资讯
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。
纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
，甚至存在许多致命的难题，不断推迟进入市场的时间。
2、被行业接纳前的问题
想做那个打破常规的先驱者，并没有那么容易。
纳米压印技术最终能否进入产业，取决......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-16)
的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短 25 年，已经取得很大进展。
纳米压印技术首先通过接触式压印完成图形的转移，相当于光学曝光技术中曝光和显影工艺过程，然后......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
设备投资降低至仅有EUV设备的40%。
佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路。
“价格将比ASML的EUV光刻......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机(2023-12-26)
FPA-1200NZ2C之后，首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，使得生产先进芯片的技术......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！(2023-11-08)
成本远低于现阶段 ASML 的 EUV ，佳能表示未来要扩大该类半导体设备的阵容来覆盖广泛的市场需求。
佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术......
华为哈勃新入股一家纳米压印设备厂商(2021-08-02)
以及生产咨询服务。公司致力于拓展纳米压印技术在创新产品领域的应用，例如3D传感（DOE、Diffuser等）、AR/VR、生物芯片、集成电路、显示、太阳能电池、LED等。
今年1月，天仁......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！(2024-03-08)
并非纯粹竞争关系，但至少可以降低部分技术操作成本。
此前美光科技举办讲会，介绍纳米压印技术用于DRAM生产的细节。阐述了DRAM制程和浸润式曝光解析度的问题，通过Chop层数不断增加，必须......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML(2023-12-27)
存储芯片制造商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。
与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-14)
的进一步改进，日本佳能公司预计，NIL（Nano Imprint Lithography，NIL）纳米压印技术将有可能支持电路图案化的最小线宽为10nm，相当于2nm节点。据悉，佳能于2014年收......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。
据介绍，佳能的纳米压印......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
行业向更高级别的芯片制程转型，EUV技术显现出的短板和局限性逐渐暴露，这也迫使行业重新审视未来技术发展的路径与方向。
其他的光刻技术陆续出现，像BEUV技术、X射线光刻技术、NIL纳米压印技术等。尤其NIL技术，已经不再是实验室技术......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！(2022-10-08)
以低成本制成尖端微细电路的新一代设备。
目前，佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备，在学术界，日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术，据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片，成本将比现有EUV光刻......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
不要的部分用材料腐蚀掉……
但这种技术，目前还远远看不到量产的希望，这种神奇的化学材料不好找，但美国、欧洲等实验室据说有了进展，不过短时间内肯定没戏，只能在科幻剧中看到。
很明显，目前看起来最可靠的，还是NIL纳米压印技术......
高意推出用于高功率工业激光器的衍射光学元件(2023-01-16)
：Coherent高意公司
光学元件的创新是显著降低工业激光器拥有成本(Cost of Ownership)并加快其在现有和新应用中采用的关键因素。Coherent高意利用其专有的纳米压印技术......
微纳制造赋能百业！2024（首届）微纳制造技术应用峰会盛大举办！(2024-04-25)
赋能百业——纳米压印技术平台的价值》。他介绍了纳米压印技术的产业化历程，突出其技术优势和应用拓展情况。同时，罗博士重点探讨了纳米压印技术平台的价值，以及新维度公司在该模式的布局情况。他指出，纳米压印技术......
Toppan Photomask与EV Group达成合作(2022-09-20)
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？(2023-10-31)
个即使是最小的错误都可能导致重大后果的行业中，佳能的技术很难匹配EUV提供的质量。
- 缺陷问题：半导体研发组织imec的Cedric Rolin强调了纳米压印技术的“相当高”缺陷率。这种......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。据悉，佳能的FPA-1200NZ2C系统可实现最小14nm线宽的图案化，支持5nm制程逻辑半导体生产。
公开资料显示，纳米压印与光刻是两种不同的技术......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移(2023-10-16 11:09)
图源:Canon)
据悉，除了现有的光刻系统外，佳能还将采用纳米压印(NIL)技术的半导体制造设备推向市场，扩大其半导体制造设备阵容，以满足从最先进的半导体设备到现有设备的广泛需求。佳能......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机(2023-10-16)
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机;
最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C
的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
佳能：删除872条第三方侵权打印墨盒商品信息(2024-01-26)
端的SPAD传感器、光子计数CT、利用深度学习的图像处理技术、下一代商业打印技术和纳米压印光刻，因此该公司取得了诸多技术专利。
美国作为庞大的市场，且拥有众多的高科技公司，对于......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造(2024-02-11)
印记，而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录，据称与行业巨头ASML的EUV设备相比，其能耗降低了90%。
去年，佳能推出了首款纳米压印光刻（NIL）设备，该设备可以与ASML的极紫外（EUV......
