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中的门道却更多了。 传统的光学系统是在芯片表面均匀地形成光刻胶膜，纳米压印则需有针对地喷涂滴状压印胶 [32]，这个过程就像打印机喷墨一样，控制好力度并不容易。 压印过程中聚合物图形和掩膜间会进入空气，如同......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能的纳米压印......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备;于 10 月 13 日宣布，已将 FPA-1200NZ2C 商业化，这是一种纳米压印半导体制造系统，利用（NIL）技术实现尖端半导体电路的形成，并于......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML;12 月 27 日消息，佳能今年 10 月宣布 FPA-1200NZ2C，这是一款纳米压印光刻（NIL）半导体设备。 佳能......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 随着......
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实......
华为哈勃新入股一家纳米压印设备厂商;企查查资料显示，7月30日，深圳哈勃科技投资合伙企业（有限合伙）（以下简称“深圳哈勃”）新增对外投资青岛天仁微纳科技有限责任公司（以下简称“天仁微纳”），持股......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移;佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 （FPA-1200NZ2C......
10年内激增至4倍。建设新工厂后，2个基地的总产能将增至约2倍。 此外，佳能还在考虑在该工厂生产下一代设备，利用被称为“纳米压印”（nano-imprint）的技术，开发......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道，佳能表示，首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备，不过这将用于试运行。 报道称，这些新设备的工作原理是在晶圆上压印......
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。 佳能......
开发了拥有独立知识产权的大面积3D微纳结构设计的EDA软件；建设了最小线宽100nm，最大面积1.6m*2.7m的模具中心；独立开发了双面对准卷对卷纳米压印机和65inch超大幅面玻璃压印机；完成......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
这项技术的实际生产速率也慢得没朋友。 世界不是没有研究这项技术，美国、欧洲、中国都有科研机构着重研究了这项技术，但生产效率太低，所以只适合特定场景。 所以，除了EUV，我们没有任何其它手段了吗？那也未必，纳米压印......
基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实方案;研究人员基于超薄纳米压印超构透镜阵列开发出一种透视增强现实（AR）原型，开创了一种全彩、视频速率和低成本的3D近眼显示方案。 据麦姆斯咨询介绍，集成......
行业向更高级别的芯片制程转型，EUV技术显现出的短板和局限性逐渐暴露，这也迫使行业重新审视未来技术发展的路径与方向。 其他的光刻技术陆续出现，像BEUV技术、X射线光刻技术、NIL纳米压印技术等。尤其NIL技术，已经......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移; 宣布推出FPA-1200NZ2C设备，该设备执行电路图案转移。自日本(Canon)官网获悉，10月13日，宣布推出FPA-1200NZ2C设备......
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。 KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
无锡建设半导体刻蚀设备研发制造基地。 根据报道，此次吉佳蓝与无锡高新区、市产业集团签约合作在锡落户中国总部项目，将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一......
端的SPAD传感器、光子计数CT、利用深度学习的图像处理技术、下一代商业打印技术和纳米压印光刻，因此该公司取得了诸多技术专利。 美国作为庞大的市场，且拥有众多的高科技公司，对于......
点是产能低，效率低，无法大规模量产芯片，只能实验室用，但也不失为一条新的路。 第二条路是纳米压印，也称NIL技术。原理是电路图设计出来后，刻在纳米板上，再像印书一样压印在硅片上。 这种的优点非常多，比如......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？; 在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
：Coherent高意公司 光学元件的创新是显著降低工业激光器拥有成本(Cost of Ownership)并加快其在现有和新应用中采用的关键因素。Coherent高意利用其专有的纳米压印......
目将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一步增强无锡集成电路产业核心竞争力。 据悉，吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业，主要......
资5亿元。 海门开发区微平台消息称，半影光学（南京）有限公司主要致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务，该公司生产的光掩模产品在技术上突破了传统纳米压印......
纳米压印光刻机能绕过制裁吗；台积电获美国豁免；高通又裁了丨一周速览;非常长的“七天”终于去了，电子界又发生翻天覆地的变化，我们集合了本周值得关注的信息，一文看完一周大事。如果您对"一周速览"栏目......
制造技术赋能百业——纳米压印技术平台的价值》。他介绍了纳米压印技术的产业化历程，突出其技术优势和应用拓展情况。同时，罗博士重点探讨了纳米压印技术平台的价值，以及新维度公司在该模式的布局情况。他指出，纳米压印......
NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电拥有145项，三星电子为70项专利；但在DSA光刻......
加工（（非）柱面微透镜、2-20 微米尺寸的凹槽、中心对齐精度小于 3 微米的双面微透镜结构等特殊微纳结构，并可制备特定角度的微棱镜形成集成式一体化微透镜。 SMO自主研发的纳米压印......
始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影的量产技术。当前铠侠已掌握15纳米的制程量产技术，目前正在进行15纳米......
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL) 的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能......
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米压印......
在做一种“纳米压印”光刻技术——达成光刻的方法和“光学曝光完全不一样”，“类似于盖章，没有复杂的光学元器件”，不是通过图案mask（掩模板）后微缩曝光，而是一种“等比例”的技术，“reticle上面是多少纳米......
都有所规划，并且已经持续数十年，它就是国际器件与系统路线图（IRDS）。 根据路线图规划，极紫外光刻（EUV）、导向自组装（DSA）和纳米压印光刻（NIL）是下一代纳米制程节点的技术候选方案。不过，纳米压印......
应用于制造绘制半导体电路图案的"光掩膜"板，用于下一代图案转印的纳米压印光刻技术的 "模板"，以及为传感器MEMS提供代工服务等。通过运用在过去业务中积累的玻璃和硅基板加工以及处理技术和微缩布线技术，此次......
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印......
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印......
电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印（NIL）与测量设备，以及光刻胶涂布机、清洗......
（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印（NIL）与计......
曙光白配色，采用无量象限ID设计，延续了曙光基因，黑白构成设计美学，搭配幻彩RGB LOGO，RGB贯穿式曙光灯环，自带光芒，又酷又闪，出场即焦点。金属A壳，电泳工艺，纳米压印，在质......
阳极电泳工艺加持，打造超高质感的曙光白外观，同时搭配幻彩纳米压印，个性十足。整机采用黑白双色碰撞的搭配，高级简约又不单调！同时，尾部与前部组成了RGB贯穿式曙光灯环，支持自定义颜色与灯效，电竞......
路线发展受欧美限制，且该技术路线前景灰暗的情况下，中国大陆厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随，还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新的技术路径？将会面临困难的抉择。比如佳能去年就推出了面向先进制程的奈米压印......
从事AR衍射光波导及衍射光栅研发、生产和销售的创新企业，自主掌握"光栅设计、光栅母版加工、纳米压印生产"三大核心技术，拥有功能完备的光栅母版加工中心和衍射光波导生产线，成功......

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及菲律宾等地区。 　　主要产品包括有：晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动
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