场景和结局. 辩题背景:中科院光电所超分辨光刻......
亦庄此前报道,作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位,科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。 国家财经周刊曾发文称,上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
成为最重要的三大前道设备之一,所以并不是有了光刻机就能造芯片,光刻只是芯片制造工艺流程的中的一个,还需要其他6大前道工艺设备的支撑,其重要程度与光刻机同等重要。误区二:中国最紧迫的是造出光刻机?误区......
这种重构掩模图形的技术。 资料显示,计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真,以优化光源形状和掩膜板形状,缩小光刻成像与芯片设计差距,从而使光刻效果达到预期状态。 光刻机龙头ASML在其公众号上介绍,“计算光刻将算法模型与光刻机......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作,并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源,并使光线到达抗蚀剂。业界表示,这是光刻机......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
照被刻蚀材料划分,可以分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀(表2)。由于下游的需求场景较多,介质刻蚀机与硅刻蚀机的市场占比较高,成为市场主流。 2.刻蚀与光刻的区别 有些对工艺不熟悉的业者,很容易将刻蚀机与光刻机......
英唐智控称收购先锋微案获批!后者资产包括日本光刻机;国际电子商情获悉,英唐智控近日在深交所互动易平台回复投资者提问时表示,其。消息利好让英唐智控24日股价小幅上涨。 被问及光刻机......
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能......
晶瑞电材:高端KrF(248)光刻胶已完成中试,公司已到5台光刻机;12月15日,晶瑞电材在互动平台表示,公司近期已购得KrF光刻机一台,可用于KrF光刻胶的曝光测试,同时公司KrF光刻......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中,你将了解到:纳米压印光刻能绕开光刻机吗,纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势,纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
最新,国产光刻胶通过验证!; 据“中国光谷”消息,光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现......
%。 雷曼光电(300162): 回顾近3个交易日,雷曼光电有3天上涨,期间整体上涨5.06%,最高价为7.34元,最低价为8.34元,总市值上涨了1.72亿元,上涨了5.06......
各类产品合成、配方、工艺等技术均有着自主知识产权,有一定的技术壁垒。此外,公司目前不具备制造光刻机的能力,也暂无购买光刻机的计划。 新增产能方面,今年飞凯材料有紫外固化材料、医药中间体等新的产能落地。其中,医药......
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片,目前正寻求产业链的合作。 2nm关键设备EUV,厂商“抢疯了” 随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强,半导......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展,提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前,半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大,KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机......
胶市场体量虽小,却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看,光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小,产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高,为了......

相关企业

;长春奥普光电;;
;北京特奥普光电技术有限责任公司;;北京特奥普光电技术有限责任公司是一家专门从事半导体激光器产品应用及产品应用开发的技术型企业,公司技术部拥有博士后2名,博士3名,都是光电
;北京特奥普光光电技术有限责任公司;;北京特奥普光光电技术有限责任公司是一家专门从事半导体激光器产品应用及产品应用开发的技术型企业.特奥普光电技术有限责任公司除了自主研发TOP激光器产品同时还开发各种光电
;北京奥普光太科技有限公司;;
;北京奥普光太;;奥普光太是中关村科技园区的一家高新技术企业,专业从事光电子、激光尖端技术的自主研发和相关产品的生产、销售,产品主要有稳频激光系列、超短脉冲激光系列、单频倍频激光系列、精密
;北京市奥普光太科技有限公司;;奥普光太是中关村科技园区的一家高新技术企业,专业从事光电子、激光尖端技术的自主研发和相关产品的生产、销售,产品主要有稳频激光系列、超短脉冲激光系列、单频
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;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;深圳市厚普光电有限公司;;Hope LED Opto-electric Co., Ltd.成立于2005年,专注于节能环保LED照明产品研发、生产和销售,公司定位于生产和销售高品质的ODM和OEM
;杭州广普光电科技有限公司;;杭州广普光电科技有限公司是一家经国家相关部门批准注册的企业。杭州广普光电科技有限公司凭着良好的信用、优良的服务与多家企业建立了长期的合作关系。杭州广普光电