技术咨询
代买器件
商务客服
研发客服12月12日，盛美上海宣布推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。
盛美上海首席执行官王坚表示，“Ultra PmaxTM PECVD设备的推出，标志着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。我们有很多客户是28纳米及以上的逻辑器件供应商。我们预测到了成熟工艺节点产能的增加，因为中国市场的成熟工艺节点产能明显供不应求。”王坚预测，这次推出的PECVD设备，及上个月发布的前道涂胶显影设备Ultra Lith，这两个全新的产品系列将使公司全球可服务市场规模翻倍增加。
据介绍，Ultra PmaxTM PECVD设备配置了自主知识产权的腔体、气体分配装置和卡盘设计，能够提供更好的薄膜均匀性，更小的薄膜应力和更少的颗粒特性。该设备采用单腔体模块化设计，有两种配置：一种是可以配置一至三腔体模块，适合极薄膜层或快速工艺步骤；另一种是可以配置四至五腔体模块，在优化产能的同时，支持厚膜沉积以及更长的工艺时间。以上两种配置中，每个腔体都安装有多个加热卡盘，以优化工艺控制并提高产能。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的，且明确注明来源，不希望被转载的媒体或个人可与我们联系，我们将立即进行删除处理。
相关文章
盛美上海进军PECVD市场，首台PECVD设备将于几周内交付(2022-12-13)
盛美上海进军PECVD市场，首台PECVD设备将于几周内交付;12月12日，盛美上海宣布推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展......
半导体设备需求增长 拓荆科技净利1.08亿元，同比扭亏为盈(2022-08-29)
订单持续增长。
报告指出，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备和SACVD设备厂商，也是国内集成电路ALD设备......
产品应用于国内晶圆厂14nm及以上制程产线 拓荆科技叩响科创板大门！(2021-07-13)
，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列，已广......
虚拟传感器的创新助力提升生产力(2022-08-15)
理PECVD/ALD晶圆流特有的配方组、子配方和多次配方迭代。
图2. 泛林PECVD工艺设备与4x4（一次四片晶圆）腔室的不同视图
虚拟传感器的创新
目前，我们......
大基金持股26.48%，这家半导体设备厂商拟冲刺IPO(2021-02-20)
海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。
该公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3D NAND PECVD（三维......
中微半导体投资两家半导体设备厂商(2020-12-29)
户上海临港新片区。
官网介绍称，理想万里晖主营太阳能、泛半导体和半导体高端PECVD装备，系列光伏和AMOLED显示等领域高端PECVD系列产品多次打破国外垄断、填补国内空白。理想万里晖表示将继续致力于前沿高端光伏设备......
1.8亿！四家国产半导体设备商成立合资公司(2024-01-04)
纳米均持股27.7624%，盛美上海持股16.6574%。
资料显示，拓荆科技主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子......
盛美上海：预计2023年全年营业收入36.5亿元-42.5亿元(2023-01-04)
已经交付美国头部客户，调试工作进行顺利。国际销售团队正在积极开拓中国台湾、韩国、欧洲大客户。
盛美上海推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展......
大基金持股26.48%，设备厂商拓荆科技科创板首发过会(2021-11-01)
，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已......
我国两条12英寸产线带来好消息！(2024-11-04)
主研发的高均匀性、大产能，并适用大翘曲硅片的12英寸等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备交付客户。此次推出的Cygnus系列12英寸等离子体增强化学气相沉积设备，主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧......