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光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短 25 年，已经取得很大进展。 纳米压印技术首先通过接触式压印完成图形的转移，相当于光学曝光技术中曝光和显影工艺过程，然后利用刻蚀传递工艺......
）。 日本最寄望于纳米压印光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比 EUV 光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠 (KIOXIA）、佳能......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML;12 月 27 日消息，佳能今年 10 月宣布 FPA-1200NZ2C，这是一款纳米压印光刻（NIL）半导体设备。 佳能......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能的纳米压印......
公司已达成协议，共同推广赋能光电产业的大批量制造(HVM)工艺—纳米压印光刻技术(NIL)。 EV Group和Toppan Photomask 此次合作结合NIL系统......
）技术实现了目前最先进的半导体工艺，使该设备的前景成为行业争论的话题。 佳能半导体设备业务部长Iwamoto Kazunori在解释纳米压印技术时表示，纳米压印技术就是把刻有半导体电路图的掩模压印......
止向中国客户出口EUV系统以及先进的浸没式DUV系统。 这也意味着中国想要突破到5nm，甚至更尖端的制程工艺将会面临极大的困难。 绕过EUV，佳能纳米压印技术可量产5nm 今年10月中旬，佳能......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道，佳能表示，首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备，不过这将用于试运行。 报道称，这些新设备的工作原理是在晶圆上压印......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 随着......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术实现了目前最先进的半导体工艺......
比例约5.00%。 图片来源：企查查资料截图 据官网介绍，天仁微纳成立于2015年，是一家纳米压印设备和解决方案提供商，产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移;佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 （FPA-1200NZ2C......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺......
10年内激增至4倍。建设新工厂后，2个基地的总产能将增至约2倍。 此外，佳能还在考虑在该工厂生产下一代设备，利用被称为“纳米压印”（nano-imprint）的技术，开发......
曙光白配色，采用无量象限ID设计，延续了曙光基因，黑白构成设计美学，搭配幻彩RGB LOGO，RGB贯穿式曙光灯环，自带光芒，又酷又闪，出场即焦点。金属A壳，电泳工艺，纳米压印，在质......
除了这张路线图，为什么会这样？ 制程工艺发展路线及潜在技术[18] 纳米压印是一种采用传统机械模具微复型原理的光刻技术。简单来说，就是大力出奇迹，就像盖章一样，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上，再将......
和机械精度提出了极高要求，所以价格昂贵。 纳米压印替代的是光刻环节，只有光刻的步骤被纳米压抑技术代替，其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积这些标准的芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的接入现有产业，不用推翻重来。未来......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移; 宣布推出FPA-1200NZ2C设备，该设备执行电路图案转移。自日本(Canon)官网获悉，10月13日，宣布推出FPA-1200NZ2C设备......
帧数高达131！升级版独显直连2.0，雷电4与HDMI接口均支持独显模式。 颜值爆表 质感曙光白 机械师曙光16Pro 4060满血版本，在颜值上也做了非常大的突破，A壳采用高强度铝镁合金，通过阳极电泳工艺......
应用领域十分局限。嵌入式纳米印刷就是为了解决上述问题应运而生的一次原理级创新。该工艺先通过纳米压印制作出预设图案的沟槽，然后将材料直接填入沟槽中， 形成嵌入式图案。这种工艺利用了纳米压印的高分辨率的优点，以精......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
），这是一种对温度或光的变化敏感的材料。 3. 模板被压在光刻胶上。根据光刻胶的类型，它可以被热量软化或使用紫外线凝固来呈现图案。 4. 压印之后拿走模板，留下所需的图案。 5. 使用蚀刻等其他工艺......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
务与炬光科技上游激光光学元器件 （调控光子）业务类型较为相似，此次并购属于同行业并购，且炬光科技与SMO在生产工艺、市场、客户等方面存在协同效应。炬光科技将立即对SUSS MicroOptics SA......
资5亿元。 海门开发区微平台消息称，半影光学（南京）有限公司主要致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务，该公司生产的光掩模产品在技术上突破了传统纳米压印......
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。 佳能......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实方案;研究人员基于超薄纳米压印超构透镜阵列开发出一种透视增强现实（AR）原型，开创了一种全彩、视频速率和低成本的3D近眼显示方案。 据麦姆斯咨询介绍，集成......
纳米压印（NIL）半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。随着模具技术改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。 13日当日，美迪凯、晶方......
三星电子开发出透光率达 88% 的 EUV 薄膜;光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在......
三星电子开发出透光率达 88% 的 EUV 薄膜;光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在......
还与新思科技（Synopsys）合作，在光掩膜上从传统的电路设计转向曲线图案。这一转变有望提高电路压印在晶片上的精度，这对进一步完善工艺技术至关重要。 ......
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL) 的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能......
点是产能低，效率低，无法大规模量产芯片，只能实验室用，但也不失为一条新的路。 第二条路是纳米压印，也称NIL技术。原理是电路图设计出来后，刻在纳米板上，再像印书一样压印在硅片上。 这种的优点非常多，比如......
制造技术赋能百业——纳米压印技术平台的价值》。他介绍了纳米压印技术的产业化历程，突出其技术优势和应用拓展情况。同时，罗博士重点探讨了纳米压印技术平台的价值，以及新维度公司在该模式的布局情况。他指出，纳米压印......
无锡建设半导体刻蚀设备研发制造基地。 根据报道，此次吉佳蓝与无锡高新区、市产业集团签约合作在锡落户中国总部项目，将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一......
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。 KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
硅晶圆的微缩化制程发展，但复杂的工艺和高昂的成本使微缩化的发展接近于极限。在这种情况下，作为进一步提高性能的方法，新一代封装技术正在引起人们的关注。 其方法就是将具有不同功能的多个芯片，如CPU和存储器等，高密......
反转和往返移动传-感器来合成数据  弥补激光的死角，防止错误测量。 原理及功能特点 激光三角成像法，生成带3D数据的彩色点云图，检测字符焊道深度；采用高亮窄带激光，高精度深度检测，如VIN码品质检测，划刻，压印......
不用EUV也能直上5纳米，铠侠与合作伙伴开发中有意率先导入;在半导体工艺技术进入10纳米节点之后，EUV光刻设备是工艺中不可或缺的步骤。不过，因为EUV光刻设备每台价格高达1.5亿美元，而且......
，在历史中胜出  为什么EUV光刻这么被大家所关注？对一颗芯片来说，光刻是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本30%以上，占据将近50%的生产周期。不止如此，卡中......
制作 micro2440开机Logo for Linux;第一步需要我们做的是完善Linux的LCD驱动，这部分网上的资料很多，而且可以参考友善的手册，这里就不再赘述了。 下面......
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富士康：现在的夏普LOGO好丑 必须改;几经波折之后富士康还是如愿拿下了日本液晶大厂夏普的66%股权，成为其最大股东。“新官上任三把火”的富士康也希望夏普能够在自己手中发生一些新变化，首先......
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