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盛美上海进军涂胶/显影Track市场 首台ArF型号将于Q4交付(2022-11-18)
盛美上海进军涂胶/显影Track市场 首台ArF型号将于Q4交付;11月18日，盛美上海宣布推出涂胶显影Track设备，标志着该公司已正式进军涂胶显影Track市场，这也是该公司提升其在清洗、涂胶和显影......
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化(2021-03-11)
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化;加速12英寸涂胶显影设备量产进度
据《国际电子商情》了解，众鸿是在半导体集成电路设备制造领域涉猎设备再制造、软硬件优化产能提升、核心配件维修等服务，其核心产品是专用光阻涂胶显影......
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机(2022-12-29)
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机;近日，盛美上海宣布首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影......
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用(2021-01-08)
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能......
芯源微拟定增募资10亿元 用于半导体设备扩产升级(2021-06-15)
用于研发与生产前道ArF光刻工艺涂胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高端半导体专用设备。
高端晶圆处理设备产业化项目（二期）位于辽宁省沈阳市浑南区。本项目预 计建设期为30个月......
众鸿半导体项目签约上海临港产业区(2021-03-11)
众鸿半导体项目签约上海临港产业区;上海临港产业区消息显示，3月10日，众鸿半导体项目签约仪式在临港产业区举办，该项目正式签约入驻临港产业区。
众鸿半导体项目主要进行光刻工艺的主设备——涂胶显影......
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科(2022-06-14)
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科;6月11日，沈阳芯源微电子设备股份有限公司（以下简称“芯源微”）宣布，公司12寸KrF涂胶显影设备已于10日入驻厦门士兰集科。搬入仪式完成后，公司......
这家A股厂商实现重要突破，国内半导体设备领域佳音频传(2023-05-22)
科技新增订单42.19亿元，同比增长30.62%，其12英寸炉管设备正在研发制造，即将进入客户验证阶段；8英寸涂胶显影设备已交付客户验证，12英寸涂胶显影设备尚处在专利检索及技术评估阶段。
盛美......
盛美上海：预计2023年全年营业收入36.5亿元-42.5亿元(2023-01-04)
了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在未来几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。
盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利......
多家A股厂商订单量大增，国产半导体设备进入成长期(2023-04-12)
半导体制程设备新增订单18.00亿元，同比增长60.71%。
据介绍，2022年，至纯科技研发拓展炉管和涂胶显影设备。其8英寸炉管设备已有数台订单，12英寸炉管设备正在研发制造，即将......
总投资10亿元 思普尔科技项目落户扬州高新区(2021-03-24)
晶圆芯片实验线项目正式签约落户扬州高新区。
图片来源：扬州高新区
项目分三期实施，一期新建半导体设备研发中心、设备制造中心、设备工艺性能测试中心和一条6英寸晶圆芯片试验线，主要从事半导体高温氧化设备、全自动清洗干燥设备、涂胶显影......
北方华创、拓荆科技、芯源微中标上海积塔项目， 国内半导体设备市场持续升温(2022-05-12)
氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备；芯源微中标1台聚合物涂胶显影机；阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。
官方信息显示，上海积塔半导体此次是为特色工艺生产线项目招标。该项目2017年签约落户上海临港，2018年8月开......
半导体设备高光时刻来临，景气度有望拉满第三年(2022-10-08)
旬推出了新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备，业界对此较为关注。
而在涂胶显影设备上，芯源微是国内主要供应商，该公司前道涂胶显影设备在28nm及以......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
芯源微企业发展有限公司成立于2021年，是芯源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，
2022年，上海芯源微承担建设的“芯源......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，
2022年，上海芯源微承担建设的“芯源微临港研发及产业化”项目......
半导体下游行业设备需求增加，盛美上海Q1净利润同比增长2937.19%(2023-04-28)
户拓展、新市场开发取得显著成效、新产品得到客户认可，订单量持续增长，公司营收保持高增长。
盛美上海主要从事单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影......
工业大盘点的风吹到了半导体设备(2024-02-06)
理、薄膜沉积上近几年国产化突破明显，而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备上，仍较为薄弱。值得注意的是，上述提及的企业正是在经历了2020至2022年的两年设备短缺潮后，接单能力有了明显提高，业绩......
总投资20亿元,嘉兴斯达项目即将投产(2024-03-07)
研发及产业化项目建设地点位于嘉兴南湖区，总投资20亿元，总用地面积279亩，新增建筑面积20.6万平方米，新建生产厂房、动力楼、危化仓库等建构筑物，购置包括光刻机、涂胶显影机等工艺设备。建设单位为嘉兴斯达微电子有限公司，建设......
富创精密成功登上科创板 募资总额为36.58亿元(2022-10-11)
全球为数不多的可以量产应用于7nm工艺制程半导体设备的精密零部件制造商。
产品方面，富创精密主要产品应用于半导体设备覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等核心环节，部分......
盛美上海进军PECVD市场，首台PECVD设备将于几周内交付(2022-12-13)
着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。我们有很多客户是28纳米及以上的逻辑器件供应商。我们预测到了成熟工艺节点产能的增加，因为中国市场的成熟工艺节点产能明显供不应求。”王坚预测，这次推出的PECVD设备，及上个月发布的前道涂胶显影......
容大感光：已购买i线投影步进式曝光机，用于i线光刻胶的研发与生产检测(2023-04-12)
建立了完备的光刻胶研发与应用测试平台，其中主要测试设备包括光刻机、涂胶显影一体机、扫描电子显微镜、膜厚仪、台阶仪、液体颗粒仪、痕量金属杂质测试仪器、色谱仪、紫外-可见分光仪、水分仪、粘度计、固含测试仪器等。
容大......
75亿，年产48万片SiC！芯粤能碳化硅项目通过审查(2023-01-17)
调度厂房、研发厂房、综合动力站、综合仓库、硅烷站、化学品库、废水处理站、危险品库、大宗气站等，主要设备包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、烘箱、高温氧化炉管、高温激活炉管、清洗机、冷水机组、纯水制备系统、燃气......
客户涵盖ASML/中微公司等厂商，富创精密科创板IPO首发过会(2022-05-06)
精密专注于金属材料零部件精密制造技术，掌握了可满足严苛标准的精密机械制造、表面处理特种工艺、焊接、组装、检测等多种制造工艺，主要产品应用于半导体设备领域，覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影......
南大光电光刻胶项目延期(2022-03-31)
液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
打造新兴产业“联合舰队”，沈阳集成电路装备产业驶入快车道(2022-05-24)
产业的三大重点地区之一，在近20年来，沈阳推动产业自主发展，集聚和培育出了一批优势骨干企业，在薄膜沉积、涂胶显影、湿法刻蚀、清洗机等整机装备和罗茨干泵、真空......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影......
“一枝独秀”，国内半导体设备领域佳音频传(2023-04-23)
储备的产品目前正处于研发、认证以及拓展的过程中。
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芯米半导体：首台幻影12英寸光刻工艺涂胶显影设备XM300交付客户
4月8日，芯米（厦门）半导体设备有限公司（以下简称“芯米半导体”）首台......
今日起，日本半导体出口管制正式生效！(2023-07-24)
将对象限定在尖端半导体相关领域，因此“影响有限”。
据了解，日本此次实施的“禁令”主要涉及六大类23种高性能半导体制造设备出口管制：
1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影......
1.8亿！四家国产半导体设备商成立合资公司(2024-01-04)
产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。目前公司研发的SAPS、TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术，可应用于45nm及以......
半导体不景气？不慌，先拿下那台设备(2022-07-11)
名分别为湿法清洗设备（81台）、刻蚀设备（70台）、薄膜沉积设备（47台）、炉管（45台）、涂胶显影设备（35台）。中标较多的前五名大陆厂商为北方华创、中微公司、拓荆科技、芯源微、盛美上海。
综合......
斯达半导揭晓募资35亿元定增结果！(2021-11-16)
光刻机、涂胶显影机、铝刻蚀机、高温注入机等设备，开展SiC芯片的研发和产业化。项目达产后，预计将形成年产6万片6英寸SiC芯片生产能力。该项目实施主体为公司全资子公司嘉兴斯达微电子有限公司。
功率......
日本宣布限制23种半导体设备出口：7月23日正式生效！(2023-05-24)
性能半导体制造设备出口管制：
1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备
2、刻蚀（3项）：包含湿法/干法/各向异性的高端刻蚀
3、薄膜（11项......
芯源微高端晶圆处理设备产业化项目封顶，年底前投入使用(2021-05-08)
筑面积76728平方米，一期建筑面积47012平方米。项目主要用于生产高端晶圆处理设备，包括前道涂胶/显影机及前道单片式清洗机等。项目将打造东北地区顶级的半导体专用设备研发与生产基地，全部达产后将带动就业2000人......
积塔半导体临港厂区3月份生产超目标完成，维持98%以上产能正常运转(2022-04-22)
金属等离子刻蚀机、多晶硅刻蚀机、ArF 匀胶显影机、KrF 匀胶显影机、PCM 探针台、背面金属溅射设备等。
值得一提的是，积塔半导体在此前的产线建设过程中，与多......
日本将对半导体量子相关4品类等实施出口管制(2024-04-29)
光刻/曝光领域的有 4 项，即先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备；涉及刻蚀领域的有 3 项，分别是湿法/干法/各向异性的高端刻蚀；涉及清洗领域的有 3 项：即铜氧化膜、干燥......
美光公布技术路线图；盛美上海再签大单；NAND Flash wafer价格跌幅预测(2022-05-16)
设备、清洗设备、离子注入机、抛光设备、涂胶显影设备是国产化集中领域...详情请点击
NAND Flash wafer价格预测
据TrendForce集邦咨询研究显示，在价格反应较为敏感的NAND......
半导体设备厂商富创精密，冲刺科创板IPO(2021-12-13)
主要产品应用的半导体设备覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等核心环节。
除半导体设备外，富创精密产品也应用于制造显示面板、光伏产品的泛半导体设备及其他领域。报告期内，按产......
盛美半导体用于晶圆级封装的湿法去胶设备获IDM大厂重复订单(2021-11-08)
半导体的产品可完全覆盖WLP生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备，以及先进电镀设备。用于WLP的设备已获得国内本土厂商的广泛认可，这两......
盛美上海推出新型化合物半导体系列设备加强湿法工艺产品线(2022-01-27)
) 和碳化硅 (SiC) 等工艺。化合物半导体湿法工艺产品线包括涂胶设备、显影设备、光阻去胶设备、湿法蚀刻设备、清洗设备和金属电镀设备，并自动兼容平边或缺口晶圆。
盛美上海董事长王晖表示，随着......
购买ASML光刻机，晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目(2021-08-13)
光刻机设备、购置ArF光刻机配套设备、建设研发大楼。
晶瑞电材表示，该项目已完成ASML光刻机、匀胶显影机、扫描电镜、台阶仪等研发设备购置，其他研发设备正在积极购置当中。最终......
线边缘粗糙度(LER)如何影响先进节点上半导体的性能(2023-06-12)
泛林集团的干膜光刻胶技术）也可能有助于在较低的EUV曝光量下降低线边缘粗糙度。 在先进节点上，需要合适的金属线材料选择、关键尺寸优化和光刻胶显影改进来减小线边缘粗糙度，进而减少由于电子表面散射引起的线电阻升高。未来......
中国半导体该如何崛起？材料/设备/软件国产化才是重点！(2020-06-19)
抛光、清洗、检测、外延等；第二个阶段是芯片制造、封测，即从整块晶圆到单颗芯片的过程。
这两个阶段涉及多种设备，如单晶炉、氧化炉、PVD/CVD、光刻机、涂胶显影机、检测设备、清洗设备、干法刻蚀机、湿制......
2023年最新国产半导体设备厂商名录(2023-02-21)
设备在刻蚀、薄膜沉积、清洗、涂胶显影等大部分都可以进行替代。特别是检测设备替代速度较快。去胶设备国产采用率已达91%
尽管国内半导体设备基本摆脱完全受制于人的局面，但国内设备厂商目前仍然只是“点”的突破，尚未......
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？(2023-04-11)
刻工艺必然也离不开光刻机、光源、光刻胶等关键设备和材料的跟进。
半导体光刻工艺需要经历硅片表面脱水烘烤、旋转涂胶、软烘、曝光、曝光后烘烤、显影、坚膜烘烤、显影检查等工序。而在光刻过程中，光刻......
华为禁令起效，手机经销商却疯狂“恰”烂钱(2020-09-15)
-5000道工序。在半导体芯片制造领域，我国的国产化程度还相对较低。当前，我国在单晶炉、氧化炉、PVD、清洗设备、刻蚀设备、CMP设备、镀膜、热处理等设备的国内自给率大致达到了≥10%。而像光刻机、涂胶显影......
晶瑞电材：高端KrF（248）光刻胶已完成中试，公司已到5台光刻机(2021-12-17)
胶量产化生产线正在积极建设中。公司高端KrF（248）光刻胶已完成中试，建成了中试示范线，已进入客户测试阶段。
据悉，目前晶瑞电材ArF（193）高端光刻胶研发工作已正式启动，已完成光刻机、匀胶显影机、扫描......
汽车工业中涂胶设备的基础功能介绍(2023-01-30)
汽车工业中涂胶设备的基础功能介绍;
程序
程序包含了涂胶操作所必需的过程参数。在启动涂胶循环之前，上级控制装置选择程序，为涂胶循环确定常规过程参数。在涂胶循环期间不可更换或更改程序。当前涂胶......
供应链安全风险犹在，元器件分销商有何良策？(2022-07-08)
等领域发力，逐步实现从成长到引领的跨越。制造环节，以中芯国际、华虹半导体为代表的本土晶圆代工厂也不断取得技术和工艺上的突破。设备环节，刻蚀、PVD、热处理等均已实现20%以上的国产化率，涂胶显影......
紧跟半导体行业风向：巨头逆势扩产，“寒假”即将结束？(2023-10-08)
体设备或将成为本土化焦点
全球半导体设备基本由美日荷三国垄断，目前国产半导体设备厂商在刻蚀、沉积、热处理、清洗、涂胶显影、量测、CMP、离子注入以及测试机、分选机、探针......
多家品牌厂商齐聚一堂,为102届中国电子展打CALL(2023-10-09)
球客户提供高端半导体设备。主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。盛美上海坚持差异化竞争和创新的发展战略，通过......
相关企业
及菲律宾等地区。 主要产品包括有：晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动
;花果山涂胶机制品厂(业务部);;我司专业生产各种规格的手动涂胶机，且已获得国家专利。生产的涂胶机轻捷小巧，省胶省时省力，公司成立几年来，与各方客户建立了良好的业务往来。主营：手动涂胶机;
;烟台雷泰涂胶技术公司;;涂胶技术与生产设备
;慈溪市天豪点胶设备科技有限公司;;天豪科技 天豪点胶--慈溪市天豪电子科技有限公司是一家专业从事自动化点涂胶设备的生产商和服务商，公司前身是东莞市天豪自动化设备有限公司。自主研发的多轴点涂胶
;慈溪市天豪电子科技有限公司市场部;;天豪科技 天豪点胶---慈溪市天豪电子科技有限公司是一家专业从事自动化点涂胶设备的生产商和服务商，公司前身是东莞市天豪自动化设备有限公司。自主研发的多轴点涂胶
;慈溪市天豪科技有限公司;;天豪科技 天豪点胶---慈溪市天豪电子科技有限公司是一家专业从事自动化点涂胶设备的生产商和服务商，公司前身是东莞市天豪自动化设备有限公司。自主研发的多轴点涂胶机器人、紧固件螺纹涂胶
;本金机电设备有限公司(机械事业部）;;本金机电设备有限公司(机械事业部）是1200型偏光片大型切片机、除泡机、GJD型灌晶机、多刀玻璃切割机、精密单刀玻璃切割机、涂胶机、摩擦机、湿式喷粉机、散射
;雄县华胜塑料 机械厂;;本机组主要由放卷部分、熔胶部分、涂胶部分、冷却部分、收卷部分、机架等组成；并配有磁粉张力控制系统、全自动纠偏系统、变频调速系统，适合牛皮纸、离型纸、无纺布、化学片等卷材的涂胶
NBR，PU胶轮包胶）。 2.LCD/金属蚀刻涂胶机专用涂胶轮，PR光轮包胶新品，LCD涂布机胶轮新品/包胶。 3.LCD胶轮（涂胶轮包胶新品/刻纹；均胶轮包胶新品；支撑轮包胶新品、PR均胶
;上海承瀚自动化设备有限公司;;成立于1988年5月，专业从事液体定量控制器材及点涂胶设备之研发与其周边自动化机械设备之设计、制造。其内容函盖机械人之应用，弹性制造系统，弹性