美光计划部署纳米印刷技术，降低 DRAM 芯片生产成本(2024-03-05)
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
的实际生产速率也慢得没朋友。
世界不是没有研究这项技术，美国、欧洲、中国都有科研机构着重研究了这项技术，但生产效率太低，所以只适合特定场景。
所以，除了EUV，我们没有任何其它手段了吗？那也未必，纳米压印......
基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实方案(2024-07-01)
产生具有运动视差和焦点提示的高质量3D图像。全彩色、实时、透视的超构原型突出了所开发的器件在虚拟现实（VR）和增强现实（AR）中的应用。研究人员采用纳米压印制造技术，在折射率为1.9的粘附材料上制造了大规模（1.84......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。
资料显示，TIE设立于2021年、是由......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移(2023-10-16)
的进一步改进，纳米压印光刻有望实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。此外，新产品采用新开发的环境控制技术，可抑制设备内细颗粒污染，使精细复杂电路的形成成为可能，有助于制造尖端半导体器件。
......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂(2022-12-13)
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。
KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
韩国吉佳蓝公司将在中国无锡，建设刻蚀设备研发制造基地(2024-07-29)
无锡建设半导体刻蚀设备研发制造基地。
根据报道，此次吉佳蓝与无锡高新区、市产业集团签约合作在锡落户中国总部项目，将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一......
昇印光电嵌入式纳米印刷实现全铜增材电路印刷，完成超亿元融资(2023-07-18)
资。本轮融资由领航新界资本和软银中国资本（SBCVC）共同领投，昆山高新创业投资有限公司跟投。作为嵌入式纳米印刷技术发明者，昇印光电以微电铸、纳米压印、嵌入式印刷作为模块化微加工技术，可实现1.4m......
纳米压印光刻机能绕过制裁吗；台积电获美国豁免；高通又裁了丨一周速览(2023-10-13)
纳米压印（NIL）半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。随着模具技术改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。
13日当日，美迪凯、晶方......
10亿中韩半导体基金落地，多个项目已签约(2024-08-21)
目将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一步增强无锡集成电路产业核心竞争力。
据悉，吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业，主要......
总投资5亿元，微纳光学器件及半导体光掩模生产项目签约(2023-04-25)
资5亿元。
海门开发区微平台消息称，半影光学（南京）有限公司主要致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务，该公司生产的光掩模产品在技术上突破了传统纳米压印......
三星向外界公布 GAA MBCFET 技术最新进展(2023-06-27)
三星向外界公布 GAA MBCFET 技术最新进展;三星 Foundry 在 5 月 9 日的以色列半导体展会 ChipEx2023 上公布了旗下 3nm GAA MBCFET 技术的最新进展......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子(2023-01-28)
NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电拥有145项，三星电子为70项专利；但在DSA光刻......
瑞士微纳光学企业成中企标的，炬光科技收购SMO100%股权(2024-01-22)
加工（（非）柱面微透镜、2-20 微米尺寸的凹槽、中心对齐精度小于 3 微米的双面微透镜结构等特殊微纳结构，并可制备特定角度的微棱镜形成集成式一体化微透镜。
SMO自主研发的纳米压印微纳光学设计与制造技术......
携手启航，共塑未来 —— 炬光科技成功完成并购瑞士SUSS MicroOptics SA，进一步巩固微纳光学领域的全球领先地位(2024-01-17 11:30)
离子蚀刻、纳米压印技术批量生产高质量微纳光学元件，广泛应用于光通信、汽车投影照明、半导体制程和生命科学等领域，赋能诸多创新光子应用解决方案，是全球客户信赖的微纳光学合作伙伴。炬光科技与SUSS......
MicroOptics采用光刻-反应离子蚀刻、纳米压印技术批量生产高质量微纳光学元件，广泛应用于光通信、汽车投影照明、半导体制程和生命科学等领域，赋能诸多创新光子应用解决方案，是全球客户信赖的微纳光学合作伙伴。
炬光......
不用EUV也能直上5纳米，铠侠与合作伙伴开发中有意率先导入(2021-10-23)
始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影的量产技术。当前铠侠已掌握15纳米的制程量产技术，目前正在进行15纳米以下技术......
中国科研团队在半导体领域实现新进展(2024-09-27)
中国科研团队在半导体领域实现新进展;近日，山西师范大学许小红教授、王芳教授与中科院化学所薛丁江研究员共同合作，报道了一种自下而上合成CrSbSe3纳米带的模板选择策略，并实现了一维(1D)铁磁......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL)
的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术......
2024年Q2原厂DRAM技术最新进展(2024-06-20)
2024年Q2原厂DRAM技术最新进展;
【导读】据Tech Insights更新的2024年第二季内存技术路线图显示，三星和SK海力士已将D1a和D1b单元设计的产品商业化，包括DDR5......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产。
自1986年起，佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域，开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后......
新型高速微尺度3D打印技术面世，有望促进生物医学等领域发展(2024-03-15)
极其精细且可定制的微型颗粒。这一成果有望促进生物医学等领域的发展，相关论文13日发表在最新一期的《自然》杂志上。
新技术打印出的大量精微颗粒。图片来源：斯坦福大学
3D打印技术......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
都有所规划，并且已经持续数十年，它就是国际器件与系统路线图（IRDS）。
根据路线图规划，极紫外光刻（EUV）、导向自组装（DSA）和纳米压印光刻（NIL）是下一代纳米制程节点的技术候选方案。不过，纳米压印......
DNP开发出新一代半导体封装用中继元件中介层(2021-12-01)
应用于制造绘制半导体电路图案的"光掩膜"板，用于下一代图案转印的纳米压印光刻技术的 "模板"，以及为传感器MEMS提供代工服务等。通过运用在过去业务中积累的玻璃和硅基板加工以及处理技术和微缩布线技术，此次......
炬光科技获微纳制造技术产业化“领航企业奖”(2024-04-24)
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印精密微纳光学设计与加工制造技术......
炬光科技获微纳制造技术产业化“领航企业奖”(2024-04-25 08:50)
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印精密微纳光学设计与加工制造技术......
全新 EVG®880 LayerRelease™ 离型层系统将半导体层转移技术产量提高一倍(2024-06-20)
电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印（NIL）与测量设备，以及光刻胶涂布机、清洗......
相关企业
便利。胶济铁路、济青高速、309国道贯穿其中。公司依托高等院校等科研院所，开发应用纳米技术，专业生产经营纳米材料及其相关产品，主导产品为纳米氧化硅（纳米白炭黑），相关产品：抗菌剂；抗菌
及菲律宾等地区。 主要产品包括有：晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动
品为后盾，创一流服务。我们非常注重与客户建立长期的协作关系，帮助提升客户产品的竞争力，参与客户材料的设计，生产过程，尽力满足客户的需求。 我们与北京化工研究院等科研单位合作，共同关注中国工程塑料的最新进展和最新的技术
;东莞华科科技有限公司;;公司简介 东莞市华科科技有限公司是一家自主研发纳米喷镀技术，纳米喷镀产品的高科技公司，坐落在有世界工厂美誉之称的东莞市南城区，公司***了一批优秀的研发人员，从事着环保型纳米喷镀技术
;深圳市千帆益工艺制品有限公司;;水转印技术有两类，一种是水标转印技术，另一种是水披覆转印技术，前者主要完成文字和写真图案的转印，后者则倾向于在整个产品表面进行完整转印。披覆转印技术（Cubic
;科农纳米科技发展有限公司;;本公司最新研发的高科技产品 纳米活水美容宝、纳米活水养发宝、纳米妇康宝、纳米果蔬精灵、纳米宠物除臭抑菌精灵、纳米活水精灵等。国家专利，效果好。填补国内空白，欢迎
;上海智迪旗蓬厂;;上海智迪旗蓬厂供应上海司标旗制作｜上海刀旗制作｜上海注水旗制作本厂数码转印设备2500mm宽幅，可印刷各种宽幅，高难度画面。设备均为日本进口设备，采用Epson最新打印技术，画面
，拓展高新科技成果，倡导纳米技术和功能型材料为“普通人”服务的理念，引领和开拓中国的纳米事业，成为出色的世界级参与者。 泉耀科技其核心竞争力充分体现在研究和开发实力上，整个
贴设计制作｜广告印刷制版设计｜数码印花｜广告材料｜影楼技术｜热转印技术｜墨水｜水转印｜相片纸｜特殊材料｜包装设计｜热转印技术及应用、水转印技术、鲜花打印、数码水晶技术与制作、车身贴设计制作等数码新技术
;康尼（郑州）喷印技术有限公司;;